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1. 发明授权

KR102247859B1 하이드록시 옥심의 제조 방법 有权
公开(公告)号：KR102247859B1
公开(公告)日：2021-05-04
申请号：KR1020200184347
申请日：2020-12-28
申请人： 한국광물자원공사
发明人： 이광섭 , 이준섭 , 장석구 , 김영란
IPC分类号： C07C249/08 , C07C251/38
摘要： 본발명은하이드록시옥심의제조방법에관한것으로, 보다구체적으로각 공정단계별수율을향상시키고, 추출제로서상기하이드록시옥심의금속추출능을저하시키는케톡심부산물의발생을줄이는것이가능한하이드록시옥심의제조방법에관한것이다.

3. 发明公开

KR1020080104287A 광중합 개시제, 감광성 조성물, 감광성 필름, 감광성 적층체, 영구 패턴 형성 방법, 및 프린트 기판 有权
标题翻译：光聚合引发剂，光敏组合物，感光膜，感光层压板，形成永久性图案和印刷板的方法
公开(公告)号：KR1020080104287A
公开(公告)日：2008-12-02
申请号：KR1020087021334
申请日：2006-11-24
申请人： 후지필름 가부시키가이샤
发明人： 타무라타카시 , 후지타아키노리 , 이케다키미
IPC分类号： C07C251/38 , C08F2/50 , G03F7/031
CPC分类号： C08F2/50 , G03F7/0007 , G03F7/031
摘要： A photopolymerization initiator that for permitting responding to laser exposure, realizes an enhancement of sensitivity of photosensitive composition and maintaining of favorable resolution, storage stability, surface hardness and dielectric performance with respect to the composition; employing the photopolymerization initiator, a photosensitive composition, photosensitive film and photosensitive laminate; a method of forming superfine permanent pattern (protective film, interlayer insulating film and solder resist patterns, etc.) with the use of the photosensitive laminate; and a printed board having a pattern formed by the above method of forming permanent pattern. There is provided a photopolymerization initiator being an oxime ester compound having a specified unsaturated group. Further, there are provided, containing the photopolymerization initiator, a photosensitive composition, photosensitive film and photosensitive laminate. Still further, there are provided a method of forming permanent pattern with the use of the photosensitive laminate; and a printed board having a pattern formed by the above method of forming permanent pattern. ® KIPO & WIPO 2009
摘要翻译：用于允许响应于激光曝光的光聚合引发剂实现了光敏组合物的灵敏度的提高，并保持了相对于组合物的良好的分辨率，储存稳定性，表面硬度和介电性能; 使用光聚合引发剂，感光性组合物，感光性膜和感光性层叠体; 使用感光层压体形成超细永久图案（保护膜，层间绝缘膜和阻焊图案等）的方法; 以及具有通过上述形成永久图案的方法形成的图案的印刷电路板。提供了具有特定的不饱和基团的肟酯化合物的光聚合引发剂。此外，提供了含有光聚合引发剂，感光性组合物，感光性膜和感光性层叠体。另外，提供了一种通过使用感光层压体形成永久图案的方法; 以及具有通过上述形成永久图案的方法形成的图案的印刷电路板。 ®KIPO＆WIPO 2009

4. 发明公开

KR1020170142035A 헥사메틸프로필렌아민옥심의 신규 제조 방법 및 이의 중간체 审中-实审
标题翻译：制备六甲基丙胺肟及其中间体的方法
公开(公告)号：KR1020170142035A
公开(公告)日：2017-12-27
申请号：KR1020160075232
申请日：2016-06-16
申请人： (주) 에프엔지리서치
发明人： 구영삼 , 윤도배
IPC分类号： C07C251/38 , C07C249/04 , C07B51/00
CPC分类号： C07C251/38 , C07B51/00 , C07C249/04
摘要： 본발명은하기화학식 10a의화합물과하기화학식 9의 2,2-디메틸프로판-1,3-디아민을반응시켜하기화학식 8a의화합물을제조하는단계; 상기화학식 8a의화합물과아민기보호기를반응시켜하기화학식 7a의화합물을제조하는단계; 상기화학식 7a의화합물의카르복실보호기를탈보호하여화학식 6a의화합물을제조하는단계; 상기화학식 6a의화합물과화학식 5의화합물을반응시켜하기화학식 4a의화합물을제조하는단계; 하기화학식 4a의화합물과메틸마그네슘할라이드(CHMgX) 또는메틸리튬(CHLi)을반응시켜하기화학식 3a의화합물을합성하는단계; 상기화학식 3a의화합물과하이드록실아민(NHOH)을반응시켜하기화학식 2a의화합물을합성하는단계; 및상기화학식 2a의화합물의아민보호기를제거하여화학식 1a의-HMPAO를합성하는단계를포함하여이루어지는, 헥사메틸프로필렌아민옥심(HMPAO)의제조방법을제공한다. 또한, 거울상이성질체를이용하여상기와동일한방법으로-HMPAO 또는-HMPAO 라세미체가제조될수 있다.(상기식들에서, R은아민보호기, R및 R은각각 C~C의 1차, 2차또는 3차알킬, R는카르복실보호기이다.)
摘要翻译：本发明涉及通过使下式（10a）的化合物与式（9）的2,2-二甲基丙烷-1,3-二胺反应来制备下式（8a）的化合物的方法，使式（8a）化合物与胺基保护基反应以制备式（7a）化合物; 使式（7a）化合物的羧基保护基脱保护，生成式（6a）化合物; 使式6a的化合物与式5的化合物反应以制备式4a的化合物; 使式（4a）化合物与甲基卤化镁（CHMgX）或甲基锂（CHLi）反应以合成式（3a）化合物; 使式（3a）化合物与羟胺（NHOH）反应以合成式（2a）化合物; 除去式（2a）化合物的胺保护基，合成式（1a）的-HMPAO。在上式中，R是氨基保护基团，R和R分别是C1-C伯胺，仲胺或叔胺，分别按照与上述相同的方式使用对映体。叔烷基，R是羧基保护基。）

5. 发明公开

KR1020170001722A 1-(2-데옥시-2-플루오로-4-티오-β-D-아라비노푸라노실)시토신의 합성 중간체, 티오뉴클레오시드의 합성 중간체, 및 그들의 제조법 审中-实审
标题翻译： 1-（2-脱氧-2-氟-4-硫代-β与-D-阿拉伯呋喃糖基）的合成中间体的合成中间体的，胞嘧啶的硫代核苷，以及它们的制备
公开(公告)号：KR1020170001722A
公开(公告)日：2017-01-04
申请号：KR1020167036050
申请日：2013-08-13
申请人： 후지필름 가부시키가이샤
发明人： 나카무라코우키 , 시마무라사토시 , 이모토준이치 , 타카하시모토마사 , 와타나베카츠유키 , 와다켄지 , 후지노유우타 , 마츠모토타쿠야 , 타카하시마코토 , 오카다히데키 , 야마네타케히로 , 이토타카유키
IPC分类号： C07D333/32 , A61K31/7068 , C07C251/38 , C07D409/04 , C07D333/30 , C07H15/04 , C07H19/06
CPC分类号： C07D333/32 , A61K31/7068 , C07B53/00 , C07C45/00 , C07C47/277 , C07C67/29 , C07C68/06 , C07C69/28 , C07C69/618 , C07C69/76 , C07C69/78 , C07C69/92 , C07C69/96 , C07C249/04 , C07C251/38 , C07C251/40 , C07C303/28 , C07C309/66 , C07C309/73 , C07F7/1844 , C07H1/00 , C07H7/04 , C07H13/04 , C07H13/08 , C07H15/04 , C07H15/18 , C07H15/203 , C07H17/02 , C07H19/06 , C07H19/067 , C07H19/073 , C07H23/00 , Y02P20/55
摘要： 하기일반식[1D]으로나타내어지는화합물은티오뉴클레오시드를제조하기위한중간체로서유용하며, 본발명의제조법은티오뉴클레오시드의제조법으로서유용하다.[식중, R, R, R, R, R및 R는수소원자, 치환되어도좋은 C알킬기등을나타낸다]
摘要翻译：由式[1D]所示的化合物是作为中间体用于硫代核苷的制备是有用的，本发明的方法是作为制备硫代核苷。[式中，R，R，R，R是有用的， R和R代表一个氢原子，一个可被取代的烷基，如C]

6. 发明授权

KR100158201B1 치환된 옥심 에테르 및 이것을 함유하는 살균제 失效
标题翻译：取代肟醚和含有它们的消毒剂
公开(公告)号：KR100158201B1
公开(公告)日：1999-01-15
申请号：KR1019900003273
申请日：1990-03-09
申请人： 바스프 에스이
发明人： 프란쯔슈츠 , 후베르트자우터 , 알브레흐트하레우스 , 볼프강로르 , 미하엘헤프 , 지크베르트브란트 , 베른트벤데로트 , 기젤라로렌쯔 , 에베르하르트암머만
IPC分类号： C07C251/38 , A01N37/50
CPC分类号： C07C251/38 , A01N37/50
摘要： 내용 없음.

7. 发明公开

KR870011080A 4-할로게노-2-옥시이미노-3-옥소부티르산류의 제조방법 失效
公开(公告)号：KR870011080A
公开(公告)日：1987-12-19
申请号：KR870005048
申请日：1987-05-21
IPC分类号： C07C67/00 , C07C239/00 , C07C249/00 , C07C249/12 , C07C251/00 , C07C251/32 , C07C251/38 , C07F7/18
摘要： 내용없음

8. 发明公开

KR840007579A 신규 니트로 알리파틱화합물의 제조방법 失效
公开(公告)号：KR840007579A
公开(公告)日：1984-12-08
申请号：KR830006225
申请日：1983-12-27
IPC分类号： C07D207/416 , A61K31/00 , A61K31/15 , A61K31/16 , A61K31/215 , A61K31/26 , A61K31/445 , A61K31/495 , A61P7/02 , A61P9/08 , A61P9/12 , C07C43/23 , C07C45/41 , C07C57/03 , C07C205/51 , C07C233/02 , C07C233/09 , C07C233/20 , C07C233/49 , C07C235/28 , C07C249/04 , C07C251/32 , C07C251/38 , C07C251/40 , C07C251/60 , C07C255/10 , C07C255/19 , C07C255/23 , C07C255/64 , C07C291/12 , C07D207/40 , C07D207/404 , C07D295/18 , C07D295/185
摘要： 내용없음.

10. 发明授权

KR101863795B1 헥사메틸프로필렌아민옥심의 신규 제조 방법 및 이의 중간체 有权
公开(公告)号：KR101863795B1
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：KR1020160075232
申请日：2016-06-16
申请人： (주) 에프엔지리서치
发明人： 구영삼 , 윤도배
IPC分类号： C07C251/38 , C07C249/04 , C07B51/00
CPC分类号： Y02P20/55
摘要： 본발명은하기화학식 10a의화합물과하기화학식 9의 2,2-디메틸프로판-1,3-디아민을반응시켜하기화학식 8a의화합물을제조하는단계; 상기화학식 8a의화합물과아민기보호기를반응시켜하기화학식 7a의화합물을제조하는단계; 상기화학식 7a의화합물의카르복실보호기를탈보호하여화학식 6a의화합물을제조하는단계; 상기화학식 6a의화합물과화학식 5의화합물을반응시켜하기화학식 4a의화합물을제조하는단계; 하기화학식 4a의화합물과메틸마그네슘할라이드(CHMgX) 또는메틸리튬(CHLi)을반응시켜하기화학식 3a의화합물을합성하는단계; 상기화학식 3a의화합물과하이드록실아민(NHOH)을반응시켜하기화학식 2a의화합물을합성하는단계; 및상기화학식 2a의화합물의아민보호기를제거하여화학식 1a의-HMPAO를합성하는단계를포함하여이루어지는, 헥사메틸프로필렌아민옥심(HMPAO)의제조방법을제공한다. 또한, 거울상이성질체를이용하여상기와동일한방법으로-HMPAO 또는-HMPAO 라세미체가제조될수 있다.(상기식들에서, R은아민보호기, R및 R은각각 C~C의 1차, 2차또는 3차알킬, R는카르복실보호기이다.)

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