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    • 3. 发明授权
    • 자기 저항 효과 소자 및 이것을 갖는 자기 메모리
    • 磁阻电阻效应器件及具有此功能的磁记忆体
    • KR100581299B1
    • 2006-05-22
    • KR1020030019182
    • 2003-03-27
    • 가부시끼가이샤 도시바
    • 니시야마가쯔야사이또요시아끼아마노미노루
    • G11C11/15
    • H01L43/10B82Y25/00G11C11/16H01F10/3254H01F10/3268H01F10/3272H01L27/224H01L27/228Y10T428/1114
    • 사이즈를 저감해도, MR비가 크고, 열 안정성이 우수하며, 스위칭 자장이 작은 자기 저항 효과 소자 및 이 자기 저항 효과 소자를 이용한 자기 메모리를 얻는 것을 가능하게 한다. 제1 강자성층, 제1 비자성층, 제2 강자성층이 순차적으로 적층되고 상기 제1 및 제2 강자성층이 자기적으로 결합된 구조와, 제1 강자성층, 제1 비자성층, 제2 강자성층, 제2 비자성층, 제3 강자성층이 순차적으로 적층되고 제1 및 제2 강자성층이 자기적으로 결합되고 제2 및 제3 강자성층이 자기적으로 결합된 구조 중 어느 한 쪽을 갖는 기억층과, 제4 강자성층을 갖고, Ta, Pt, Ru, Ir, W의 군으로부터 선택된 적어도 1종을 재료로 하는 기초 금속층 상에 형성된 자성막과, 상기 기억층과 상기 자성막 간에 형성된 터널 배리어층을 구비하고, 상기 기억층의 강자성층은 Ni-Fe-Co 삼원 합금으로 이루어지며, Ni-Fe-Co 삼원 상태도에 있어서, Co
      90(at%) Fe
      10(at%) -Fe
      30(at%) Ni
      70(at%) 의 직선, Fe
      80(at%) Ni
      20(at%) -Fe
      30(at%) Ni
      70(at%) 의 직선, Fe
      80(at%) Ni
      20(at%) -Co
      65(at%) Ni
      35(at%) 의 직선이 둘러싼 내측의 조성 영역 및 Fe
      80(at%) Ni
      20(at%) -Co
      65(at%) Ni
      35(at%) 의 직선, Co
      90(at%) Fe
      10(at%) -Fe
      70(at%) Ni
      30(at%) 의 직선, Co
      90(at%) Fe
      10(at%) -Fe
      30(at%) Ni
      70(at%) 의 직선이 둘러싼 내측의 조성 영역 중 어느 한쪽의 조성 영역으로부터 선택되는 조성을 갖고, 상기 기억층과 상기 터널 배리어층의 계면 및 상기 자성막과 상기 터널 배리어층의 계면에서의 최대 표면 거칠기가 0.4㎚ 이하이다.
      터널 배리어층, 교환 결합력, 삼원 합금, MR비
    • 9. 发明公开
    • 자기 재생 헤드, 자기 헤드 및 자기 기억 장치
    • 磁性复制头,磁铁头和磁记录头
    • KR1020090065446A
    • 2009-06-22
    • KR1020080127582
    • 2008-12-16
    • 가부시키가이샤 히타치세이사쿠쇼
    • 이와사끼도미오
    • G11B5/39H01L43/08H01L43/12
    • B82Y25/00G01R33/093G11B5/3929Y10T428/1114Y10T428/1143
    • A magnetic reproducing head, a magnetic head and a magnetic recording head are provided to improve the reliability and yield of the magnetic head by reducing the leak of detecting current through adding nitrogen and silicon. A magnetic reproducing head comprises: a lower magnetic shield layer(4), and an upper magnetic shield layer(2); a magneto-resistive film formed between the upper part magnetic shield layer and the lower magnetic shield layer; a first refill film(7) being arranged in order to be contacted to an opposite wall to the rising surface of the magneto-resistive film; and a second refill film(8) which is arranged in order to be contacted to both walls in the track width direction of the magneto-resistive film. The magneto-resistive film is a tunnel magneto-resistive film including a free layer(36), a fixed layer(32), and an insulative barrier layer(34) formed between the free layer and the fixed layer.
    • 提供磁再现头,磁头和磁记录头,通过减少通过添加氮和硅的检测电流的泄漏来提高磁头的可靠性和产量。 磁性再现头包括:下磁屏蔽层(4)和上磁屏蔽层(2); 形成在上部磁屏蔽层和下部磁屏蔽层之间的磁阻膜; 第一补充膜(7)被布置成与所述磁阻膜的上升表面相对的壁接触; 以及第二填充膜(8),其被布置成与磁阻膜的轨道宽度方向上的两个壁接触。 磁阻膜是包括自由层(36),固定层(32)和形成在自由层和固定层之间的绝缘阻挡层(34)的隧道磁阻膜。
    • 10. 发明公开
    • 수직 자기 이방성을 가지는 코발트-철-실리콘-보론/플래티늄 다층박막
    • COFESIB / PT MULTILAYERS展示全面的磁性ANISOTROPY
    • KR1020080048151A
    • 2008-06-02
    • KR1020060118143
    • 2006-11-28
    • 고려대학교 산학협력단
    • 김영근김유송전병선한승엽이장로
    • B32B9/04
    • G11C11/16G01R33/098G11B5/3909G11B5/656G11B5/66G11C11/161H01F10/12Y10T428/1114
    • A CoFeSiB/Pt(Cobalt-Ferrum-Silicone-Boron/Platinum) multi-layer thin film with perpendicular magnetic anisotropy is provided to secure low coercivity, remanent magnetization similar to saturation magnetization, and low saturation magnetization and to minimize the consumption of power. A CoFeSiB/Pt multi-layer thin film with perpendicular magnetic anisotropy is composed of: a first Pt/CoFeSiB layer; a second Pt/CoFeSiB layer formed on the first Pt/CoFeSiB layer; a third Pt/CoFeSiB layer formed on the second Pt/CoFeSiB layer; and a fourth Pt/CoFeSiB layer formed on the third Pt/CoFeSiB layer. The thickness ratio of the first and second Pt/CoFeSiB layers is 1:1. Coercivity of the multi-layer thin film with perpendicular magnetic anisotropy is below 200e. If the thickness of Pt is 8 angstroms, the thickness of CoFeSiB is 3 angstroms. Or, if the thickness of CoFeSiB is 3 angstroms, Pt is over 14 angstroms.
    • 提供具有垂直磁各向异性的CoFeSiB / Pt(钴 - 铁 - 硅 - 硼/铂)多层薄膜,以确保低矫顽力,与饱和磁化强度相似的剩余磁化和低饱和磁化强度,并最大限度地减少功率消耗。 具有垂直磁各向异性的CoFeSiB / Pt多层薄膜由以下部分组成:第一Pt / CoFeSiB层; 形成在第一Pt / CoFeSiB层上的第二Pt / CoFeSiB层; 形成在第二Pt / CoFeSiB层上的第三Pt / CoFeSiB层; 以及形成在第三Pt / CoFeSiB层上的第四Pt / CoFeSiB层。 第一和第二Pt / CoFeSiB层的厚度比为1:1。 具有垂直磁各向异性的多层薄膜的矫顽力低于200e。 如果Pt的厚度为8埃,CoFeSiB的厚度为3埃。 或者,如果CoFeSiB的厚度为3埃,则Pt超过14埃。