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    • 2. 发明授权
    • 렌즈배럴 크리닝장치
    • KR101859900B1
    • 2018-06-28
    • KR1020180017076
    • 2018-02-12
    • (주)유한엔씨아이
    • 김석태김형준
    • G02B27/00
    • G02B1/18
    • 본발명은간단한구성과작동에의해렌즈배럴의통둘레와하부를전체적으로청소할수 있도록구비되고, 에어의분사및 흡입구조와렌즈배럴의회전구조등에의해이물질의제거효과를극대화시킬수 있도록된 렌즈배럴크리닝장치에관한것이다. 본발명에따르면, 면상에렌즈배럴(10)이삽입되는홈형태로배열형성되되, 상기렌즈배럴(10)의체적에비해상대적으로큰 공간을형성하는포켓(41)과, 상기포켓(41)의일측면에연통되는측면급기공(42) 및상기포켓(41)의타측면에연통되는측면배기공(43)이형성된크리닝블록(40)과; 상기측면급기공(42)에연결되어상기포켓(41)의일측면으로에어를공급하도록된 측면분사라인(52)과; 상기측면배기공(43)에연결되어상기포켓(41)의타측면으로에어를흡출하도록된 측면석션라인(53)과; 상기렌즈배럴(10)을진공흡착하도록된 흡착헤드(63)를포함하여구성되며, 상기렌즈배럴(10)을상기포켓(41) 상으로이동시킴과동시에크리닝과정중에상기렌즈배럴(10)을흡착한상태로유지할수 있도록된 흡착헤드(63)를포함한픽업수단(60)과; 상기픽업수단(60) 측에구비되어상기흡착헤드(63)를일정각도로회전구동함에따라크리닝과정중에상기렌즈배럴(10)을회전시킬수 있도록된 회전기구(70)를포함하는렌즈배럴크리닝장치가제공된다.
    • 7. 发明公开
    • 특히 EUV 리소그래픽 투영 노광 장치 내의 광학 조립체
    • 尤其在EUV光刻投影曝光设备中的EUV光学组件
    • KR20180030441A
    • 2018-03-23
    • KR20170116261
    • 2017-09-12
    • ZEISS CARL SMT GMBH
    • EHM DIRK HEINRICHKALLER JULIAN
    • G03F7/20
    • G02B1/18G02B5/0891G03F7/20
    • 본발명은특히 EUV 리소그래픽투영노광장치내의광학조립체이며, 복수의광학요소가배열되어있는하우징과, 상기하우징내에배열된복수의서브하우징으로서, 상기서브하우징의각각은각각의경우에광학요소중 적어도하나및 광학시스템의동작중에광학요소상에입사되는빔을포위하고, 각각의서브하우징(201 내지 205, 301 내지 304)의내부는적어도하나의개구를거쳐각각의서브하우징의외부에연결되는, 복수의서브하우징(201 내지 205, 301 내지 304)을포함하고, 상기서브하우징(201 내지 205, 301 내지 304)의각각은개별가스공급부가할당되고, 이개별가스공급부를거쳐관련서브하우징(201 내지 205, 301 내지 304)의내부는개별가스분위기가개별적으로인가되는것이가능한광학조립체에관한것이다.
    • 本发明提供了一种特定的EUV光刻投射曝光和在设备中的光学组件,多个外壳,多个子外壳的被布置在光学元件的外壳被布置中,每个在各种情况下的光学元件的子壳体的 的至少一个和包围所述光学系统的操作期间的光束入射到光学元件上,每个子外壳的内部(201〜205,301〜304)经由连接到各个子外壳的外部的至少一个开口 以及多个子外壳201至205和301至304.子外壳201至205和301至304中的每一个分配有单独的气体供应单元, 201至205,301至304涉及其中可以单独施加各个气体气氛的光学组件。