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1. 发明授权

KR101794036B1 감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물, 이를 이용한 레지스트 필름, 패턴 형성 방법, 전자 디바이스의 제조 방법과 전자 디바이스, 및 화합물 有权
公开(公告)号：KR101794036B1
公开(公告)日：2017-11-06
申请号：KR1020157004989
申请日：2013-08-16
申请人： 후지필름 가부시키가이샤
发明人： 고토아키요시 , 시부야아키노리 , 카타오카쇼헤이 , 야마구치슈헤이 , 마츠다토모키 , 카토케이타
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/039 , C07D279/12 , C07D295/067 , C07D295/26 , C07D411/04 , C07D319/14 , C07D327/02 , C07D327/06 , C07D339/08 , C07D413/04
CPC分类号： G03F7/027 , C07C309/12 , C07C309/19 , C07C311/09 , C07C323/21 , C07C2601/14 , C07C2602/42 , C07C2603/74 , C07D217/02 , C07D217/08 , C07D279/12 , C07D285/15 , C07D295/067 , C07D295/26 , C07D319/14 , C07D327/02 , C07D327/06 , C07D333/46 , C07D335/02 , C07D339/08 , C07D411/04 , C07D413/04 , C07D417/04 , C07D493/18 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/30
摘要： 하기일반식(1)으로나타내어지는화합물을함유하는것을특징으로하는감활성광선성또는감방사선성수지조성물.[상기일반식(1)에있어서, R은다환식방향족기또는다환식복소환식방향족기를나타내고, R는 (n+2)가의포화탄화수소기를나타내고, R은 (m+2)가의포화탄화수소기를나타내고, R및 R는각각독립적으로치환기를나타내고, Q는헤테로원자를함유하는연결기를나타내고, m 및 n은각각독립적으로 0~12의정수를나타내고, n이 2 이상인경우, R는같아도좋고달라도좋고, R가서로연결되어 R와함께비방향족환을형성하여도좋고, m이 2 이상인경우, R는같아도좋고달라도좋고, R가서로연결되어 R과함께비방향족환을형성하여도좋고, 또한 X는비구핵성음이온을나타낸다.]

2. 发明公开

KR1020120052167A 염, 포토레지스트 조성물 및 포토레지스트 패턴의 제조 방법 审中-实审
标题翻译：盐，光电组合物和制备光电子图案的方法
公开(公告)号：KR1020120052167A
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：KR1020110117558
申请日：2011-11-11
申请人： 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤
发明人： 안류유카코 , 이치카와고지
IPC分类号： G03F7/038 , C07D327/06 , C07D333/46 , C07D335/02
CPC分类号： C07D327/02 , C07C303/32 , C07C309/04 , C07C309/06 , C07C309/12 , C07C309/17 , C07C309/19 , C07D327/04 , C07D327/06 , C07D333/46 , C07D335/02 , C07D337/04 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/2041 , G03F7/38
摘要： PURPOSE: A salt and a method for manufacturing a photoresist pattern are provided to obtain the resist pattern with CD uniformity. CONSTITUTION: An acid generator contains salt of chemical formula I. A photoresist composition contains the acid generator and resin which has unstable groups in acid and is non-soluble or insoluble in an alkali solution. A method for manufacturing a photoresist pattern comprises: a step of applying the photoresist composition on a substrate; a step of drying the composition to form a composition layer; a step of exposing light to the composition layer; a step of heating the composition layer; and a step of developing the composition layer.
摘要翻译：目的：提供盐和制造光致抗蚀剂图案的方法以获得具有CD均匀性的抗蚀剂图案。构成：酸产生剂含有化学式I的盐。光致抗蚀剂组合物含有在酸中不稳定基团并且不溶于或不溶于碱溶液的酸产生剂和树脂。光致抗蚀剂图案的制造方法包括：将光致抗蚀剂组合物涂布在基板上的工序; 干燥组合物以形成组合物层的步骤; 将光曝光到组合物层的步骤; 加热组合物层的步骤; 以及显影组合物层的步骤。

3. 发明授权

KR1019910009288B1 1,5-벤족사티에핀 유도체의 제조방법 失效
标题翻译： 1,5-二苯乙烯基ie衍生物的制备
公开(公告)号：KR1019910009288B1
公开(公告)日：1991-11-09
申请号：KR1019840007941
申请日：1984-12-14
申请人： 다케다 야쿠힌 고교 가부시키가이샤
发明人： 스기하라히로사다 , 히라따미노루
IPC分类号： C07D411/06
CPC分类号： C07D327/02 , C07D411/06 , C07D411/12
摘要： 내용 없음.

4. 发明授权

KR101815948B1 신규한 환상 화합물 및 이것을 포함하는 광학재료용 조성물 有权
公开(公告)号：KR101815948B1
公开(公告)日：2018-01-08
申请号：KR1020177018535
申请日：2016-03-01
申请人： 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드
发明人： 카리야조노,카즈키 , 아오키,타카시
IPC分类号： C07D327/02 , G02B1/04 , C07D331/02 , C08G75/08
CPC分类号： C07D327/02 , C07D331/02 , C08G18/2885 , C08G18/3876 , C08G18/7642 , C08G75/08 , G02B1/041
摘要： 본발명의일 실시형태에따르면, 하기식(1)로표시되는환상화합물과하기식(2)로표시되는에피설파이드화합물을포함하는광학재료용조성물을제공할수 있다. 나아가, 본발명의다른실시형태에따르면, 상기광학재료용조성물의총량에대하여, 중합촉매를 0.0001질량%~10질량% 첨가하고, 중합경화하는공정을포함하는, 광학재료의제조방법을제공할수 있다. [화학식 1][화학식 2](식(2) 중, m은 0~4의정수, n은 0~2의정수를나타낸다.)

5. 发明公开

KR1020160085221A 포토레지스트 조성물 및 포토레지스트 패턴의 제조 방법 审中-实审
标题翻译：光电组合物和生产光电子图案的方法
公开(公告)号：KR1020160085221A
公开(公告)日：2016-07-15
申请号：KR1020160001091
申请日：2016-01-05
申请人： 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤
发明人： 오치아이미츠요시 , 이치카와고지
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/038 , G03F7/004 , G03F7/00
CPC分类号： G03F7/0045 , C07C25/18 , C07C303/32 , C07C309/04 , C07C309/06 , C07C309/12 , C07C309/17 , C07C309/19 , C07C381/12 , C07C2603/74 , C07D313/10 , C07D327/02 , C07D327/04 , C07D327/06 , C07D333/46 , C07D335/02 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/168 , G03F7/20 , G03F7/2041 , G03F7/32 , G03F7/38
摘要： 산불안정기를갖는수지; 식 (I)로나타내어지는염; 및식 (B1)로나타내어지는염을포함하는포토레지스트조성물.
摘要翻译：本发明涉及一种光致抗蚀剂组合物，其包含：具有酸不稳定基团的树脂; 以化学式（I）表示的盐; 和由化学式（B1）表示的盐。

6. 发明公开

KR1019990067992A 1, 4-비스(디플루오로알킬) 벤젠 유도체의 제조방법 无效
标题翻译： 1 4-制备1,4-二氟烷基苯衍生物的方法
公开(公告)号：KR1019990067992A
公开(公告)日：1999-08-25
申请号：KR1019990001501
申请日：1999-01-19
申请人： 가부시기가이샤 닛뽕쇼꾸바이
发明人： 데시마세이이치 , 아사코요시노부
IPC分类号： C07C19/08
CPC分类号： C07D339/00 , C07C17/093 , C07C45/56 , C07C45/567 , C07C45/59 , C07C45/60 , C07D321/00 , C07D327/02 , C07C22/04 , C07C47/55
摘要： 특수한설비를필요로하지않고간단한조작및 염가로 1,4-비스(디플루오로알킬) 벤젠유도체를제조하는방법을제공한다. 이방법은하기화학식 1로표시되는화합물 A와불소를반응시키는것으로이루어진다. 단, X, X, X및 X는각각독립하여, 산소또는황원자를나타내고; Y및 Y는각각독립하여 -CH-으로표시되는기를나타내는데, 이때 n은 2 또는 3이고; k는 0∼4의정수이고; G는할로겐기, 알킬기, 퍼플루오로알킬기또는알콕시기를나타내고; 및 m은 0∼4의정수이다.

7. 发明公开

KR1020170090494A 신규한 환상 화합물 및 이것을 포함하는 광학재료용 조성물 审中-实审
标题翻译：新型环状化合物和含有其的光学材料组合物
公开(公告)号：KR1020170090494A
公开(公告)日：2017-08-07
申请号：KR1020177018535
申请日：2016-03-01
申请人： 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드
发明人： 카리야조노,카즈키 , 아오키,타카시
IPC分类号： C07D327/02 , G02B1/04 , C07D331/02 , C08G75/08
CPC分类号： C07D327/02 , C07D331/02 , C08G18/2885 , C08G18/3876 , C08G18/7642 , C08G75/08 , G02B1/041 , G02B1/04
摘要： 본발명의일 실시형태에따르면, 하기식(1)로표시되는환상화합물과하기식(2)로표시되는에피설파이드화합물을포함하는광학재료용조성물을제공할수 있다. 나아가, 본발명의다른실시형태에따르면, 상기광학재료용조성물의총량에대하여, 중합촉매를 0.0001질량%~10질량% 첨가하고, 중합경화하는공정을포함하는, 광학재료의제조방법을제공할수 있다. [화학식 1][화학식 2](식(2) 중, m은 0~4의정수, n은 0~2의정수를나타낸다.)
摘要翻译：根据本发明的一个方面，它可以提供为包括由以下式表示的环硫化合物及由该组合物表示的环状化合物（2）的光学材料用下面的等式（1）。此外，根据本发明的另一个实施方案中，相对于所述总上述光学材料组合物，它被添加到按质量计0.0001％的聚合催化剂以10重量％和用于制造光学材料，其包含聚合硬化的工序的方法有。其中m代表0至4的数，n代表0至2的数）。

8. 发明公开

KR1020150038385A 감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물, 이를 이용한 레지스트 필름, 패턴 형성 방법, 전자 디바이스의 제조 방법과 전자 디바이스, 및 화합물 有权
标题翻译：丙烯酸类敏感性或辐射敏感性树脂组合物，使用它们的电阻膜，图案形成方法和制造电子器件和电子器件的方法和化合物
公开(公告)号：KR1020150038385A
公开(公告)日：2015-04-08
申请号：KR1020157004989
申请日：2013-08-16
申请人： 후지필름 가부시키가이샤
发明人： 고토아키요시 , 시부야아키노리 , 카타오카쇼헤이 , 야마구치슈헤이 , 마츠다토모키 , 카토케이타
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/039 , C07D279/12 , C07D295/067 , C07D295/26 , C07D411/04 , C07D319/14 , C07D327/02 , C07D327/06 , C07D339/08 , C07D413/04
CPC分类号： G03F7/027 , C07C309/12 , C07C309/19 , C07C311/09 , C07C323/21 , C07C2601/14 , C07C2602/42 , C07C2603/74 , C07D217/02 , C07D217/08 , C07D279/12 , C07D285/15 , C07D295/067 , C07D295/26 , C07D319/14 , C07D327/02 , C07D327/06 , C07D333/46 , C07D335/02 , C07D339/08 , C07D411/04 , C07D413/04 , C07D417/04 , C07D493/18 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/30 , G03F7/039
摘要： 하기일반식(1)으로나타내어지는화합물을함유하는것을특징으로하는감활성광선성또는감방사선성수지조성물.[상기일반식(1)에있어서, R은다환식방향족기또는다환식복소환식방향족기를나타내고, R는 (n+2)가의포화탄화수소기를나타내고, R은 (m+2)가의포화탄화수소기를나타내고, R및 R는각각독립적으로치환기를나타내고, Q는헤테로원자를함유하는연결기를나타내고, m 및 n은각각독립적으로 0~12의정수를나타내고, n이 2 이상인경우, R는같아도좋고달라도좋고, R가서로연결되어 R와함께비방향족환을형성하여도좋고, m이 2 이상인경우, R는같아도좋고달라도좋고, R가서로연결되어 R과함께비방향족환을형성하여도좋고, 또한 X는비구핵성음이온을나타낸다.]

9. 发明公开

KR1020140042821A 살곤충 화합물 无效
标题翻译：杀虫剂化合物
公开(公告)号：KR1020140042821A
公开(公告)日：2014-04-07
申请号：KR1020137034059
申请日：2012-05-30
申请人： 신젠타 파티서페이션즈 아게
发明人： 카세이르제롬이브 , 레놀트페터 , 엘카세미미리엥 , 피터나토마스 , 투에그줄리클레망틴
IPC分类号： C07D413/12 , A01N43/80 , A01P7/04
CPC分类号： A01N43/80 , C07D261/02 , C07D327/02 , C07D411/12 , C07D413/12 , C07D413/14
摘要： 본 발명은 화학식 I의 화합물을 제공하며, 여기서 A
1 , A
2 , A
3 및 A
4 는 서로 독립적으로 CH, CR
5 , 또는 질소이고; B
1 --B
2 --B
3 --B
4 는 -CH
2 -C=N-CH
2 -, -CH
2 -N-CH
2 -CH
2 -, -CH
2 -C=CH-O- 또는 -CH=C-CH
2 -O-이며; G
1 은 산소 또는 황이고; L은 단일 결합 또는 C
1 -C
8 알킬렌이며; R
1 은 수소, C
1 -C
8 알킬, C
1 -C
8 알킬카르보닐-, C
1 -C
8 알콕시, C
2 -C
8 알케닐, C
2 -C
8 알키닐, C
1 -C
8 알콕시-C
1 -C
8 알킬, 아릴 또는 1개 내지 3개의 R
6 으로 치환된 아릴이거나, 또는 R
1 은 헤테로사이클릴 또는 1개 내지 3개의 R
6 으로 치환된 헤테로사이클릴 또는 C
1 -C
8 알콕시카르보닐-이고; R
2 는 수소, C
1 -C
8 할로알킬 또는 C
1 -C
8 알킬이며; R
3 은 C
1 -C
8 할로알킬이고; R
4 는 아릴 또는 1개 내지 3개의 R
6 으로 치환된 아릴이거나, 또는 R
4 는 헤테로사이클릴 또는 1개 내지 3개의 R
6 으로 치환된 헤테로사이클릴이며; Y
1 은 CR
7 R
8 , C=O 또는 C=S이고; Y
2 , Y
3 및 Y
4 는 독립적으로 CR
7 R
8 , C=O, C=S, NR
9 , O, S, SO 또는 SO
2 이되; 여기서 Y
1 , Y
2 , Y
3 및 Y
4 에 의해 형성된 고리 중 적어도 2개의 인접한 고리 원자는 헤테로원자이며; 각각의 R
7 및 R
8 은 독립적으로 수소, 할로겐, C
1 -C
8 알킬, 또는 C
1 -C
8 할로알킬이고; R
5 , R
6 , R
7 , R
8 및 R
9 는 청구항에 정의된 바와 같다. 본 발명은 또한 이들 화합물을 제조하는 방법 및 중간체, 이들 화합물을 포함하는 살곤충, 살비, 살선충 및 살연체동물 조성물, 및 이들 화합물을 사용하여 곤충, 진드기, 선충 및 연체동물 해충을 방제하는 방법에 관한 것이다.
[화학식 I]

10. 发明公开

KR1020000071141A 플루오르화된 베타-설톤의 제조 방법 无效
标题翻译： - 制备氟化BET-SULTONES的方法
公开(公告)号：KR1020000071141A
公开(公告)日：2000-11-25
申请号：KR1019997007431
申请日：1997-12-30
申请人： 쓰리엠 컴퍼니
发明人： 체버코브유리 , 라만나윌리엄엠
IPC分类号： C07D327/02
CPC分类号： C07D327/02
摘要： 본발명은플루오르화된올레핀을발연황산과반응시켜플루오르화된베타-설톤을제조하는방법에관한것이다.

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