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1. 发明授权

KR101911299B1 화합물, 감활성 광선성 또는 감방사선성 수지 조성물, 그것을 이용한 레지스트막, 레지스트 도포 마스크 블랭크스, 포토마스크 및 패턴 형성 방법, 그리고 전자 디바이스의 제조 방법 및 전자 디바이스 有权
公开(公告)号：KR101911299B1
公开(公告)日：2018-10-24
申请号：KR1020157036193
申请日：2014-06-11
申请人： 후지필름 가부시키가이샤
发明人： 츠치무라토모타카
IPC分类号： G03F7/004 , C07C309/15 , C07C311/14 , C07C381/12 , G03F7/039 , G03F7/038
CPC分类号： G03F7/0045 , C07C25/18 , C07C309/15 , C07C309/19 , C07C311/14 , C07C311/16 , C07C311/48 , C07C311/51 , C07C321/28 , C07C323/09 , C07C323/20 , C07C327/22 , C07C327/24 , C07C327/26 , C07C381/12 , C07C2601/08 , C07C2601/14 , C07C2602/42 , C07C2603/18 , C07C2603/24 , C07C2603/74 , C07D209/48 , C07D327/08 , C07D333/46 , C07D333/76 , C07D335/16 , C07D339/08 , C07D347/00 , C07D493/08 , C07J31/006 , C07J41/0055 , C07J41/0061 , G03F1/76 , G03F7/038 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , H01L21/0271 , H01L21/0276 , H01L29/16
摘要： (A) 하기일반식 (I) 또는 (II)로나타나는화합물을함유하는감활성광선성또는감방사선성수지조성물에의하여, 극미세(예를들면, 선폭 50nm 이하)의패턴을, 고감도및 고해상성(예를들면, 높은해상력), 우수한패턴형상및 작은라인에지러프니스(LER)를동시에만족한상태로형성할수 있는화합물및 감활성광선성또는감방사선성수지조성물을제공한다. [화학식 1][화학식 2](식중, Y및 Y는 1가의유기기를나타낸다. M및 M는유기오늄이온을나타낸다. X및 X는 -S-, -NH- 또는 -NR-로나타나는기를나타낸다. R은 1가의유기기를나타낸다. n1 및 n2는 1 이상의정수를나타낸다. R과 Y또는 Y가서로결합하여환을형성해도된다.)

2. 发明授权

KR101885957B1 술포늄염, 화학 증폭 레지스트 조성물, 및 패턴 형성 방법 有权
公开(公告)号：KR101885957B1
公开(公告)日：2018-08-06
申请号：KR1020160064811
申请日：2016-05-26
申请人： 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤
发明人： 후지와라다카유키 , 오하시마사키
IPC分类号： C07C307/02 , C07C311/09 , G03F7/20 , G03F1/48
CPC分类号： G03F7/0045 , C07C309/06 , C07C309/12 , C07C323/20 , C07C381/12 , C07C2601/14 , C07C2603/68 , C07C2603/74 , C07D295/26 , C07D305/06 , C07D307/77 , C07D327/06 , C07D327/08 , C07D333/46 , C07D333/76 , C07D335/02 , C07D335/16 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F220/30 , C08F220/38 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/168 , G03F7/2041 , G03F7/2053 , G03F7/322 , G03F7/325 , G03F7/38 , H01L21/0274
摘要： [과제] 고에너지선을광원으로한 포토리소그래피에있어서, 고도로산 확산을억제하여, 감도, MEF, 초점심도가우수하고, 또한노광기오염의원인이될 수있는아웃가스가적고, 나아가상용성이우수하여, 디펙트가발현되기어려운화학증폭레지스트조성물에사용되는광산발생제, 및상기광산발생제를포함하는화학증폭레지스트조성물, 및상기레지스트조성물을이용한패턴형성방법을제공한다. [해결수단] 하기식(1)으로표시되는술포늄염.

3. 发明授权

KR101845646B1 광 중합 개시제에 적합한 화합물, 광 중합 개시제 및 광경화성 수지 조성물 有权
标题翻译：适合于光聚合引发剂，光聚合引发剂和光固化性树脂组合物的化合物
公开(公告)号：KR101845646B1
公开(公告)日：2018-04-04
申请号：KR1020167017993
申请日：2011-12-07
申请人： 교리쯔 가가꾸 산교 가부시키가이샤
发明人： 우수이,다이꼬우 , 모리모또,마사히로 , 기따무라,데루요시
IPC分类号： C08F2/50 , C07C229/60 , C08F290/06 , C08K5/06 , C08K5/378 , C08G59/40 , C08G73/08 , C07D335/16
CPC分类号： C07D335/16 , C07C229/60
摘要： 본발명은전자부품등의밀봉제, 특히액정시일제에적합한아웃가스가발생하기어려워가시영역에서의광경화성을갖는광 중합개시제에사용할수 있는화합물, 해당화합물을포함하는광 중합개시제및 광경화성수지조성물을제공하는것이다. (1) 유기산화합물및/또는히드록시화합물과분자중에적어도 2개의에폭시기를함유하는화합물을반응시켜얻어지는화합물로서, 상기화합물이, 상기유기산화합물이디메틸아미노벤조산인화합물 A 또는상기히드록시화합물이히드록시티오크산톤인화합물 B인화합물이다. (2) 광개시성화합물과가시광증감성화합물을포함하는광 중합개시제로서, 상기광 개시성화합물이상기화합물 A이고, 상기가시광증감성화합물이상기화합물 B인광 중합개시제이다. (3) 광중합성단량체또는올리고머와상기 (2) 기재의광 중합개시제를포함하는광경화성수지조성물이다.
摘要翻译：本发明涉及电子部件用密封剂等，特别涉及可用于在可见光区具有光固化性的光聚合引发剂的化合物，提供构图。（1）有机酸化合物和/或羟基的化合物和含有一个环氧基在分子中的第二化合物反应至少所得到的化合物，所述化合物，其中，所述有机酸化合物二甲基氨基苯甲酸的化合物A或羟基化合物的氢氧化化合物的化合物可用于制备化合物。（2）包含光引发剂化合物和可见光敏化化合物的化合物，光聚合引发剂，其中光引发剂化合物的移相器，和可见光敏化的化合物B化合物相移器磷光聚合引发剂。（3）包含光聚合性单体或低聚物和（2）所述的光聚合引发剂的光固化性树脂组合物。

4. 发明公开

KR1020160086966A 광 중합 개시제에 적합한 화합물, 광 중합 개시제 및 광경화성 수지 조성물 审中-实审
标题翻译：适用于光聚合引发剂，光聚合引发剂和光催化性树脂组合物的化合物
公开(公告)号：KR1020160086966A
公开(公告)日：2016-07-20
申请号：KR1020167017993
申请日：2011-12-07
申请人： 교리쯔 가가꾸 산교 가부시키가이샤
发明人： 우수이,다이꼬우 , 모리모또,마사히로 , 기따무라,데루요시
IPC分类号： C08F2/50 , C07C229/60 , C08F290/06 , C08K5/06 , C08K5/378 , C08G59/40 , C08G73/08 , C07D335/16
CPC分类号： C07D335/16 , C07C229/60 , C08F2/50 , C08F290/064 , C08G59/4035 , C08G73/08 , C08K5/06 , C08K5/378
摘要： 본발명은전자부품등의밀봉제, 특히액정시일제에적합한아웃가스가발생하기어려워가시영역에서의광경화성을갖는광 중합개시제에사용할수 있는화합물, 해당화합물을포함하는광 중합개시제및 광경화성수지조성물을제공하는것이다. (1) 유기산화합물및/또는히드록시화합물과분자중에적어도 2개의에폭시기를함유하는화합물을반응시켜얻어지는화합물로서, 상기화합물이, 상기유기산화합물이디메틸아미노벤조산인화합물 A 또는상기히드록시화합물이히드록시티오크산톤인화합물 B인화합물이다. (2) 광개시성화합물과가시광증감성화합물을포함하는광 중합개시제로서, 상기광 개시성화합물이상기화합물 A이고, 상기가시광증감성화합물이상기화합물 B인광 중합개시제이다. (3) 광중합성단량체또는올리고머와상기 (2) 기재의광 중합개시제를포함하는광경화성수지조성물이다.

5. 发明公开

KR1020160012191A 화합물, 감활성 광선성 또는 감방사선성 수지 조성물, 그것을 이용한 레지스트막, 레지스트 도포 마스크 블랭크스, 포토마스크 및 패턴 형성 방법, 그리고 전자 디바이스의 제조 방법 및 전자 디바이스 审中-实审
标题翻译：化合物，活性敏感性或辐射敏感性树脂组合物，使用其的耐光膜，耐光涂布掩模，光刻胶，图案形成方法，制造电子器件的方法和电子器件
公开(公告)号：KR1020160012191A
公开(公告)日：2016-02-02
申请号：KR1020157036193
申请日：2014-06-11
申请人： 후지필름 가부시키가이샤
发明人： 츠치무라토모타카
IPC分类号： G03F7/004 , C07C309/02 , C07C309/15 , C07C311/14 , C07C381/12 , G03F7/039 , G03F7/038 , G03F7/00
CPC分类号： G03F7/0045 , C07C25/18 , C07C309/15 , C07C309/19 , C07C311/14 , C07C311/16 , C07C311/48 , C07C311/51 , C07C321/28 , C07C323/09 , C07C323/20 , C07C327/22 , C07C327/24 , C07C327/26 , C07C381/12 , C07C2601/08 , C07C2601/14 , C07C2602/42 , C07C2603/18 , C07C2603/24 , C07C2603/74 , C07D209/48 , C07D327/08 , C07D333/46 , C07D333/76 , C07D335/16 , C07D339/08 , C07D347/00 , C07D493/08 , C07J31/006 , C07J41/0055 , C07J41/0061 , G03F1/76 , G03F7/038 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , H01L21/0271 , H01L21/0276 , H01L29/16
摘要： (A) 하기일반식 (I) 또는 (II)로나타나는화합물을함유하는감활성광선성또는감방사선성수지조성물에의하여, 극미세(예를들면, 선폭 50nm 이하)의패턴을, 고감도및 고해상성(예를들면, 높은해상력), 우수한패턴형상및 작은라인에지러프니스(LER)를동시에만족한상태로형성할수 있는화합물및 감활성광선성또는감방사선성수지조성물을제공한다. [화학식 1][화학식 2](식중, Y및 Y는 1가의유기기를나타낸다. M및 M는유기오늄이온을나타낸다. X및 X는 -S-, -NH- 또는 -NR-로나타나는기를나타낸다. R은 1가의유기기를나타낸다. n1 및 n2는 1 이상의정수를나타낸다. R과 Y또는 Y가서로결합하여환을형성해도된다.)

6. 发明公开

KR1020140036118A 오늄 화합물 및 그의 합성방법 无效
标题翻译： ONIUM化合物及其合成方法
公开(公告)号：KR1020140036118A
公开(公告)日：2014-03-25
申请号：KR1020130111065
申请日：2013-09-16
申请人： 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈 엘엘씨
发明人： 라봄므폴제이.
IPC分类号： C07D335/16 , C07C309/23 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/0045 , C07C303/32 , C07C309/12 , C07C2603/74 , C07D335/16 , C08K5/45 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/039 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2004 , G03F7/322 , G03F7/38 , G03F7/00 , G03F7/004 , G03F7/029 , G03F7/20 , G03F7/2002
摘要： New onium salt compounds and a synthesizing method of the same are provided. A preferred method of the present invention includes: a) providing an onium salt compound comprising a sulfonate component having an electron withdrawing group; and b) treating the onium salt compound with a halide salt to form a distinct salt of the onium compound. The present onium compounds are useful as an acid generator component of a photoresist composition.
摘要翻译：提供新的鎓盐化合物及其合成方法。本发明的优选方法包括：a）提供包含具有吸电子基团的磺酸盐组分的鎓盐化合物; 和b）用卤化物盐处理鎓盐化合物以形成鎓化合物的不同盐。本发明的鎓化合物可用作光致抗蚀剂组合物的酸产生剂组分。

7. 发明授权

KR100881044B1 광중합성 치과용 조성물 失效
标题翻译：光热可塑牙膏组合物
公开(公告)号：KR100881044B1
公开(公告)日：2009-02-05
申请号：KR1020067026110
申请日：2005-04-28
申请人： 로디아 쉬미
发明人： 프랑스쟝-마르끄
IPC分类号： A61K6/08
CPC分类号： A61K6/093 , A61K6/083 , C07D335/16 , C08F2/50 , C08L51/085 , C08L83/16 , C08L83/12
摘要： 본 발명은 암모늄 작용기를 포함하는, 하나 이상의 기 (G) 로 치환되는 티옥산톤의 염인 감광제 (E) 를 포함하는, 390 nm 를 초과하는 파장의 방사선에 의해 광중합될 수 있는 치과용 조성물에 관한 것이다. 상기 조성물은 완성된 치과용 제품 (가교 후) 의 색채 안정성 문제점을 해결하는 이점을 가진다.

8. 发明公开

KR1020050089820A 다작용성 양이온성 광개시제, 그의 제조방법 및 용도 失效
标题翻译：多功能阳离子光敏剂，其制备和使用
公开(公告)号：KR1020050089820A
公开(公告)日：2005-09-08
申请号：KR1020057010700
申请日：2003-12-10
申请人： 선 케미칼 코포레이션
发明人： 허리히쇼운로렌스 , 로와트브라이언 , 데이비드슨로버트스테픈
IPC分类号： C07D335/10 , C07D339/08 , C07D333/76
CPC分类号： C07D333/54 , B33Y70/00 , C07D327/08 , C07D333/76 , C07D335/16 , C07D339/08 , C08F2/50
摘要： [where: R 1 is a direct bond, oxygen, a group >CH2, sulphur, a group >C=O, a group-(CH2)2- or a group-N-R a, where Ra is hydrogen or alkyl; R3, R4, R5 and R6 are hydrogen or substituentsalpha; R 8, R9, R10 and R11 are hydrogen, hydroxy or alkyl; or R9 and R11 are joined to form a fused ring system with the benzene rings to which they are attached; R7 is a direct bond, oxygen ora -CH2-group; p is 0 or 1; substituentsalpha are: alkyl, alkoxy, alkenyl, halogen, nitrile, hydroxyl, aryl, aralkyl, aryloxy, aralkyloxy, arylalkenyl, cycloalkyl, carboxy, carboxyalkoxy, alkoxycarbonyl, aryloxycarbonyl, alkylcarbonyloxy, alkanesulphonyl, arenesulphonyl, alkanoyl or arylcarbonyl; n is 1 to 12; R12 is hydrogen, methyl or ethyl; A is a group -[O(CHR13 CHR14)a]y-, -[O(CH2)bC0] y-, or -[O(CH2)bC0](y-1)-[O(CHR13CHR14)a]-, where: one of R13 and R14 is hydrogen and the other is hydrogen, methyl or ethyl; a is 1 to 2; b is 4 to 5; Q is a residue of a polyhydroxy compound having from 2 to 6 hydroxy groups; x is a number greater than 1 but no greater than the number of available hydroxyl groups in Q; y is a number from 1 to 10; and X- is an anion]; and esters thereof are useful as cationic photoinitiators, especially for use in surface coating applications, such as printing inks and varnishes, and which are intended to be cured by polymerisation initiated by radiation.
摘要翻译： [其中：R 1是直接键，氧，基团> CH 2，硫，基团> C = O， - （CH 2）2 - 或基团-N-R a，其中R a是氢或烷基; R3，R4，R5和R6是氢或取代基α; R 8，R 9，R 10和R 11是氢，羟基或烷基; 或R 9和R 11连接以形成与其所连接的苯环的稠环体系; R7是直接键，氧或-CH2-基团; p为0或1; 取代基是：烷基，烷氧基，烯基，卤素，腈，羟基，芳基，芳烷基，芳氧基，芳烷氧基，芳基烯基，环烷基，羧基，羧基烷氧基，烷氧基羰基，芳氧基羰基，烷基羰基氧基，烷基磺酰基，芳烃磺酰基，烷酰基或芳基羰基; n为1〜12; R12是氢，甲基或乙基; A是 - [O（CHR 13 CHR 14）a] y - ， - [O（CH 2）b C 0] y - 或 - [O（CH 2）b C 0]（y-1） - [O（CHR 13 CHR 14）a] 其中：R 13和R 14中的一个为氢，另一个为氢，甲基或乙基; a是1到2; b为4〜5; Q是具有2至6个羟基的多羟基化合物的残基; x是大于1但不大于Q中可用羟基数的数; y是从1到10的数字; 和X-是阴离子]; 及其酯可用作阳离子光引发剂，特别是用于表面涂料应用中，例如印刷油墨和清漆，并且其旨在通过由辐射引发的聚合来固化。

9. 发明公开

KR1020050043648A 술포늄염 광개시제 및 그의 용도 有权
标题翻译：硫酸盐光敏剂及其用途
公开(公告)号：KR1020050043648A
公开(公告)日：2005-05-11
申请号：KR1020040088840
申请日：2004-11-03
申请人： 헨켈 아게 운트 코. 카게아아
发明人： 류유시아 , 헤르도날드이.
IPC分类号： C07D335/16 , C07D335/10
CPC分类号： C07C381/12 , C07D335/16 , G03F7/0045 , G03F7/038
摘要： 본 발명은 술포늄염 광개시제 조성물, 상기 광개시제의 제조에 유용한 전구체 및, 예를 들어, UV 경화성 접착제, UV 경화성 실란트, 인쇄 잉크 및 바니쉬와 같은 UV 경화성 코팅 조성물 및 UV 경화성 인캡슐란트(encapsulants)에 있어서의 상기 광개시제의 용도를 제공한다.

10. 发明授权

KR100411323B1 디아미노프로피온산 유도체 失效
标题翻译： 디아미노프로피온산유도체
公开(公告)号：KR100411323B1
公开(公告)日：2003-12-18
申请号：KR1020017004650
申请日：1999-10-12
申请人： 에프. 호프만-라 로슈 아게
发明人： 포토우히나더 , 길레스피폴 , 구트리로버트윌리암 , 피트라니코-콜쉐리린 , 윤웨이야
IPC分类号： C07D403/14
CPC分类号： C07D295/15 , C07C65/105 , C07C65/40 , C07C233/65 , C07C233/66 , C07C233/73 , C07C233/83 , C07C235/34 , C07C235/52 , C07C235/60 , C07C237/12 , C07C237/20 , C07C237/24 , C07C237/36 , C07C255/57 , C07C271/22 , C07C271/24 , C07C271/28 , C07C311/06 , C07C311/19 , C07C2601/02 , C07C2601/04 , C07C2601/08 , C07C2601/14 , C07C2601/16 , C07C2603/18 , C07C2603/74 , C07D207/16 , C07D209/08 , C07D209/16 , C07D209/20 , C07D209/34 , C07D209/42 , C07D211/62 , C07D211/88 , C07D213/78 , C07D215/48 , C07D215/54 , C07D217/26 , C07D219/04 , C07D223/12 , C07D223/16 , C07D223/20 , C07D237/28 , C07D241/44 , C07D249/20 , C07D261/18 , C07D277/06 , C07D277/46 , C07D277/54 , C07D277/56 , C07D285/06 , C07D307/68 , C07D311/08 , C07D311/24 , C07D333/28 , C07D333/38 , C07D335/16 , C07D409/12 , C07D471/04
摘要： 하기 화학식 1a의 화합물은 류마토이드 관절염, 건선, 다발성 경화증, 크론병, 궤양성대장염, 죽상 경화증, 재발협착증, 췌장염, 이식거부증, 지연성 이식조직 기능, 및 급성 심근경색증 및 뇌졸중을 포함하는 허혈성 재관류 손상 질환을 치료하는데 유용하다.
화학식 1a

상기 식에서, R
1 은 또는 의 기이고, R
2 , A, B, U, V, W, X, Y, Z, k 및 n은 명세서에서 주어진 의미를 갖는다.
摘要翻译：式Id化合物及其药学上可接受的盐和酯，其中取代基名称如说明书中所提供。本发明化合物可用于治疗再灌注损伤。

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