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1. 发明公开

KR20180019693A 일렉트로크로믹 화합물, 일렉트로크로믹 조성물, 및 일렉트로크로믹 표시 소자 审中-公开
标题翻译：电致变色化合物，电致变色组合物和电致变色显示装置
公开(公告)号：KR20180019693A
公开(公告)日：2018-02-26
申请号：KR20187001684
申请日：2016-06-17
申请人： RICOH CO LTD
发明人： YAMAMOTO SATOSHI , GOTO DAISUKE , SAGISAKA TOSHIYA , SHINODA MASATO , INOUE MAMIKO , KANEKO FUMINARI , YASHIRO TOHRU
IPC分类号： C09K9/02 , C07D265/38 , G02F1/15
CPC分类号： G02F1/15 , C07D265/28 , C07D265/38 , C08F20/36 , C09K9/02 , C09K2211/1003 , C09K2211/1007 , C09K2211/1011 , C09K2211/1033 , G09F9/30
摘要： 본발명은하기일반식 (I) 또는 (II)로표시되는일렉트로크로믹화합물을제공한다: [일반식 (I)][일반식 (II)]상기일반식 (I) 및 (II)에서, R∼R은각각독립적으로수소원자, 할로겐원자, 1가유기기, 또는중합성작용기이고, R∼R중하나이상이중합성작용기이다.
摘要翻译：本发明提供由以下通式（I）或（II）表示的电致变色化合物：通式（I）通式（II） R 1至R 4中的每一个独立地为氢原子，卤素原子，一价有机基团或合成官能团;

2. 发明公开

KR1020170126967A 레지스트 하층막의 형성방법 审中-实审
标题翻译：形成抗蚀剂下层膜的方法
公开(公告)号：KR1020170126967A
公开(公告)日：2017-11-20
申请号：KR1020177027786
申请日：2016-02-05
申请人： 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤
发明人： 카라사와,료 , 신조,테츠야 , 하시모토,케이스케
IPC分类号： G03F7/11 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0046 , C07C67/347 , C07C69/753 , C07C2601/02 , C07C2604/00 , C08F20/36 , C09D133/14 , G03F7/0752 , G03F7/0757 , G03F7/094 , G03F7/168 , H01L21/3086
摘要： [과제] 플루오로카본을포함하는가스에대하여높은드라이에칭내성을가지는레지스트하층막의형성방법을제공한다. [해결수단] 풀러렌 1분자에대하여하기식(1):(식중, 2개의 R은각각독립적으로탄소원자수 1 내지 10의알킬기를나타낸다.)로표시되는말론산디에스테르가 1 내지 6분자부가된풀러렌유도체, 에폭시기를적어도 2개가지는화합물및 용제를포함하는레지스트하층막형성조성물을기판상에도포하고, 상기레지스트하층막형성조성물이도포된기판을, 질소, 아르곤또는이들의혼합물의분위기하에서 240℃이상의온도에서적어도 1회베이크하는, 레지스트하층막의형성방법.
摘要翻译： [问题]提供一种形成对含氟烃气体具有高耐干蚀刻性的抗蚀剂下层膜的方法。 [解决问题的手段]相对于所述富勒烯分子表达为1（1）：其中，R 2各自独立地表示烷基为1〜10个碳原子）的丙二酸酯1-6加合的富勒烯分子由下式表示。其240℃的衍生物，下至少两个的化合物的环氧基和所述涂层和抗蚀剂下层膜形成用组合物涂布基底，含有溶剂上的衬底，氮气，氩气的抗蚀剂下层膜形成用组合物，或所述的混合物的气氛中或者至少一次。

3. 发明公开

KR1020170118901A 상층막 형성용 조성물, 패턴 형성 방법, 레지스트 패턴, 및 전자 디바이스의 제조 방법 审中-实审
标题翻译：用于形成上层膜的组合物，图案形成方法，抗蚀剂图案和电子器件的制造方法
公开(公告)号：KR1020170118901A
公开(公告)日：2017-10-25
申请号：KR1020177026747
申请日：2016-02-02
申请人： 후지필름 가부시키가이샤
发明人： 하타케야마나오야 , 이노우에나오키 , 탄고나오히로 , 시라카와미치히로 , 고토아키요시
IPC分类号： G03F7/11 , G03F7/32 , H01L21/027 , C08F20/36 , C08F26/02
CPC分类号： G03F7/11 , C08F20/36 , C08F26/02 , C08K5/32 , C08L33/10 , C08L33/16 , C08L101/00 , G03F7/32 , H01L21/027
摘要： 상층막형성용조성물은, 감활성광선성또는감방사선성수지조성물을이용하여형성되는레지스트막상에도포되어상층막을형성하고, 수지 X 및라디칼트랩기를갖는화합물 A를함유한다. 패턴형성방법은, 감활성광선성또는감방사선성수지조성물을, 기판상에도포하여, 레지스트막을형성하는공정 a와, 레지스트막상에, 상기의상층막형성용조성물을도포함으로써, 레지스트막상에상층막을형성하는공정 b와, 상층막이형성된레지스트막을노광하는공정 c와, 노광된레지스트막을, 유기용제를포함하는현상액을이용하여현상하여패턴을형성하는공정 d를포함한다.
摘要翻译：将形成上层膜的组合物涂布在使用敏化光化射线或辐射敏感树脂组合物形成的抗蚀剂膜上以形成上层膜，并且包含树脂A和具有自由基捕获基团的化合物A. 图案通过施加在第一或在衬底上的辐射敏感树脂组合物，通过形成抗蚀剂膜的步骤,,施加使用上层膜组合物的抗蚀剂膜的形成方法，活性光线的感，抗蚀剂膜的上层至形成膜的步骤b;曝光形成有上层膜的抗蚀剂膜的步骤c;以及通过使用含有有机溶剂的显影剂使曝光的抗蚀剂膜显影以形成图案的步骤d。

4. 发明公开

KR1020170106953A 중합성 화합물 및 광학 이방체 审中-实审
标题翻译：可聚合化合物和光学各向异性
公开(公告)号：KR1020170106953A
公开(公告)日：2017-09-22
申请号：KR1020177013895
申请日：2016-01-14
申请人： 디아이씨 가부시끼가이샤
发明人： 호리구치마사히로 , 고이소아키히로
IPC分类号： C09K19/38 , C07D285/12 , C07D285/135 , C08F20/10 , G02F1/13363 , G02B5/30
CPC分类号： C09K19/3497 , C07C323/12 , C07D285/12 , C07D285/135 , C07D305/06 , C07D333/22 , C07D409/04 , C07D409/12 , C07D417/06 , C07D417/12 , C08F20/10 , C08F20/36 , C08F20/38 , C09K19/2007 , C09K19/24 , C09K19/3068 , C09K19/32 , C09K19/322 , C09K19/3402 , C09K19/3491 , C09K19/38 , C09K19/3809 , C09K19/3823 , C09K19/3852 , C09K2019/0448 , C09K2019/3416 , G02B5/30 , G02B5/3016 , G02F1/13363
摘要： 본발명은, 중합시켜서얻어진필름상의중합물에대해서고온에서장시간의자외·가시광을조사했을경우에, 위상차의저하나변색을일으키기어려운중합성화합물및 중합성조성물을제공하는것을과제로한다. 또한, 당해중합성조성물을중합시킴으로써얻어지는중합체및 당해중합체를사용한광학이방체를제공하는것을과제로한다. 그결과, 중합성조성물의구성부재로서유용한화합물이얻어졌다. 또한, 본발명의화합물을함유하는중합성액정조성물을사용한광학이방체는광학필름등의용도에유용하다.
摘要翻译：本发明通过将聚合剂和用于对所得到的膜中的聚合物的情况下照射可见光长一段时间，在高温下外侧阀座，提供一种降解或颜色变化，以产生难以聚合性化合物和相位差的聚合性组合物。此外，期望提供通过聚合上述可共聚组合物而获得的聚合物和使用该聚合物的光学各向异性材料。结果，获得了可用作聚合性组合物构成成分的化合物。此外，使用含有本发明化合物的液晶组合物的光学各向异性材料可用于光学膜等。

5. 发明公开

KR1020170009813A 블록이소시아네이트 구조를 포함하는 폴리머를 포함하는 리소그래피용 레지스트 하층막 형성 조성물 审中-实审
标题翻译：含有嵌段异氰酸酯结构的含聚合物的层析膜的抗静电膜成膜组合物
公开(公告)号：KR1020170009813A
公开(公告)日：2017-01-25
申请号：KR1020167021978
申请日：2015-05-11
申请人： 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤
发明人： 카라사와,료 , 니시타,토키오 , 소메야,야스노부 , 엔도,타카후미 , 사카모토,리키마루
IPC分类号： G03F7/11 , G03F7/004 , G03F7/26 , H01L21/027 , H01L21/3065
CPC分类号： G03F7/094 , C08F20/36 , C08F20/58 , C09D133/14 , C09D133/26 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2002 , G03F7/2037 , G03F7/26 , H01L21/0271 , H01L21/0332 , H01L21/3081 , H01L21/3086
摘要： [과제] 상층으로부터의패턴전사나기판의가공시에드라이에칭이가능하고, 기판가공후에는알칼리수용액으로제거가가능한레지스트하층막을형성하기위한레지스트하층막형성조성물을제공한다. [해결수단] 아크릴아미드구조또는아크릴산에스테르구조를갖는폴리머(A)와, 블록이소시아네이트구조를갖는폴리머(B)와, 용제(C)를포함하는리소그래피용레지스트하층막형성조성물. 폴리머(A)가식(1):의단위구조를포함하는폴리머이다. 폴리머(B)가식(2):의단위구조를포함하는폴리머이다. 레지스트패턴을형성하는공정, 레지스트패턴에의해무기하드마스크층을에칭하는공정, 패턴화된무기하드마스크층에의해레지스트하층막을에칭하는공정, 및패턴화된레지스트하층막에의해반도체기판을가공하는공정을포함하는, 반도체장치의제조방법.
摘要翻译： [问题]提供一种用于形成抗蚀剂下层膜的抗蚀剂下层膜形成用组合物，可以从上层转印图案，其可以在基板的加工过程中进行干蚀刻，并且可以使用碱处理后的碱性水溶液。 [解决方案]含有具有丙烯酰胺结构或丙烯酸酯结构的聚合物（A），具有封端异氰酸酯结构的聚合物（B）和溶剂（C））的用于光刻的抗蚀剂下层膜成膜组合物。聚合物（A）含有式（1）所示的单元结构。聚合物（B）含有由式（2）表示的单元结构。一种半导体器件的制造方法，包括：形成抗蚀剂图案的步骤; 使用抗蚀剂图案来蚀刻无机硬掩模层的步骤; 使用图案化的无机硬掩模层蚀刻抗蚀剂下层膜的步骤; 以及使用图案化的抗蚀剂下层膜来处理半导体衬底的步骤。

6. 发明公开

KR1020170004004A 액정 배향막 有权
标题翻译：液晶对准膜
公开(公告)号：KR1020170004004A
公开(公告)日：2017-01-10
申请号：KR1020167035170
申请日：2015-05-26
申请人： 디아이씨 가부시끼가이샤
发明人： 하세베히로시 , 고데라후미아키 , 다카시마마사나오 , 니시야마이사 , 이토우히로유키 , 가도모토유타카 , 오비가즈키 , 사이토우요시타카 , 다니유이치로우 , 후지사와게이스케
IPC分类号： G02F1/1337 , C08F22/40 , C08F20/30 , C08F20/36 , C08F20/58 , C08F20/60 , C08F12/22
CPC分类号： C09K19/56 , C08F20/30 , C08F20/36 , C08F20/58 , C08F20/60 , C08F22/40 , C09K19/601 , C09K2019/0448 , G02F1/1337 , G02F1/133711 , G02F1/133788
摘要： AC 소부(燒付)를개선할수 있는광배향막으로서, 보다신뢰성이높은흡수이방성파라미터를구비하는광배향막을제공하는것에있다. 구체적으로는, 편광 UV를조사해서얻어진광배향막으로서, 막두께 1㎛당의ΔA(=A1-A2:A1은, 당해편광 UV의진동방향에평행방향의흡광도, A2는당해편광 UV의진동방향에평행방향의흡광도를나타낸다)이지만, 230㎚∼380㎚의영역에서 0.35 이상의극대값을갖는것을특징으로하는광배향막을제공한다.
摘要翻译：本发明的目的是提供一种具有更可靠的吸收各向异性参数作为允许减少AC图像粘附的光取向层的光取向层。具体地说，提供了通过曝光于偏振UV辐射获得的光电对准层，其具有最大ΔA（= A1-A2，其中A1是与偏振UV辐射的振动方向平行的方向上的吸光度，A2是在与偏振UV辐射的振动方向平行的方向上的吸光度）在230〜380nm的范围内，每微米层厚度为0.35以上。

7. 发明公开

KR1020160138251A 로다민계 착색조성물 审中-实审
标题翻译：基于罗丹明的彩色组合物
公开(公告)号：KR1020160138251A
公开(公告)日：2016-12-02
申请号：KR1020167030075
申请日：2015-03-27
申请人： 와코 쥰야꾸 고교 가부시키가이샤
发明人： 스즈키카츠후미 , 호리에토모아키 , 시다유키히코
IPC分类号： C09B11/24 , C09B69/10 , C07D311/80 , C08F20/36 , C08F220/56 , G02B5/20
CPC分类号： C09B69/103 , C07D311/80 , C08F20/36 , C08F220/18 , C08F220/56 , C09B11/24
摘要： 종래의로다민유도체를사용한착색수지조성물에서는실용적인범위의내열성이얻어지지않았다. 이에, 본발명은종래의착색조성물보다도내열성이높은착색조성물의제공을과제로한다. 본발명은하기일반식 (1)로표시되는화합물및 당해화합물유래의모노머단위를갖는폴리머등에관한것이다.(식중, R~R는각각독립적으로수소원자, 알킬기등을나타내고, R은수소원자또는메틸기를나타내며, R및 R는각각독립적으로수소원자또는알킬기를나타내고, Y는질소원자또는하기식(1-1)로표시되는기를나타내며, A은 -O-, -OCO-, -COO-, -NHCO-, -CONH-, - NHCONH- 및아릴렌기로부터선택되는적어도 1개의기를사슬중에갖는알킬렌기등을나타내고, A는 -NH- 또는 -O-를나타낸다. An는전자흡인성치환기를갖는아릴기등을포함하는음이온을나타내고, n은 0~3의정수를나타낸다. R과 R는이들과결합하고있는 -N-(CH)-Y-와함께 5~6원환의환상구조를형성하여도좋다.)
摘要翻译：使用常规罗丹明衍生物的着色树脂组合物在实用范围内没有提供耐热性。因此，本发明的目的是提供一种与常规着色组合物相比具有较高耐热性的着色组合物。本发明涉及由以下通式（1）表示的化合物和具有衍生自该化合物的单体单元的聚合物等。（其中R 1至R 4各自独立地表示氢原子，烷基等; R 7表示氢原子或甲基; R 8和R 9各自独立地表示氢原子或烷基; Y 表示氮原子或由下式（1-1）表示的基团：A 1表示具有至少一个选自-O - ， - OCO - ， - COO - ， - NHCO - ， - CONH - ，-NHCONH-和链中的亚芳基等; A 2表示-NH-或-O-; An-表示含有具有吸电子取代基的芳基等的阴离子等; n表示 0〜3的整数; R 8和R 9可以与其结合的N-（CH 2）n -YY结合形成5〜6元环的环状结构。）

8. 发明公开

KR1020160091343A 광경화성 잉크젯 잉크 审中-实审
标题翻译：可拍摄墨水
公开(公告)号：KR1020160091343A
公开(公告)日：2016-08-02
申请号：KR1020167014305
申请日：2014-11-26
申请人： 제이엔씨 주식회사
发明人： 오노고헤이 , 스기하라가쓰유키 , 히로타다카유키
IPC分类号： C09D11/38 , C09D11/101 , C08F20/20 , C08F20/30 , C08F20/36 , G02B3/00 , F21V8/00
CPC分类号： C09D11/101 , C08F220/20 , C08F220/28 , C08F220/30 , C08F220/36 , C08F222/10 , C08F2220/285 , C08F2222/1026 , C09D4/00 , C09D11/30 , C09D11/38 , G02B1/041 , G02B1/18 , G02B3/00 , G02B3/0012 , G02B6/0036 , B32B2307/418 , B32B2551/00 , C08F20/20 , C08F20/30 , C08F20/36 , G02B6/0065
摘要： 적어도 3 개의벤젠환 및청구항 1 중의유기기의군 a로부터선택되는적어도 1개의기로이루어지고, 상기벤젠환끼리의결합은 1개의상기기를통하여이루어지고있는골격구조와, 상기벤젠환에결합하는청구항 1 중의유기기의군 d로부터선택되는적어도 1개의기를가지는화합물(A2) 3∼60 중량 %와, 청구항 1의식(7) 또는식(8)으로표시되는화합물(B) 1∼ 60 중량 %를함유하는광경화성잉크젯잉크, 상기광경화성잉크젯잉크를광 경화시켜얻어지는마이크로렌즈, 발액성경화막상에상기마이크로렌즈가형성되어이루어지는적층체, 상기적층체를가지는광학부품, 상기광학부품을포함하는영상표시장치.
摘要翻译：提供了含有3-60重量％具有主链结构的化合物（A2）的可光固化喷墨油墨，所述主链结构包含至少三个苯环和至少一个选自如权利要求1所述的（a）有机基团的基团，苯并且具有至少一个选自权利要求1的有机基团（d）中的基团并键合到苯环上的基团和1-60重量％的化合物（B ）由权利要求1中的式（7）或（8）表示; 通过光固化可光固化喷墨油墨获得的微透镜; 在防液性固化膜上形成微透镜的层压体; 具有层叠体的光学部件; 以及包括该光学部件的图像显示装置。

9. 发明公开

KR1020160023785A 반응 촉진제 및 이것을 사용한 우레탄 화합물, 티오우레탄 화합물, 아미드 화합물 또는 우레아 화합물의 제조 방법 有权
标题翻译：反应加速器，使用它们的URETHANE化合物，硫脲化合物和用于酰胺化合物或尿素化合物的生产方法
公开(公告)号：KR1020160023785A
公开(公告)日：2016-03-03
申请号：KR1020167001317
申请日：2014-07-22
申请人： 쇼와 덴코 가부시키가이샤
发明人： 오노가츠토시 , 가토도모미츠
IPC分类号： B01J31/02 , C08F20/36 , C07C233/18 , C07C271/04 , C07C271/16 , C07C271/20
CPC分类号： C07C259/04 , B01J31/02 , B01J31/0209 , B01J31/0249 , B01J31/0271 , B01J2231/643 , C07C231/10 , C07C233/18 , C07C263/12 , C07C269/02 , C07C271/04 , C07C271/16 , C07C271/20 , C07C271/24 , C07C2601/14 , C08F20/36
摘要： 분자내에, 방향환에직접결합되어있는것이아닌이소시아네이토기를갖는화합물과, 활성수소함유기를갖는화합물의반응에사용되는반응촉진제이며, 할로겐화카르바모일기를갖는화합물을포함하는반응촉진제. 분자내에, 방향환에직접결합되어있는것이아닌이소시아네이토기를갖는화합물과, 활성수소함유기를갖는화합물을반응시켜서우레탄화합물, 티오우레탄화합물, 아미드화합물또는우레아화합물을제조하는방법이며, 상기반응을, 상기반응촉진제의존재하에서행하는것을특징으로하는제조방법.
摘要翻译：提供了一种反应促进剂，其用于将分子内不与直接键合的异氰酸酯基的化合物与包含含活性氢基团的化合物反应，并且由包含卤代氨基甲酰基组。提供一种制造方法，其包括使分子中不直接与芳环连接的异氰酸酯基的化合物与包含含活性氢基团的化合物反应以制备氨基甲酸酯化合物，硫代氨基甲酸酯化合物，酰胺化合物或在反应促进剂存在下进行反应的脲化合物。

10. 发明公开

KR1020140059782A 경화성 조성물 및 막 审中-实审
标题翻译：可固化组合物和膜
公开(公告)号：KR1020140059782A
公开(公告)日：2014-05-16
申请号：KR1020147004181
申请日：2012-07-05
申请人： 후지필름 매뉴팩츄어링 유럽 비.브이.
发明人： 반베르훔바스티안 , 반바크윌럼 , 헤싱야코
IPC分类号： B01D71/40 , B01D71/56 , C08F220/34 , C08F220/56 , C08F220/60 , C08J5/22 , H01M8/10
CPC分类号： C08F222/385 , B01D53/228 , B01D61/364 , B01D61/42 , B01D67/0006 , B01D67/0088 , B01D67/009 , B01D71/40 , B01D71/56 , B01D2323/30 , B01D2323/345 , B01J41/14 , C08F20/36 , C08F220/34 , C08F220/56 , C08F220/60 , C08J5/2231 , C08J2333/24 , C08J2333/26 , C08J2335/00 , H01M8/1041 , H01M2008/1095 , H01M2300/0082
摘要： 본 발명은 조성물을 경화함으로써 수득 가능한 막에 관한 것으로서, 상기 조성물은 (i) 2개 이상의 아크릴기 및 4차 암모늄기를 포함하는 경화성 화합물; (ii) 용매; 및 선택적으로 (iii) 하나의 에틸렌성 불포화 기를 갖는 경화성 화합물을 포함한다.

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