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1. 发明授权

KR101481950B1 투사 렌즈 배열체 有权
标题翻译：投影透镜阵列
公开(公告)号：KR101481950B1
公开(公告)日：2015-01-14
申请号：KR1020107021522
申请日：2009-01-26
申请人： 마퍼 리쏘그라피 아이피 비.브이.
发明人： 비란트,마르코얀자코 , 캄퍼벡,베르트,얀 , 반빈,알렉산더,헨드릭,빈센트 , 크룻,피터 , 스틴브린크,스틴,윌리엄,헤르만,카를
IPC分类号： H01J37/12
CPC分类号： H01J37/3007 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/12 , H01J37/3177 , H01J2237/0435 , H01J2237/1205 , H01J2237/121 , H01J2237/151
摘要： 본 발명은 대전 입자 다중-빔렛 시스템을 위한 투사 렌즈 배열체(10)로서, 하나 또는 복수의 플레이트(12, 13, 14) 및 하나 또는 복수의 투사 렌즈 어레이를 포함하는 투사 렌즈 배열체를 제공한다. 각각의 플레이트 내부에는 개구 어레이가 형성되며 투사 렌즈가 상기 개구의 위치에 형성된다. 상기 투사 렌즈 어레이는 투사 렌즈 시스템의 어레이를 형성하고, 각각의 투사 렌즈 시스템은 상기 하나 또는 복수의 투사 렌즈 어레이의 대응하는 지점에 형성되는 하나 또는 복수의 투사 렌즈를 포함한다. 상기 투사 렌즈 시스템은 상기 플레이트 개구 지름의 약 1 내지 3배의 범위 내에 있는 피치로 배열되며, 각각의 투사 렌즈 시스템은 타깃 평면상에 하나 또는 복수의 대전 입자 빔렛(21)을 포커싱하고 반확대시키기 위해 제공되며, 각각의 투사 렌즈 시스템은 상기 피치의 약 1 내지 5배 범위의 유효 초점 길이를 가지며 상기 대전 입자 빔렛을 25배 이상 반확대시킨다.
摘要翻译：本发明提供一种用于带电粒子多子束系统的投影透镜装置（10），其提供包括一个或多个板（12,13,14）和一个或多个投影透镜阵列。在每个板中形成孔阵列，并在孔的位置处形成投影透镜。投影透镜阵列形成投影透镜系统阵列，并且每个投影透镜系统包括形成在一个或多个投影透镜阵列的对应点处的一个或多个投影透镜。其中投影透镜系统以介于板孔直径的大约1至3倍的范围内的间距布置，并且每个投影透镜系统将一个或多个带电粒子小射束（21）聚焦并放大在目标平面而且，各投影透镜系统的有效焦距为1倍左右〜5倍左右，将带电粒子小波束的半倍放大25倍以上。

2. 发明授权

KR101570974B1 투사 렌즈 배열체 有权
标题翻译：投影镜头布置
公开(公告)号：KR101570974B1
公开(公告)日：2015-11-23
申请号：KR1020107021468
申请日：2009-02-26
申请人： 마퍼 리쏘그라피 아이피 비.브이.
发明人： 비란트,마르코얀자코 , 캄퍼벡,베르트,얀 , 반빈,알렉산더헨드릭빈센트 , 크룻,피터 , 스틴브린크,스틴윌리엄헤르만카를
IPC分类号： H01J37/12 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/12 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/3007 , H01J37/3177 , H01J2237/0435 , H01J2237/1205 , H01J2237/121 , H01J2237/151
摘要： 복수의빔렛들을사용하여타겟을노출하기위한대전입자멀티-빔렛시스템이제공된다. 상기시스템은내부에형성된복수의홀들을구비하는제1 플레이트; 해당투사렌즈시스템을통해각각의전자빔렛이지나가도록각각의홀의로케이션에형성된복수의정전기투사렌즈시스템들;을포함한다. 상기홀들이공통제어전압을사용하여타겟의표면상으로빔렛들을포커싱하는것을가능하게하기에충분히균일한배치및 치수를가진다. 바람직하게는개별적인전자빔렛들의경로또는초점의보정없이표면상에상기전자빔렛들을포커싱하기위한공통제어신호에의해서상기정전기투사렌즈시스템들이제어된다.

3. 发明公开

KR1020110004371A 투사 렌즈 배열체 有权
标题翻译：投影透镜阵列
公开(公告)号：KR1020110004371A
公开(公告)日：2011-01-13
申请号：KR1020107021522
申请日：2009-01-26
申请人： 마퍼 리쏘그라피 아이피 비.브이.
发明人： 비란트,마르코얀자코 , 캄퍼벡,베르트,얀 , 반빈,알렉산더,헨드릭,빈센트 , 크룻,피터 , 스틴브린크,스틴,윌리엄,헤르만,카를
IPC分类号： H01J37/12
CPC分类号： H01J37/3007 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/12 , H01J37/3177 , H01J2237/0435 , H01J2237/1205 , H01J2237/121 , H01J2237/151
摘要： 본 발명은 대전 입자 다중-빔렛 시스템을 위한 투사 렌즈 배열체(10)로서, 하나 또는 다수의 플레이트(12, 13, 14) 및 하나 또는 다수의 투사 렌즈 어레이를 포함하는 투사 렌즈 배열체를 제공한다. 각각의 플레이트 내부에는 개구 어레이가 형성되며 투사 렌즈가 상기 개구의 위치에 형성된다. 상기 투사 렌즈 어레이는 투사 렌즈 시스템의 어레이를 형성하고, 각각의 투사 렌즈 시스템은 상기 하나 또는 다수의 투사 렌즈 어레이의 대응하는 지점에 형성되는 하나 또는 다수의 투사 렌즈를 포함한다. 상기 투사 렌즈 시스템은 상기 플레이트 개구 지름의 약 1 내지 3배의 범위 내에 있는 피치로 배열되며, 각각의 투사 렌즈 시스템은 타깃 평면상에 하나 또는 다수의 대전 입자 빔렛(21)을 포커싱하고 반확대시키기 위해 제공되며, 각각의 투사 렌즈 시스템은 상기 피치의 약 1 내지 5배 범위의 유효 초점 길이를 가지며 상기 대전 입자 빔렛을 25배 이상 반확대시킨다.
摘要翻译：本发明提供了用于带电粒子多子束系统的投影透镜装置（10），其包括投影透镜装置，该投影透镜装置包括一个或多个板（12,13,14）和一个或多个投影透镜阵列。在每个板中形成孔阵列，并在孔的位置处形成投影透镜。投影透镜阵列形成投影透镜系统的阵列，并且每个投影透镜系统包括形成在一个或多个投影透镜阵列的对应点处的一个或多个投影透镜。其中投影透镜系统以大约1至3倍的板孔直径的范围内的间距布置，并且每个投影透镜系统将一个或多个带电粒子细射束（21）聚焦并放大在目标平面而且，各投影透镜系统的有效焦距为1倍左右〜5倍左右，将带电粒子小波束的半倍放大25倍以上。

4. 发明公开

KR1020100132509A 투사 렌즈 배열체 有权
标题翻译：投影镜头布置
公开(公告)号：KR1020100132509A
公开(公告)日：2010-12-17
申请号：KR1020107021468
申请日：2009-02-26
申请人： 마퍼 리쏘그라피 아이피 비.브이.
发明人： 비란트,마르코얀자코 , 캄퍼벡,베르트,얀 , 반빈,알렉산더헨드릭빈센트 , 크룻,피터 , 스틴브린크,스틴윌리엄헤르만카를
IPC分类号： H01J37/12 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/12 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/3007 , H01J37/3177 , H01J2237/0435 , H01J2237/1205 , H01J2237/121 , H01J2237/151 , H01J29/46 , H01J37/317
摘要： 복수의 빔렛들을 사용하여 타겟을 노출하기 위한 대전 입자 멀티-빔렛 시스템이 제공된다. 상기 시스템은 내부에 형성된 복수의 홀들을 구비하는 제1 플레이트;
해당 투사 렌즈 시스템을 통해 각각의 전자 빔렛이 지나가도록 각각의 홀의 로케이션에 형성된 복수의 정전기 투사 렌즈 시스템들;을 포함한다. 상기 홀들이 공통 제어 전압을 사용하여 타겟의 표면 상으로 빔렛들을 포커싱하는 것을 가능하게 하기에 충분히 균일한 배치 및 치수를 가진다. 바람직하게는 개별적인 전자 빔렛들의 경로 또는 초점의 보정 없이 표면 상에 상기 전자 빔렛들을 포커싱하기 위한 공통 제어 신호에 의해서 상기 정전기 투사 렌즈 시스템들이 제어된다.

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