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    • 2. 发明授权
    • 확산렌즈 및 이를 채용한 발광장치
    • 扩散透镜和采用该扩散透镜的发光装置
    • KR101826325B1
    • 2018-02-07
    • KR1020170057626
    • 2017-05-08
    • 주식회사 제이텍
    • 정해운양근영
    • G02B5/02
    • G02B19/0028G02B19/0061G02F1/133603G02F1/133605G02F1/133606G02F2001/133607H01L33/48H01L33/58H01L33/60H01L2933/0058H01L2933/0083H01L2933/0091G02B5/021G02B5/0221
    • 입사광을균일하게확산할수 있도록된 확산렌즈와이를채용한발광장치가개시되어있다. 이개시된확산렌즈는렌즈본체의하면에오목하게인입형성되며, 그중앙에제1볼록부가형성된입사부와; 렌즈본체의상면중심부에오목하게형성된제1출사면과, 제1출사면주변에볼록하게형성된제2출사면를구비하며, 제1출사면의중앙에제2볼록부가형성된출사부와; 렌즈본체의하면에형성되며입사부주변에위치되어, 렌즈본체내부에서입사된광을반사시키는반사부를포함한다. 여기서, 제1출사면은광축과이 광축에서소정거리이격된위치까지형성된면으로두개의초점이존재하는타원형상으로형성되고, 제2출사면은광축에서소정거리이격된 위치에서제1출사면의외주에형성된면으로, 소정반경을갖는원 형상으로형성될수 있다.
    • 公开了一种能够均匀地漫射入射光的漫射透镜以及使用该漫射透镜的发光装置。 所述漫射透镜包括在所述透镜体中凹入地形成并且在其中心处具有第一凸起部分的光入射部分; 在透镜框架和所述第一出射面的上表面中心,并具有围绕在所述第二凸部的中间有一个第一发光面凸起地形成的第二出口myeonreul形成发光单元凹入地形成的第一出射面; 以及反射体,其形成在透镜体中并且设置在入射部分周围并且反射从透镜体内部入射的光。 在此,在形成于椭圆的两个焦点存在于形成为从光轴隔开的位置,并且该光轴线,并且所述第二出射面的表面的第一出射面的第一发射面从光轴位置隔开 并且可以形成为具有预定半径的圆形,其外表面形成在外周上。
    • 4. 发明授权
    • 질화물갈륨계 수직 발광다이오드 및 그 제조 방법
    • 立式氮化镓系发光二极管及其制造方法
    • KR101712094B1
    • 2017-03-03
    • KR1020090116122
    • 2009-11-27
    • 포항공과대학교 산학협력단서울바이오시스 주식회사
    • 이종람
    • H01L33/16
    • H01L33/22H01L33/30H01L33/305H01L33/405H01L2933/0083
    • 본발명은질화갈륨계 III-V족화합물반도체소자및 그제조방법을제공한다. 상기질화갈륨계 III-V족화합물반도체소자는기판; 상기기판상부에형성된 p형오믹전극층; 상기전극층상부에형성된 p형의 GaN계 III-V족화합물반도체층; 상기질화갈륨계 III-V족화합물반도체층상부에형성된 n형 GaN계 III-V족화합물반도체층; 및상기 n형질화갈륨계 III-V족화합물반도체층상부에형성된 n형오믹전극층으로구성되며, 상기 p형오믹전극층은 Ag를기반으로반사도가 70% 이상인고반사전극을포함한것이고상기 n형질화갈륨계 III-V족화합물반도체층은준광결정과표면조화를이용하여표면변환이이루어진층을포함한것이다. 본발명은고반사 p형전극, 준광결정및 표면조화가함께결합되어질화갈륨계수직발광다이오드제조공정에적용한경우, 그렇지않은경우에비하여발광다이오드의표면광출력이 9배이상증가한다는것을특징으로한다.
    • 本公开提供了一种垂直GaN基半导体二极管及其制造方法。 GaN基和半导体组件半导体器件包括衬底,衬底上的p型欧姆电极层,p型欧姆电极层上的p型GaN基和pV族化合物半导体层,n 在p型GaN基和iV族化合物半导体层上的n型GaN基和iV族化合物半导体层以及n型GaN基IE-V族化合物半导体上的n型欧姆电极层 层。 p型欧姆电极层是高反射率为70%以上的Ag系高反射性电极,n型GaN系EV基化合物半导体层的表面经受以下工序中的至少一种: 形成光子晶体和表面粗糙化的过程。
    • 9. 发明授权
    • 습식식각을 통한 GaN 기판 분리방법
    • 使用湿蚀刻分离方法
    • KR101471621B1
    • 2014-12-11
    • KR1020130096288
    • 2013-08-14
    • 광주과학기술원
    • 이동선공득조이준엽강창모
    • H01L33/12H01L33/22
    • H01L33/0079H01L33/0075H01L2933/0083
    • 습식식각을 통한 GaN 기판 분리 방법을 제공한다. GaN 기판기술 중 화학적 방법(Chemical Lift-off)를 이용하는 형태로, 기판 상에 이격하여 위치하는 산화막과 상기 산화막 사이의 공간에 n-GaN 기둥을 형성하는 단계; 상기 산화막 및 상기 n-GaN 기둥의 상부공간을 덮는 n-GaN층을 형성하는 단계; 상기 n-GaN층 상부에 활성층, p-GaN, p형 전극을 차례로 형성하는 단계; 및 상기 산화막을 제거하고 상기 n-GaN기둥을 습식식각하여 기판을 분리하는 단계를 포함하는 습식식각을 통한 GaN 기판 분리 방법을 제공한다.
      본 발명에 따르면, GaN 에피택셜 성장의 질적 향상 및 간단한 공정으로 제조비용을 절감할 수 있다. 또한, 발광면적 향상 및 광추출 효율이 증가될 수 있는 GaN 기판 분리 방법을 제공할 수 있다.
    • 提供了使用湿蚀刻分离GaN衬底的方法。 使用湿蚀刻分离GaN衬底的方法包括:通过使用GaN中的化学剥离法在氧化物层之间的空间中在衬底上形成彼此分离的氧化物层和n-GaN柱的步骤 底物技术; 形成覆盖n-GaN柱和氧化物层的上部空间的n-GaN层的工序; 在n-gan层的上部依次形成有源层,p-GaN和p型电极的工序; 以及通过对n-Gan柱进行湿蚀刻工艺来除去氧化物层并分离衬底的步骤。 根据本发明,通过GaN外延生长的质量改进和简单的工艺可以节省制造成本。 此外,可以提供一种分离改善发光面积和光提取效率的GaN衬底的方法。