专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明授权

KR102294518B1 금속 질화물 함유 입자, 분산 조성물, 경화성 조성물, 경화막, 및 그들의 제조 방법과 컬러 필터, 고체 촬상 소자, 고체 촬상 장치, 적외선 센서 有权
公开(公告)号：KR102294518B1
公开(公告)日：2021-08-27
申请号：KR1020197007594
申请日：2017-09-05
IPC分类号： C01B21/076 , C08K3/28 , G02B5/20 , H01L27/146
摘要： 우수한침강방지성및 우수한경시안정성을갖는경화성조성물로서, 또한우수한차광성을갖는경화막이얻어지는경화성조성물에이용할수 있는금속질화물함유입자를제공한다. 또, 분산조성물, 경화성조성물, 경화막, 컬러필터, 고체촬상소자, 고체촬상장치, 적외선센서, 금속질화물함유입자의제조방법, 분산조성물의제조방법, 경화성조성물의제조방법및 경화막의제조방법을제공한다. 금속질화물함유입자는, 3~11족의천이금속의질화물을함유하고, 평균 1차입자경이 200nm 이하이며, 질소원자와원자 T를함유하고, 원자 T는산소원자, 염소원자, 및질소원자중 어느것도아니며, 13~17족원소로부터선택되고, X선광전자분광분석에의하여검출되는원자 T의질량기준의함유량을 TE, 형광 X선분석에의하여검출되는원자 T의질량기준의함유량을 TX로했을때, TE/TX

2. 发明公开

KR1020200134686A 홀을 포함하는 2 차원 티타늄 질화물 나노시트, 상기 나노시트 및 금속 층상이중수산화물을 포함하는 하이브리드, 및 상기 하이브리드를 포함하는 전기화학 촉매 有权
公开(公告)号：KR1020200134686A
公开(公告)日：2020-12-02
申请号：KR1020190060493
申请日：2019-05-23
申请人： 이화여자대학교 산학협력단
发明人： 황성주 , 샤라드반두파틸 , 오승미
IPC分类号： C01B21/076 , B01J35/00 , B01J27/24 , B01J23/745 , B01J23/755 , H01M4/90
摘要： 홀(hole)을포함하는 2 차원티타늄질화물나노시트, 상기홀을포함하는 2 차원티타늄질화물나노시트의제조방법, 상기 2 차원티타늄질화물나노시트및 금속층상이중수산화물을포함하는하이브리드, 및상기하이브리드를포함하는전기화학촉매에관한것이다.

3. 发明公开

KR1020170028227A 자기 저항 메모리 소자 및 그 제조 방법 审中-实审
标题翻译：磁阻随机访问装置及其制造方法
公开(公告)号：KR1020170028227A
公开(公告)日：2017-03-13
申请号：KR1020150144644
申请日：2015-10-16
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김용재 , 김우진 , 서기석 , 한신희 , 고관협
IPC分类号： H01L43/02 , H01L43/08 , H01L43/10 , H01L43/12 , C01B21/076
摘要： 자기저항메모리소자는, 기판상에형성된하부전극, 상기하부전극상에구비되는 MTJ 구조물및 상기 MTJ 구조물상에구비되고, 상부전극및 상기상부전극측벽을둘러싸는측벽캡핑패턴을포함하는마스크구조물을포함한다. 상기 MTJ 구조물은하부자성패턴, 터널베리어패턴, 및상부자성패턴을포함한다.

4. 发明授权

KR1019950013068B1 티타늄(Ti) 스폰지를 이용한 질화티타늄 분말의 제조방법 失效
标题翻译：用钛（Ti）海绵制造氮化钛粉末的方法
公开(公告)号：KR1019950013068B1
公开(公告)日：1995-10-24
申请号：KR1019920015370
申请日：1992-08-26
申请人： 김용택
发明人： 김용택
IPC分类号： C01B21/076
摘要： Titanium nitride powder is prepared by (A) charging titanium hydride, which is obtained by its heat of reaction, in the reactor(1) under high pressure nitrogen atmosphere ; (B) emitting heat from electrically powered tungsten filament(3) to heat titanium hydride up to over 1500 deg.C to react with nitrogen, while the reaction continues by its heat of reaction without any supply of heat from outside ; and (C) discharging out of the reactor unreacted nitrogen gas and hydrogen gas from the dehydrogenation of titanium hydride to produce fine powder of titanium nitride.
摘要翻译：通过（A）在高压氮气氛下，在反应器（1）中加入通过其反应热获得的氢化钛制备氮化钛粉末; （B）从电动钨丝（3）发射热量以将氢化钛加热至超过1500摄氏度以与氮反应，同时反应继续反应，而不会从外部供应任何热量; 和（C）从氢化钛脱氢反应器中排出未反应的氮气和氢气，生成氮化钛细粉末。

5. 发明授权

KR102427234B1 격자결함을 함유한 다공성 나노복합체 有权
公开(公告)号：KR102427234B1
公开(公告)日：2022-08-01
申请号：KR1020200097737
申请日：2020-08-05
IPC分类号： B01J35/10 , B01J35/00 , B01J27/24 , B01J23/745 , B01J23/75 , B01J23/755 , C01F7/00 , C01B21/076 , C01B21/06 , H01M4/86 , H01M4/90 , H01M12/08
摘要： 본발명에따른격자결함을함유한다공성나노복합체는다공성전이금속질화물나노튜브및 상기나노튜브에결합된층상이중층수산화물나노시트를포함한다.

6. 发明公开

KR1020220016664A 백금과 결합된 홀 형성 티타늄 산질화물 나노하이브리드 제조방법, 이에 따라 제조된 나노하이브리드 및 이를 포함하는 전기화학 촉매 有权
公开(公告)号：KR1020220016664A
公开(公告)日：2022-02-10
申请号：KR1020200096865
申请日：2020-08-03
IPC分类号： B01J37/08 , B01J35/10 , B01J21/06 , B01J23/42 , B01J35/00 , C01B21/082 , C01B21/076
摘要： 본발명은백금과결합된홀 형성티타늄산질화물나노하이브리드의제조방법및 이에따라제조된나노하이브리드에관한것이다. 본발명에따른백금과결합된홀 형성티타늄산질화물나노하이브리드의제조방법은간단한공정을통해물리적및 전기화학적특성이우수한촉매물질을제조할수 있다. 특히 2 차원티타늄질화물나노시트상에높은농도의질소결함을갖도록하여백금나노입자를고정함으로써, 기존의홀이형성되지않은티타늄질화물나노물질에비해향상된전기전도도및 높은중량효율등 우수한촉매활성을갖는나노하이브리드를제조할수 있다.

7. 发明授权

KR102160018B1 조성물, 경화막, 컬러 필터, 차광막, 고체 촬상 소자 및 화상 표시 장치 有权
公开(公告)号：KR102160018B1
公开(公告)日：2020-09-25
申请号：KR1020187027311
申请日：2017-03-08
申请人： 후지필름 가부시키가이샤
发明人： 쿠보타마코토 , 하마다다이스케
IPC分类号： C08K3/28 , G02B5/20 , C01B21/076 , G02F1/1335 , H01L27/14

8. 发明授权

KR101735822B1 후막 형성용 질화물 분말, 이를 이용한 질화물 후막 제조방법 및 이에 의해 제조된 후막 有权
标题翻译：用于形成厚膜的氮化膜，使用其的氮化膜的制造方法，
公开(公告)号：KR101735822B1
公开(公告)日：2017-05-15
申请号：KR1020150085990
申请日：2015-06-17
申请人： 한국기계연구원
发明人： 박동수 , 김종우 , 한병동 , 윤운하 , 안철우 , 류정호 , 최종진
IPC分类号： C01B21/06 , C01B21/064 , C01B21/072 , C01B21/076 , H05K3/12
摘要： 본발명은, 표면에휘스커(whisker)를포함하는후막형성용질화물분말을제공한다. 또한, 본발명은, (a) 질소또는암모니아기체분위기하에서질화물원료분말을어닐링하여휘스커(whisker)를포함하는질화물분말을제조하는단계; 및 (b) 상기단계(a)에서제조된질화물분말을분말분사(powder spray) 공정으로기판상에코팅하여후막을형성시키는단계를포함하는질화물후막의제조방법을제공한다. 본발명에따른표면에휘스커(whisker)를포함하는후막형성용질화물분말을원료분말로이용해분말분사공정을통한후막형성공정을실시할경우, 증착시기판과의충돌에의한원료분말의크기감소가최소화되고, 그에따라기판과증착막간의응력발생이현저히감소함과동시에증착막을이루는질화물입자간의계면면적이크게줄어들어, 유기물등과같이열전도성을저하시키는이물질을포함하지않은고순도및 고열전도성의질화물후막을제조할수 있다.
摘要翻译：本发明提供了在其表面含有晶须的厚膜形成溶质粉末。另外，本发明中，（a）制备通过在氮或氨气氛中氮化原料粉末进行退火，其包括在氮化物晶须（晶须）的粉末; 并且（b）通过粉末喷涂法将步骤（a）中制备的氮化物粉末涂覆在基板上以形成厚膜。当通过粉末喷涂工艺使用厚膜形成含有根据本发明的具有上述原料粉末的表面晶须（晶须）溶质货物粉末做厚膜形成工艺中，在沉积过程中所造成的与基材的碰撞原料粉末的尺寸减小是被最小化，并且高纯度，高的热传导性的，其不包括外来材料的氮化物厚膜，以降低热传导率，同时例如通过降低氮化物颗粒之间的界面区域中形成沉积膜和显著降低在衬底和淀积膜之间产生的应力较大，有机相应可以制造。

9. 发明授权

KR101229124B1 고용체 탄화물 및 탄질화물 분말의 고온 제조 방법 有权
标题翻译：碳化硅/碳化硅粉末的固溶体及其制备方法
公开(公告)号：KR101229124B1
公开(公告)日：2013-02-01
申请号：KR1020107016631
申请日：2008-12-26
申请人： 재단법인서울대학교산학협력재단
发明人： 강신후
IPC分类号： C01B31/30 , C01B21/076 , C01B21/06
CPC分类号： C04B35/62615 , B82Y30/00 , C01B21/0602 , C01B32/907 , C01P2002/72 , C01P2004/03 , C04B35/58014 , C04B35/58021 , C04B35/6265 , C04B2235/3232 , C04B2235/3239 , C04B2235/3241 , C04B2235/3244 , C04B2235/3253 , C04B2235/3839 , C04B2235/3847 , C04B2235/3852 , C04B2235/404 , C04B2235/422 , C04B2235/5454 , C04B2235/6567 , C04B2235/658 , C04B2235/721 , C04B2235/723 , C04B2235/80 , C22C1/055 , C22C29/02
摘要： 본 발명은 고인성 서멧(cermet) 복합 소결체 제조에 사용되는 완전 고용체 탄화물, 탄질화물 분말의 고온 제조 방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 본 발명은 각종 기계 공업과 자동차 공업 등과 같은 금속 가공 기술 분야에 사용되는 고속 절삭 가공용 공구의 재료 및 금형 재료 등에 사용되는 서멧 복합 소결체 인성을 대폭 향상시킬 수 있는, 완전 고용체 분말의 고온 제조 방법에 대한 것이다.

10. 发明授权

KR102354941B1 결함 구조가 도입된 전이금속 산화물 및 질화물 기반 나노하이브리드 제조방법 및 이에 따라 제조된 나노하이브리드 有权
公开(公告)号：KR102354941B1
公开(公告)日：2022-01-25
申请号：KR1020200097970
申请日：2020-08-05
IPC分类号： B01J37/34 , B01J37/16 , B01J37/04 , B01J37/08 , B01J35/00 , B01J21/06 , B01J23/42 , B01J23/44 , C25B1/04 , C25B11/04 , H01M4/86 , H01M4/90 , C01B21/06 , C01B21/076 , C01G23/00
摘要： 본발명은결함구조가도입된전이금속산화물및 질화물기반나노하이브리드제조방법, 및이에따라제조된나노하이브리드에관한것이다. 본발명에따른광환원반응을통한전이금속-레피도크로사이트티타네이트및 전이금속-티타늄질화물나노하이브리드제조방법은간단한공정을통해물리적및 전기화학적특성이우수한촉매물질을제조할수 있다. 특히티타늄결함을포함하는레피도크로사이트티타네이트(HxTi2-x/4□x/4O4·H2O)을금속고정을위한기판으로사용함으로써, 기존의전기화학적촉매물질에비해고가의금속물질을현저히적게함유하면서도향상된전기전도도및 높은중량효율등 우수한촉매활성을갖는나노하이브리드를제조할수 있다.

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式