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91. 发明专利

TW201842420A 基板處理方法及基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理方法及基板处理设备
公开(公告)号：TW201842420A
公开(公告)日：2018-12-01
申请号：TW107127840
申请日：2015-03-27
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：加藤正紀 , KATO, MASAKI , 奈良奎 , NARA, KEI , 鈴木智也 , SUZUKI, TOMONARI , 渡辺智行 , WATANABE, TOMOYUKI , 鬼頭義昭 , KITO, YOSHIAKI , 堀正和 , HORI, MASAKAZU
IPC分类号： G03F7/24 , G03F9/00 , H01L21/68
摘要：基板處理裝置，係以藉由複數個描繪單元之各描繪線在基板上描繪之圖案彼此能隨著基板往長條方向之移動而在基板之寬度方向接合之方式，將複數個描繪單元配置於基板之寬度方向。控制部，預先儲存關於藉由複數個描繪單元之各個形成在基板上之描繪線彼此之位置關係之校準資訊，且根據該校準資訊與從移動測量裝置輸出之移動資訊，調整藉由複數個描繪單元之各個之描繪束形成在基板上之圖案之描繪位置。
简体摘要：基板处理设备，系以借由复数个描绘单元之各描绘线在基板上描绘之图案彼此能随着基板往长条方向之移动而在基板之宽度方向接合之方式，将复数个描绘单元配置于基板之宽度方向。控制部，预先存储关于借由复数个描绘单元之各个形成在基板上之描绘线彼此之位置关系之校准信息，且根据该校准信息与从移动测量设备输出之移动信息，调整借由复数个描绘单元之各个之描绘束形成在基板上之图案之描绘位置。

92. 发明专利

TW201832860A 光束掃描裝置、圖案描繪裝置、及圖案描繪裝置之精度檢查方法审中-公开
简体标题：光束扫描设备、图案描绘设备、及图案描绘设备之精度检查方法
公开(公告)号：TW201832860A
公开(公告)日：2018-09-16
申请号：TW106134121
申请日：2017-10-03
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：加藤正紀 , KATO, MASAKI , 鬼頭義昭 , KITO, YOSHIAKI , 林田洋祐 , HAYASHIDA, YOSUKE
IPC分类号： B23K26/082 , G02B26/10 , G02B26/12
摘要：本發明之曝光裝置(EX)係將加工用光束(LBn)投射至繞旋轉軸(AXp)旋轉之多面鏡(PM)之複數個反射面(RP)之各者，並使被複數個反射面(RP)之各者反射之加工用光束(LBn)透過fθ透鏡系統(FT)於基板(P)上進行掃描。該曝光裝置(EX)具備：原點感測器，係在每當多面鏡(PM)之複數個反射面(RP)之各者成為既定之規定角度時便產生原點訊號(SZn)；及修正部，其產生經修正值修正的修正原點訊號(SZn')，該修正值係相應於對應複數個反射面(RP)之各者而產生之原點訊號(SZn)之時間上間隔之偏差量之修正值。
简体摘要：本发明之曝光设备(EX)系将加工用光束(LBn)投射至绕旋转轴(AXp)旋转之多面镜(PM)之复数个反射面(RP)之各者，并使被复数个反射面(RP)之各者反射之加工用光束(LBn)透过fθ透镜系统(FT)于基板(P)上进行扫描。该曝光设备(EX)具备：原点传感器，系在每当多面镜(PM)之复数个反射面(RP)之各者成为既定之规定角度时便产生原点信号(SZn)；及修正部，其产生经修正值修正的修正原点信号(SZn')，该修正值系相应于对应复数个反射面(RP)之各者而产生之原点信号(SZn)之时间上间隔之偏差量之修正值。

93. 发明专利

TW201827936A 光束掃描裝置及圖案描繪裝置审中-公开
简体标题：光束扫描设备及图案描绘设备
公开(公告)号：TW201827936A
公开(公告)日：2018-08-01
申请号：TW106133272
申请日：2017-09-28
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：加藤正紀 , KATO, MASAKI , 鬼頭義昭 , KITO, YOSHIAKI
IPC分类号： G03F7/20 , G02B26/10
摘要：本發明之描繪單元(Un)具備具有折射能力之fθ透鏡系統(FT)，且以與多面鏡(PM)之反射面(RP)之角度變化相應的掃描速度使點光(SP)進行掃描，該fθ透鏡系統(FT)使經角度可變之多面鏡(PM)之反射面(RP)偏向之加工用光束(LBn)入射，並使加工用光束(LBn)於基板P聚光為點光(SP)。描繪單元(Un)具備：光電轉換元件(DTo)，其接收朝向多面鏡(PM)之反射面(RP)投射之原點檢測用雷射光束(Bga)之反射光束(Bgb)，並輸出表示多面鏡(PM)之反射面(RP)成為既定角度之時間點之原點訊號(SZn)；及透鏡系統(GLb)，其被設定為較fθ透鏡系統(FT)之折射能力低之折射能力，且使反射光束(Bgb)於光電轉換元件(DTo)聚光為點光(SPr)。
简体摘要：本发明之描绘单元(Un)具备具有折射能力之fθ透镜系统(FT)，且以与多面镜(PM)之反射面(RP)之角度变化相应的扫描速度使点光(SP)进行扫描，该fθ透镜系统(FT)使经角度可变之多面镜(PM)之反射面(RP)偏向之加工用光束(LBn)入射，并使加工用光束(LBn)于基板P聚光为点光(SP)。描绘单元(Un)具备：光电转换组件(DTo)，其接收朝向多面镜(PM)之反射面(RP)投射之原点检测用激光光束(Bga)之反射光束(Bgb)，并输出表示多面镜(PM)之反射面(RP)成为既定角度之时间点之原点信号(SZn)；及透镜系统(GLb)，其被设置为较fθ透镜系统(FT)之折射能力低之折射能力，且使反射光束(Bgb)于光电转换组件(DTo)聚光为点光(SPr)。

94. 发明专利

TW201827887A 光束掃描裝置及圖案描繪裝置审中-公开
简体标题：光束扫描设备及图案描绘设备
公开(公告)号：TW201827887A
公开(公告)日：2018-08-01
申请号：TW106134123
申请日：2017-10-03
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：加藤正紀 , KATO, MASAKI , 鬼頭義昭 , KITO, YOSHIAKI
IPC分类号： G02B26/10 , G02B26/12
摘要：本發明之描繪單元(Un)具備使經角度可變之多面鏡(PM)之反射面(RP)偏向之加工用光束(LBn)入射，並使加工用光束(LBn)於基板(P)聚光為點光(SP)之fθ透鏡系統(FT)，且根據多面鏡(PM)之反射面(RP)之角度變化而使點光(SP)進行掃描。描繪單元(Un)具備：光束送光部(60a)，其將用以檢測多面鏡(PM)之反射面(RP)成為既定角度之原點之光束(Bga)投射至多面鏡(PM)之反射面(RP)；反射鏡(MRa)，其使於反射面(RP)反射之光束(Bgb)入射，並反射向反射面(RP)；及檢測部(60b)，其基於在反射面(RP)再次反射之光束(Bgd)輸出原點訊號(SZn)。
简体摘要：本发明之描绘单元(Un)具备使经角度可变之多面镜(PM)之反射面(RP)偏向之加工用光束(LBn)入射，并使加工用光束(LBn)于基板(P)聚光为点光(SP)之fθ透镜系统(FT)，且根据多面镜(PM)之反射面(RP)之角度变化而使点光(SP)进行扫描。描绘单元(Un)具备：光束送光部(60a)，其将用以检测多面镜(PM)之反射面(RP)成为既定角度之原点之光束(Bga)投射至多面镜(PM)之反射面(RP)；反射镜(MRa)，其使于反射面(RP)反射之光束(Bgb)入射，并反射向反射面(RP)；及检测部(60b)，其基于在反射面(RP)再次反射之光束(Bgd)输出原点信号(SZn)。

95. 发明专利

TWI626515B 基板處理裝置、處理裝置及元件製造方法有权
简体标题：基板处理设备、处理设备及组件制造方法
公开(公告)号：TWI626515B
公开(公告)日：2018-06-11
申请号：TW106116099
申请日：2013-03-08
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：加藤正紀 , KATO, MASAKI , 木內徹 , KIUCHI, TOHRU
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027

96. 发明专利

TW201819986A 光束掃描裝置及光束掃描方法审中-公开
简体标题：光束扫描设备及光束扫描方法
公开(公告)号：TW201819986A
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：TW107105593
申请日：2015-04-28
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：加藤正紀 , KATO, MASAKI
IPC分类号： G02B26/10 , G03F7/20 , B23K26/082
摘要：圖案描繪裝置，係藉由雷射光之掃描點在被照射體上描繪既定圖案，其特徵在於，具備：光源裝置，射出該雷射光；複數個描繪單元，為了使該雷射光射入而產生該掃描點，包含使該雷射光掃描之光掃描構件與光學透鏡系，設置成使該掃描點在該被照射體上之不同區域掃描；以及複數個選擇用光學元件，為了切換是否使來自該光源裝置之該雷射光射入該複數個描繪單元中已選擇之該描繪單元，沿著來自該光源裝置之該雷射光之行進方向直列配置。
简体摘要：图案描绘设备，系借由激光光之扫描点在被照射体上描绘既定图案，其特征在于，具备：光源设备，射出该激光光；复数个描绘单元，为了使该激光光射入而产生该扫描点，包含使该激光光扫描之光扫描构件与光学透镜系，设置成使该扫描点在该被照射体上之不同区域扫描；以及复数个选择用光学组件，为了切换是否使来自该光源设备之该激光光射入该复数个描绘单元中已选择之该描绘单元，沿着来自该光源设备之该激光光之行进方向直列配置。

97. 发明专利

TWI624689B 圖案描繪裝置有权
简体标题：图案描绘设备
公开(公告)号：TWI624689B
公开(公告)日：2018-05-21
申请号：TW104113456
申请日：2015-04-28
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：加藤正紀 , KATO, MASAKI
IPC分类号： G02B26/10 , G03F7/20 , B23K26/082

98. 发明专利

TWI624001B 基板支承裝置有权
简体标题：基板支承设备
公开(公告)号：TWI624001B
公开(公告)日：2018-05-11
申请号：TW106108716
申请日：2013-04-12
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：加藤正紀 , KATO, MASAKI , 鬼頭義昭 , KITO, YOSHIAKI , 堀正和 , HORI, MASAKAZU , 木內徹 , KIUCHI, TOHRU
IPC分类号： H01L21/683 , H01L27/12 , G03F7/20

99. 发明专利

TW201809916A 曝光方法审中-公开
公开(公告)号：TW201809916A
公开(公告)日：2018-03-16
申请号：TW106133163
申请日：2014-06-06
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：加藤正紀 , KATO, MASAKI
IPC分类号： G03F7/24
CPC分类号： G03F7/24
摘要：提供能以高生產性生產高品質之基板之基板處理裝置及元件製造方法。基板處理裝置及元件製造方法，具備：第1支承構件，係以在照明區域與投影區域中之一方區域中沿著以既定曲率彎曲成圓筒面狀之第1面之方式支承光罩與基板中之一方；第2支承構件，係以在照明區域與投影區域中之另一方區域中沿著既定之第2面之方式支承光罩與基板中之另一方；以及移動機構，使第1支承構件旋轉，使該第1支承構件所支承之光罩與基板中之任一方移動於掃描曝光方向。投影光學系，係在基板之曝光面，將於掃描曝光方向包含兩處最佳聚焦位置之光束投射於投影區域。
简体摘要：提供能以高生产性生产高品质之基板之基板处理设备及组件制造方法。基板处理设备及组件制造方法，具备：第1支承构件，系以在照明区域与投影区域中之一方区域中沿着以既定曲率弯曲成圆筒面状之第1面之方式支承光罩与基板中之一方；第2支承构件，系以在照明区域与投影区域中之另一方区域中沿着既定之第2面之方式支承光罩与基板中之另一方；以及移动机构，使第1支承构件旋转，使该第1支承构件所支承之光罩与基板中之任一方移动于扫描曝光方向。投影光学系，系在基板之曝光面，将于扫描曝光方向包含两处最佳聚焦位置之光束投射于投影区域。

100. 发明专利

TW201809909A 圓筒光罩审中-公开
简体标题：圆筒光罩
公开(公告)号：TW201809909A
公开(公告)日：2018-03-16
申请号：TW106134178
申请日：2014-04-07
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：加藤正紀 , KATO, MASAKI
IPC分类号： G03F7/20 , G03F1/42
CPC分类号： G03F7/24
摘要：提供一種能以高生產性生產高品質基板之基板處理裝置、元件製造方法及光罩。本發明之基板處理裝置，具備於該照明區域以沿著以既定曲率彎曲成圓筒面狀之第1面之方式支承該光罩之圖案的光罩支承構件、於該投影區域以沿著既定第2面之方式支承該基板的基板支承構件、以及以該光罩之圖案移動於既定掃描曝光方向之方式使該光罩支承構件旋轉且以該基板移動於該掃描曝光方向之方式使該基板支承構件移動的驅動機構，該光罩支承構件，在設該第1面之直徑為φ、該第1面在與該掃描曝光方向正交之方向之長度為L時，滿足1.3≦L/φ≦3.8。
简体摘要：提供一种能以高生产性生产高品质基板之基板处理设备、组件制造方法及光罩。本发明之基板处理设备，具备于该照明区域以沿着以既定曲率弯曲成圆筒面状之第1面之方式支承该光罩之图案的光罩支承构件、于该投影区域以沿着既定第2面之方式支承该基板的基板支承构件、以及以该光罩之图案移动于既定扫描曝光方向之方式使该光罩支承构件旋转且以该基板移动于该扫描曝光方向之方式使该基板支承构件移动的驱动机构，该光罩支承构件，在设该第1面之直径为φ、该第1面在与该扫描曝光方向正交之方向之长度为L时，满足1.3≦L/φ≦3.8。

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