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热词
    • 6. 发明公开
    • 단일 칩 고주파 집적회로 및 그 제조 방법
    • 单片微波IC及其制造方法
    • KR1020020070739A
    • 2002-09-11
    • KR1020010011012
    • 2001-03-03
    • 삼성전자주식회사
    • 심동식이상국
    • H01L27/04
    • H01L27/0605H01L21/82H01L21/8252H01L27/06
    • PURPOSE: A monolithic microwave IC(Integrated Circuit) and a method for fabricating the same are provided to improve a yield of semiconductor and reduce a signal loss due to a dielectric loss by forming a ground portion of a new structure. CONSTITUTION: An active device(42) such as an RF transistor and a passive device are formed on a semiconductor substrate(40). The active device(42) is connected with the passive device by a micro strip line(44). A dielectric layer(46) is formed on the semiconductor substrate(40) in order to connect all devices each other. The dielectric layer(46) is formed with a polymer layer such as a polyimide layer or a photoresist layer. A contact hole(h) is formed on the dielectric layer(46) in order to expose the micro strip line(44). A ground portion(48) is connected with an exposed part of the micro strip line(44) through the contact hole(h).
    • 目的:提供单片微波IC(集成电路)及其制造方法,以通过形成新结构的接地部分来提高半导体的产量并减少由于介电损耗引起的信号损失。 构成:在半导体衬底(40)上形成诸如RF晶体管和无源器件的有源器件(42)。 有源器件(42)通过微带线(44)与无源器件连接。 在半导体衬底(40)上形成电介质层(46),以将所有器件彼此连接。 电介质层(46)由聚酰亚胺层或光致抗蚀剂层等聚合物层形成。 在电介质层(46)上形成接触孔(h),以暴露微带线(44)。 接地部分(48)通过接触孔(h)与微带线路(44)的暴露部分连接。
    • 7. 发明公开
    • 이차전지 탑재 칩의 제조 방법
    • 用于制造安装在二次电池上的芯片的方法
    • KR20180033198A
    • 2018-04-02
    • KR20187002757
    • 2016-06-20
    • H01L21/50H01L21/768H01L21/822
    • H01L21/822H01L21/8234H01L27/04H01L27/06
    • 본발명은, 복수의칩 상에동시에균일하게산화물반도체이차전지를제조할수 있는제조방법을제공한다. 제1 전극(52)과충전기능층 (54, 56, 58)과제2 전극(60)을적층하여구성되는산화물반도체이차전지를, 회로상에적층한칩의제조방법으로서, 웨이퍼(20) 상에형성된복수의칩(22)의각각의칩(22)에대응한영역에대하여개별로산화물반도체이차전지를형성하지않고, 복수의칩(22)에대응한영역에대하여일체적으로산화물반도체이차전지를적층하여형성하는적층프로세스와, 일체적으로형성된산화물반도체이차전지에대하여, 각각의칩(22)에대응한영역을남기고, 각각의칩(22)에대응하지않는다른영역을제거하는패턴에칭을행하고, 각각의칩(22)에대응한개별산화물반도체이차전지(50-1, 50-2)로분할하는분할프로세스를포함하고있다.
    • 本发明提供一种能够在多个芯片上同时制造氧化物半导体和二次电池的制造方法。 一种制造芯片的方法,其中通过在电路上层压第一电极(52),电荷和电荷功能层(54,56,58)和第二电极(60)来形成氧化物半导体二次电池, 对于与形成的多个芯片22的各个芯片22对应的区域,氧化物半导体不单独形成二次电池,并且氧化物半导体一体堆叠在与多个芯片22对应的区域上 执行构图工艺,其中,对于与每个芯片22对应的区域被留下,并且对于整体地形成的氧化物半导体二次电池,去除与每个芯片22不对应的另一个区域 以及与各个芯片22对应的各个氧化物半导体二次电池50-1和50-2。
    • 9. 发明公开
    • 저정전용량 TVS 제조방법 및 그 방법으로 제조된 TVS 소자
    • 使用该方法制造低电容TVS和器件的方法
    • KR1020150096914A
    • 2015-08-26
    • KR1020140017791
    • 2014-02-17
    • 주식회사 시지트로닉스
    • 조덕호심규환
    • H01L29/86H01L27/06
    • H01L29/86H01L27/0255H01L27/06
    • 본 발명은 제조공정이 매우 간단하고 반대 도핑 영향이 없는 소자들로서 다이나믹 저항이 감소되어 TLP 테스트시 전류구동 능력을 향상시킬 수 있고 ESD 내성이 높은 저정전용량 TVS 제조방법에 관한 것으로서, P
      + N
      - N
      + P
      - P
      + 구조의 제1 저정전용량 TVS 칩을 제조하는 단계, P
      + N
      - N
      + 구조의 제2 저정전용량 TVS 칩을 제조하는 단계, 상기 제2 저정전용량 TVS 칩의 하부 금속패드를 제1 리드프레임에 다이본딩하고 상기 제1 저정전용량 TVS 칩의 하부 금속패드를 제2 리드프레임에 다이본딩하는 단계 및 상기 제2 저정전용량 TVS 칩의 상부 금속패드와 상기 제2 리드프레임을 와이어 본딩하고 상기 제1 저정전용량 TVS 칩의 상부 금속패드와 상기 제1 리드프레임을 와이어 본딩하는 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 단방향 보호기능을 갖는 저정전용량 TVS 제조방법에 관한 기술이다.
    • 本发明涉及一种具有简单制造工艺的低电容瞬态电压抑制器(TVS)的制造方法,提高了传输线脉冲(TLP)测试中的电流驱动性能,因为在没有反相掺杂的器件中动态电阻降低 ,并具有高耐ESD性。 本发明涉及一种具有单向保护功能的低电容TVS的制造方法的技术,包括:制造P ^ + N ^ -N ^ + P ^ - 的第一低电容TVS芯片的步骤, P ^ +结构; 制造P ^ + N ^ -N ^ +结构的第二低电容TVS芯片的步骤; 在第一引线框上将第二低电容TVS芯片的下金属焊盘芯片焊接在第二引线框架上的步骤,以及第一低电容器TVS芯片的下金属焊盘; 以及使用所述第一引线框架将所述第二低电容TVS芯片的上金属焊盘与所述第二引线框架和所述第一低电容TVS芯片的上金属焊盘引线接合的步骤。