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1. 发明授权

KR101433850B1 자연증발식 가습기 有权
标题翻译：天然气蒸发器
公开(公告)号：KR101433850B1
公开(公告)日：2014-09-23
申请号：KR1020137018443
申请日：2012-08-14
申请人： 원하연
发明人： 원하연
IPC分类号： F24F6/04 , F24F13/20
CPC分类号： F24F6/043 , F24F13/20 , Y10S261/41 , Y10S261/65
摘要： 컨테이너, 내부 지지부, 터널, 보조 지지부, 증발 필터 및 지지 레그를 포함하는 자연증발식 가습기가 제공된다. 전후면벽, 바닥면 및 측면벽들은 상기 컨테이너 바닥면으로부터 수직하게 부착된 굴곡진 내부 지지부와 함께 내부 구획과 물 용기를 형성하고, 터널과 증발 필터 내장 영역을 형성하도록 상기 컨테이너의 길이 방향과 나란하게 배치된다. 상기 내부 지지부는 각 터널 내부에 복수의 스페이서와 상기 스페이서의 양측단에 배치된 돌출부를 포함한다. 증발 필터는 상기 돌출부에 의해 확실하게 고정되고, 컨테이너 물 용기의 물과 접촉하여, 각 증발 필터가 모세관 작용을 통해 젖게 된다. 전후면벽은 수분 공기의 확산을 향상시킬 수 있는 개구부를 구비한다.

2. 发明公开

KR1020130096764A 자연증발식 가습기 有权
标题翻译：天然气蒸发器
公开(公告)号：KR1020130096764A
公开(公告)日：2013-08-30
申请号：KR1020137018443
申请日：2012-08-14
申请人： 원하연
发明人： 원하연
IPC分类号： F24F6/04 , F24F13/20
CPC分类号： F24F6/043 , F24F13/20 , Y10S261/41 , Y10S261/65
摘要： The present invention provides a natural evaporation humidifier which is space and energy efficient and maximizes humidification efficiency by enhancing diffusion of the moistened air. It is much easy and convenient for users to use, operate and carry the natural evaporation humidifier. The natural evaporation humidifier comprises a container, a plurality of inner support portions, a plurality of tunnels, a plurality of auxiliary support portions, a plurality of evaporation filters, and a plurality of support legs. The container, having a front and back wall, bottom, and side walls, forms an interior compartment and a water reservoir with the inner support portions. The inner support portions are shaped in curve, vertically attached to the bottom of the container, arranged in parallel along the length direction of the container to form a plurality of tunnels and evaporation filter housing areas. The inner support portions have a plurality of spacers inside each tunnel. Bulges are arranged at each end of both sides of the spacers. Evaporation filters are firmly fixed by the bulges and are in contact with water in the water reservoir of the container so that each evaporation filter becomes wetted through capillary action. Both the front and back walls of the container have a plurality of apertures on their upper region above the the maximum water level of the water reservoir to facilitate enhanced diffusion of the moisture air as it exits the humidifier. Aqueduct slots are arranged to the bottom of the container to facilitate the movement of water from one side to other side of the container.

3. 发明授权

KR101181011B1 증기 이송 용기, 및 기화성 소스 물질을 용기 내에 제공하는 방법 有权
标题翻译：方法和装置帮助促进与气体材料接触的气体
公开(公告)号：KR101181011B1
公开(公告)日：2012-09-07
申请号：KR1020127006970
申请日：2005-06-01
申请人： 어드밴스드 테크놀러지 머티리얼즈, 인코포레이티드
发明人： 그레그,존 , 바틀,스코트 , 반톤,제프리,아이. , 나이토,돈 , 락스만,라비,케이.
IPC分类号： B01F3/04 , C23C16/448
CPC分类号： C23C16/4481 , Y10S261/65
摘要： 본 발명은 가스와 기화된 물질의 접촉을 개선하기 위한 장치 및 방법에 관한 것으로, 구체적인 배열에서, 기화기(110)로부터 기화기(110)와 연결된 처리 설비(120)로 목적 가스를 이송하는 시스템(100)을 포함한다. 기화기(110)는 물질을 기화시키고, 기화기(110)와 연결된 가스원(130)으로부터 가스를 수용하며, 수용된 가스와 기화된 물질의 접촉으로부터 생성되는 가스를 처리 설비(120)로 이송하도록 보조한다. 기화기(110)는 수용가스와 기화된 물질의 접촉 촉진을 보조하기 위해서 기화되는 물질의 노출 표면적의 증가를 보조하도록 기화되는 물질을 지지한다. 수용된 가스와 기화된 물질의 접촉을 촉진함으로써, 기화기(110)는 비교적 높은 유속으로 처리 설비(120)로 생성가스의 이송을 위하여 사용될 수 있다.

4. 发明公开

KR1020100137016A 기화기, 기화기 사용 방법, 기화 장치 사용 방법, 용기, 기화기 유닛 및 반도체 프로세스 챔버용 증기 발생 방법 有权
标题翻译：蒸发器，利用蒸发器装置的方法，容器，用于生成半导体过程室的蒸气的方法
公开(公告)号：KR1020100137016A
公开(公告)日：2010-12-29
申请号：KR1020107026815
申请日：2003-07-01
申请人： 어드밴스드 테크놀러지 머티리얼즈, 인코포레이티드
发明人： 그레그존 , 배틀스코트 , 밴톤제프리아이 , 나이토돈 , 퓨에르마리안 , 락스만,라비,케이.
IPC分类号： H01L21/205
CPC分类号： C23C16/4483 , C23C16/4408 , C23C16/4481 , C23C16/45544 , C23C16/50 , F17C3/00 , F17C3/02 , F17C11/00 , F17C2203/03 , Y02E60/321 , Y10S261/65
摘要： 본 발명은 기화가능한 소스 물질을 보유하기 위한 복수의 수직 적층된 용기를 포함하는 반도체 제조 프로세스에서의 사용을 위한 기화기 이송 시스템을 개시한다. 수직으로 적층된 용기의 각각은 각각의 적층된 용기의 내부로 연장되는 복수의 채널 형성된 돌기를 포함하여, 인접한 수직 적층된 용기 사이에 캐리어 가스를 통과시키기 위한 채널을 제공한다.
摘要翻译：一种用于半导体制造工艺的蒸发器输送系统，包括用于保持可蒸发的源材料的多个垂直堆叠的容器（22）。每个垂直堆叠的容器包括延伸到每个堆叠容器的内部的多个通风突起（30），从而提供用于在相邻的垂直堆叠的容器之间通过载气的通道。

5. 发明公开

KR1020080094852A 증발장치 및 증발방법 失效
标题翻译：蒸发装置及其方法
公开(公告)号：KR1020080094852A
公开(公告)日：2008-10-24
申请号：KR1020087024908
申请日：2006-03-16
申请人： 가시오게산키 가부시키가이샤
发明人： 가바사와야스나리 , 이마나카다이스케 , 사이토가오루
IPC分类号： C01B3/32 , H01M8/04 , H01M8/06
CPC分类号： B01B1/005 , B01D1/0017 , B01J2219/00835 , B01J2219/00891 , C01B3/32 , C01B2203/1288 , Y10S261/65
摘要： A vaporizing device which can vaporize fuel stably includes: a liquid absorbing member to allow liquid to move from one end portion to the other end portion of the liquid absorbing member under influence of a capillary action; and a heater to heat a side of the other end portion of the liquid absorbing member to vaporize the liquid.
摘要翻译：能够稳定地燃烧燃料的汽化装置包括：液体吸收件，用于在毛细管作用的影响下使液体从液体吸收件的一个端部移动到另一个端部; 以及加热器，用于加热液体吸收构件的另一端部的一侧以使液体蒸发。

6. 发明公开

KR1020080070441A 전자기장 발생부를 포함하는 물질막 증착 장치 无效
标题翻译：用于沉积包括电磁场发生单元的材料膜的装置
公开(公告)号：KR1020080070441A
公开(公告)日：2008-07-30
申请号：KR1020070008578
申请日：2007-01-26
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 최재형 , 조규호 , 이준영 , 김윤수 , 김중현 , 김기철
IPC分类号： C23C16/00
CPC分类号： C23C16/4401 , C23C16/4481 , H01L21/02271 , Y10S261/65
摘要： An apparatus for depositing a material film including an electromagnetic field generation part is provided to preclude sedimentation of deposit on an inner wall of transfer pipes and to flow a source, using electromagnetic field, by generating an electric field direction and a magnetic field direction. An apparatus(100) for depositing a material film comprises a first inert-gas injector(110a), a source tank(120a), a carburetor(140), a process chamber(170), a plurality of transfer pipes(180a,180b,180c,180d,180e,180f), and an electromagnetic field generation part(190). The electromagnetic field generation part is installed around the transfer pipes. The first inert-gas injector injects argon or hydrogen gas. The electromagnetic field generation part generates an electric field direction perpendicular to a progressive direction of the transfer pipes and a magnetic field direction perpendicular to the electric field direction. The electromagnetic field generation part includes a permanent magnet for generating the magnetic field.
摘要翻译：提供了一种用于沉积包括电磁场产生部分的材料膜的装置，以防止沉积物在输送管的内壁上沉积，并且通过产生电场方向和磁场方向使用电磁场流动源。一种用于沉积材料膜的设备（100）包括第一惰性气体注入器（110a），源罐（120a），化油器（140），处理室（170），多个输送管（180a，180b），180c，180d，180e，180f）和电磁场产生部（190）。电磁场产生部分安装在输送管周围。第一惰性气体喷射器注入氩气或氢气。电磁场产生部分产生垂直于传送管的行进方向的电场方向和垂直于电场方向的磁场方向。电磁场产生部分包括用于产生磁场的永磁体。

7. 发明公开

KR1020070053679A 기화 시스템의 기화성능 평가방법 失效
标题翻译：蒸发系统的蒸发性能评估方法
公开(公告)号：KR1020070053679A
公开(公告)日：2007-05-25
申请号：KR1020070046454
申请日：2007-05-14
申请人： 가부시키가이샤 시마즈세이사쿠쇼 , 미츠비시덴키 가부시키가이샤
发明人： 요시오카나오키 , 가와모토다츠시 , 가와오미츠시 , 마츠노시게루 , 야마다아키라 , 미야시타쇼지 , 우치카와후사오키
IPC分类号： H01L21/205
CPC分类号： F16K11/207 , B01D1/0082 , C23C16/448 , C23C16/4486 , F16K31/1221 , Y10S261/65
摘要： 본 발명은 기화 시스템의 액체재료 공급장치, 기화기 및 기화성능 평가방법에 관한 것으로서, 액체재료 공급장치에 있어서, 이송 라인에 2밸브 3방향 전환 밸브를 사용하거나 재료용기와 이송 라인을 3밸브 4방향 전환밸브로 접속함과 동시에 3밸브 4방향 전환밸브와 재료용기를 이송 라인으로부터 일체로 떼어낸 구성으로 하고, 또한 기화기에 있어서 액체재료를 포함하는 기액혼합재료가 흐르는 내측 배관의 선단부를 둘러싸도록 오리피스 부재를 설치하여, 내측 배관과 오리피스 부재의 간극으로부터 무화(霧化)용 가스를 기화 챔버내에 분출시키도록 하며, 또한 기화 챔버 내의 기화면의 온도를 액체재료에 따라서 독립적으로 온도 제어하는 것을 특징으로 한다.

8. 发明公开

KR1020040020422A 소스 가스 공급 방법 및 장치 失效
标题翻译：供应气体的方法和装置
公开(公告)号：KR1020040020422A
公开(公告)日：2004-03-09
申请号：KR1020020052021
申请日：2002-08-30
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 이재동 , 황기현 , 고창현
IPC分类号： H01L21/205
CPC分类号： C23C16/4482 , Y10S261/65
摘要： PURPOSE: A method and an apparatus for supplying source gas are provided to improve a deposition ratio by increasing the density of source gas according to the vapor pressure of vapor source. CONSTITUTION: The first heating process is performed on heat carrier gas for transporting a vapor source to form a layer on a substrate(S100). The second heating process is performed on heat the vapor source(S102). The vapor source is generated by bubbling the heated carrier gas within a liquid source of a receptacle(S200). The mixed source gas of the vapor source and the heated carrier gas is provided to a process chamber in order to form the layer on the substrate(S300). The third heating process is performed to heat purge gas and the heated gas is provided to the process chamber(S400).
摘要翻译：目的：提供一种用于提供源气体的方法和装置，以通过根据蒸汽源的蒸汽压增加源气体的密度来提高沉积比。构成：在热载体上进行第一加热处理，以输送蒸气源以在基板上形成层（S100）。在加热蒸气源时进行第二加热处理（S102）。蒸气源是通过将加热的载气鼓泡在容器的液体源（S200）中而产生的。将蒸气源和被加热的载体气体的混合源气体提供给处理室，以便在基板上形成该层（S300）。执行第三加热过程以加热净化气体，并将加热的气体提供给处理室（S400）。

9. 发明公开

KR1020040000689A 화학기상 증착공정의 원료물질 공급장치 无效
标题翻译：用于在化学蒸气沉积过程中提供原料的装置
公开(公告)号：KR1020040000689A
公开(公告)日：2004-01-07
申请号：KR1020020035604
申请日：2002-06-25
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 강구영
IPC分类号： C03B37/018
CPC分类号： C23C16/4482 , C03B19/1415 , C03B37/01413 , C03B37/01807 , C03B2207/86 , C03B2207/88 , C03B2207/89 , Y02P40/57 , Y10S261/65
摘要： PURPOSE: Provided is a device for supplying raw materials in chemical vapor deposition process, which supplies raw materials continuously and easily, prevents the contamination of raw materials, and improves the optical fiber productivity. CONSTITUTION: The device(300) for supplying raw materials in chemical vapor deposition process comprises a bubbler(310) for transforming the liquid raw materials into gas phases and supplying the gaseous raw materials to a deposition part, and a tank(320) for supplying liquid raw materials to the bubbler(310). The device is characterized in that the liquid raw materials to be supplied to the bubbler(310) are stored and pre-heated in the tank(320); the raw materials in the tank(320) are supplied to the bubbler(310) through multiple hollow fine tubes(340); and the pressure inside of the tank(320) are increased as the raw materials in the bubbler(310) are consumed gradually, while the raw materials are supplied to the bubbler(310) continuously, in order to maintain the amount of raw materials and the vapor pressure inside of the bubbler(310) at a constant degree.
摘要翻译：目的：提供化学气相沉积工艺原料供应装置，连续供应原料，防止原料污染，提高光纤生产率。构成：用于在化学气相沉积工艺中供应原料的装置（300）包括用于将液体原料转化为气相并将气态原料供应到沉积部分的起泡器（310）和用于供应液体原料到起泡器（310）。该装置的特征在于，供应到起泡器（310）的液体原料在储罐（320）中被储存和预热; 通过多个中空细管（340）将罐（320）中的原料供应到起泡器（310）; 并且当起泡器（310）中的原料逐渐消耗时，罐（320）内的压力增加，同时将原料连续地供给到起泡器（310）中，以保持原料的量和起泡器（310）内部的蒸气压恒定。

10. 发明公开

KR1020030030773A 플라즈마를 이용한 금속의 표면처리장치 失效
标题翻译：等离子体增强沉积装置
公开(公告)号：KR1020030030773A
公开(公告)日：2003-04-18
申请号：KR1020010063135
申请日：2001-10-12
申请人： 주식회사 엘지이아이
发明人： 오정근 , 조천수 , 이현욱
IPC分类号： C23C16/00
CPC分类号： C23C16/45576 , C23C16/4482 , C23C16/4558 , C23C16/545 , Y10S261/65
摘要： PURPOSE: A plasma-enhanced deposition apparatus is provided which increases corrosion resistance by uniformly depositing a dielectric corrosion resistant substance on the surface of a material to be treated. CONSTITUTION: The plasma-enhanced deposition apparatus comprises a process chamber(101); upper and lower electrodes(104,105) fixed to upper and lower sides of the inner part of the process chamber with being spaced apart from each other in a certain gap to generate plasma by a power source supplied; an unwinder(107) arranged at one side of the process chamber to supply a sheet type material(106) between the upper and lower electrodes inside the process chamber through an inlet part of the process chamber; a winder(108) arranged at the other side of the process chamber to wind a sheet type sample fed through an outlet of the process chamber; a corrosion resistant substance supply means(110) for supplying a corrosion resistant substance in the bubbled state into the process chamber so that the corrosion resistant substance is plasma deposited on the material; and a reaction promoting gas supply means separately installed from the corrosion resistant substance supply means to supply a reaction promoting gas for promoting reaction into the process chamber so that the corrosion resistant substance actively adhered onto the material in the process chamber.
摘要翻译：目的：提供一种等离子体增强沉积装置，其通过在待处理材料的表面上均匀沉积介电腐蚀性物质而提高耐腐蚀性。构成：等离子体增强沉积装置包括处理室（101）; 上部和下部电极（104,105）固定在处理室的内部的上侧和下侧，并以一定间隙彼此间隔开，以通过供电的电源产生等离子体; 布置在处理室的一侧的退绕器（107），以通过处理室的入口部分在处理室内的上下电极之间提供片状材料（106）; 布置在所述处理室的另一侧的卷绕器（108），以卷绕通过所述处理室的出口供给的片状样品; 用于将处于鼓泡状态的耐腐蚀物质供应到处理室中的耐腐蚀物质供应装置（110），使得耐腐蚀物质被等离子体沉积在材料上; 以及反应促进气体供给装置，其与耐腐蚀物质供给装置分开安装，以将促进反应的气体供应到处理室中，使得耐腐蚀物质积极地粘附到处理室中的材料上。

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