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1. 发明授权

KR101899789B1 염, 포토레지스트 조성물 및 포토레지스트 패턴의 제조방법 有权
公开(公告)号：KR101899789B1
公开(公告)日：2018-09-20
申请号：KR1020120037529
申请日：2012-04-10
申请人： 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤
发明人： 안류유카코 , 이치카와고지
IPC分类号： C07C309/27 , G03F7/004 , C07C57/28
CPC分类号： C07C309/12 , C07C25/18 , C07C303/32 , C07C309/17 , C07C381/12 , C07C2601/14 , C07C2603/74 , C07D327/08 , C07D333/46 , C08F220/28 , C08F220/38 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041 , Y02P20/55
摘要： 화학식 I로표시되는염: 화학식 I상기화학식 I에서, Q및 Q는각각독립적으로불소원자또는 C-C퍼플루오로알킬그룹이고, n은 0 또는 1이고, L은단일결합또는 C-C알칸디일그룹이고, 여기서메틸렌그룹은산소원자또는카보닐그룹으로대체될수 있고, 단 L은 n이 0일때 단일결합이아니고, 환 W는 C-C지방족환이고, 여기서메틸렌그룹은산소원자, 황원자, 카보닐그룹또는설포닐그룹으로대체될수 있고, 수소원자는하이드록실그룹, C-C알킬그룹또는 C-C알콕시그룹으로대체될수 있고, R은하이드록실그룹, 또는보호그룹으로보호된하이드록실그룹이고, Z는유기양이온이다.

2. 发明授权

KR101899787B1 염, 포토레지스트 조성물 및 포토레지스트 패턴의 제조방법 有权
公开(公告)号：KR101899787B1
公开(公告)日：2018-09-20
申请号：KR1020120037518
申请日：2012-04-10
申请人： 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤
发明人： 이치카와고지 , 요시다이사오 , 야마시타유코
IPC分类号： C07C309/04 , C07C321/26 , G03F7/004
CPC分类号： C07C309/17 , C07C25/18 , C07C303/32 , C07C309/06 , C07C309/07 , C07C309/12 , C07C309/19 , C07C381/12 , C07C2601/14 , C07C2603/74 , C07D333/46 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , Y10S430/111 , Y10S430/122 , Y10S430/123
摘要： 화학식 I로표시되는염: 화학식 I상기화학식 I에서, Q및 Q는각각독립적으로불소원자또는 C-C퍼플루오로알킬그룹이고, L은 C-C2가포화탄화수소그룹이고, 여기서메틸렌그룹은산소원자또는카보닐그룹으로대체될수 있고, L및 L은각각단일결합또는 C-C2가포화알킬그룹이고, 여기서메틸렌그룹은산소원자또는카보닐그룹으로대체될수 있고, 환 W및환 W는각각 C-C탄화수소환이고, R및 R는각각수소원자또는 C-C알킬그룹이고, R은 C-C알킬그룹이고, t는 0 내지 2의정수이고, Z는유기대이온이다.

3. 发明授权

KR101844307B1 포토애시드 발생제 및 이를 포함하는 포토레지스트 有权
标题翻译：光酸产生剂和含有它的光刻胶
公开(公告)号：KR101844307B1
公开(公告)日：2018-04-02
申请号：KR1020110039308
申请日：2011-04-27
申请人： 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈 엘엘씨
发明人： 배영철 , 카르돌라시아토마스 , 류이
IPC分类号： G03F7/004 , C07C317/04 , C08K5/41
CPC分类号： G03F7/0045 , C07C309/10 , C07C309/12 , C07C309/17 , C07C381/12 , C07D207/27 , G03F7/0046
摘要： -C(=O)N
摘要翻译：提供了包含-C（= O）N <结构的基于氮的官能组分的新的光产酸剂化合物。还提供了包含本发明的至少一种PAG的光刻胶组合物。

4. 发明授权

KR101840052B1 염, 레지스트 조성물 및 레지스트 패턴의 제조 방법 有权
标题翻译：盐，抗蚀剂组合物和用于产生抗蚀剂图案的方法
公开(公告)号：KR101840052B1
公开(公告)日：2018-03-19
申请号：KR1020110138882
申请日：2011-12-21
申请人： 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤
发明人： 이치카와고지 , 요시다이사오 , 스즈키유키
IPC分类号： C07C309/73 , G03F7/004 , C07B61/00
CPC分类号： C07C309/17 , C07C2603/74 , C07D307/33 , C07D307/93 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041
摘要： 식 (I) 로나타내는염.[식 (I) 중, Q및 Q는서로독립적으로불소원자또는탄소수 1∼6 의퍼플루오로알킬기를나타낸다. L은탄소수 1∼17 의 2 가의포화탄화수소기를나타내고, 그포화탄화수소기에함유되는메틸렌기는산소원자또는카르보닐기로치환되어있어도된다. L는탄소수 1∼6 의 2 가의포화탄화수소기를나타내고, 그포화탄화수소기에함유되는메틸렌기는산소원자또는카르보닐기로치환되어있어도된다. 고리 W 는탄소수 3∼36 의 2 가의지방족고리를나타내고, 그지방족고리에함유되는메틸렌기는산소원자, 황원자, 카르보닐기또는술포닐기로치환되어있어도되고, 그지방족고리에함유되는수소원자는하이드록시기, 탄소수 1∼12 의알킬기, 탄소수 1∼12 의알콕시기, 탄소수 3∼12 의지환식탄화수소기또는탄소수 6∼10 의방향족탄화수소기로치환되어있어도된다. s 는서로독립적으로 0∼3 의정수를나타낸다. t 는서로독립적으로 0∼2 의정수를나타낸다. R은탄소수 1∼18 의지방족탄화수소기를나타내고, 그지방족탄화수소기에함유되는메틸렌기는산소원자또는카르보닐기로치환되어있어도된다. R이복수존재하는경우에는, 서로동일해도되고상이해도된다. R는수소원자, 탄소수 1∼6 의알킬기, 탄소수 3∼6 의시클로알킬기, 탄소수 2∼7 의아실기, 탄소수 2∼7 의알콕시카르보닐기, 탄소수 2∼7 의알콕시알킬기또는글리시딜기를나타낸다. R가복수존재하는경우, 서로동일해도되고상이해도된다. Z는유기카운터이온을나타낸다]
摘要翻译：由式（I）。[式（I）表示的盐，所述Q和Q独立地是氟原子或具有1至6个碳原子一起表示的全氟烷基的基团。 Euntan L代表少数1-17的二价饱和烃基，包含在所述饱和烃基的亚甲基可以被氧原子或羰基取代。 L表示碳原子数为1〜6的二价饱和烃基，饱和烃基中所含的亚甲基可以被氧原子或羰基取代。环W为可被氧原子，硫原子，羰基或磺酰基任选地被取代的亚甲基，包含在脂环族希望包含在脂肪族环上的羟基基团代表3-36个碳原子的二价脂族链，，烷氧基，具有3至12个碳原子数将环状烃基或芳香族烃基，碳原子数1〜12的烷基，6至10个碳原子的，碳原子数1〜12的可以被取代。 s独立于0至3; t独立地代表0-2; R表示碳原子数为1〜18的脂肪族烃基，脂肪族烃基中所含的亚甲基可以被氧原子或羰基取代。当R存在多个时，它们可以相同或不同。 R表示氢原子，具有1至6个碳原子，3至6个碳原子的环烷基的烷基，具有2至7难怪基，烷氧基烷基，或当一个碳原子数为缩水甘油基烷氧基羰基，2至7具有2至7萝个碳原子数的碳原子数。 R不存在，它们可以相同或不同。 Z代表有机抗衡离子]

5. 发明授权

KR101809023B1 염 및 이를 포함하는 포토레지스트 조성물 有权
标题翻译：盐和包含其的光刻胶组合物
公开(公告)号：KR101809023B1
公开(公告)日：2017-12-14
申请号：KR1020110083895
申请日：2011-08-23
申请人： 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤
发明人： 요시다이사오 , 이치카와고지
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/027 , H01L21/027
CPC分类号： C07C309/17 , C07C381/12 , C07C2603/74 , C07D233/60 , C07D327/08 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397
摘要： 본발명은화학식 I로표시되는염을제공한다. 화학식 I위의화학식 I에서, Q및 Q는각각독립적으로불소원자또는 C1-C6 퍼플루오로알킬그룹을나타내고, L및 L는각각독립적으로 C1-C17 2가포화탄화수소그룹을나타내고, 여기서, 하나이상의 -CH-는 -O- 또는 -CO-에의해대체될수 있고, 환 W및환 W는각각독립적으로 C3-C36 지방족환을나타내고, R는각각의경우에독립적으로 C1-C6 알킬그룹이고, R는각각의경우에독립적으로 C1-C6 알킬그룹이고, R은 C1-C12 탄화수소그룹을나타내고, t는 0 내지 2의정수를나타내고, u는 0 내지 2의정수를나타내고, Z는유기카운터이온을나타낸다.
摘要翻译：本发明提供了由式（I）表示的盐。在式（I）中的式（I）中，Q和Q各自独立地表示烷基，氟原子或C1-C6全氟烷基，L和L各自独立地为C1-C17 2饱和表示烃基，其中一个或多个-CH-表示C3-C36脂肪族环各自是-O-或可被-CO - ，环W mithwan W独立地，R独立地为C1-C6烷基在每种情况下，R 独立地代表C1-C6烷基，R是C1-C12烃基在每种情况下，t表示0-2的CAN协议中，u表示0〜2的CAN协议，Z为有机反离子它代表。

6. 发明授权

KR101705868B1 액상의 디알킬술포숙시네이트의 제조방법 有权
标题翻译：液体二烷基磺酸琥珀酸盐的制备方法
公开(公告)号：KR101705868B1
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：KR1020160064636
申请日：2016-05-26
申请人： 대성씨앤티 주식회사
发明人： 원지원 , 김슬기 , 임종준
IPC分类号： D01F1/10 , D01F1/07 , C07C309/17 , C07C303/32
CPC分类号： D01F1/10 , C07C303/32 , C07C309/17 , D01F1/07 , D01F1/106 , D10B2401/14 , D10B2401/16 , D10B2401/22
摘要： 액상의디알킬술포숙시네이트의제조방법은개시된다. 상기방법은디메틸아세토아마이드또는디메틸포름아마이드 5∼20중량%에하기화학식 1로표시되는디알킬술포숙시네이트 15∼40중량% 및산화방지제 5∼10중량%를첨가한다음, 75∼95℃에서반응시킨후, 밸런스로서디메틸아세토아마이드또는디메틸포름아마이드를첨가하여 100중량%를형성하는것으로구성된다: [화학식 1]여기서, R및 R는서로독립적으로같거나다르게, 수소또는탄소원자 1 내지 30의알킬기이고, M는 H, Li, Na, K또는 NH계열의양이온이다.

7. 发明公开

KR1020150079769A 감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물, 감활성광선성 또는 감방사선성 막 및 패턴 형성 방법 有权
标题翻译：抗紫外线或辐射敏感性树脂组合物，抗紫外线或辐射敏感膜和形成图案的方法
公开(公告)号：KR1020150079769A
公开(公告)日：2015-07-08
申请号：KR1020157013617
申请日：2013-12-25
申请人： 후지필름 가부시키가이샤
发明人： 카와바타타케시 , 타키자와히로오 , 시부야아키노리 , 고토아키요시 , 코지마마사후미 , 카토케이타
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , C07C309/17 , C07C309/19 , C07C309/24 , C07C311/48 , C07C317/04 , C07D211/06 , C07D307/10 , G03F7/11
CPC分类号： G03F7/0045 , C07C309/06 , C07C309/12 , C07C309/17 , C07C309/29 , C07C311/48 , C07C317/04 , C07C381/12 , C07C2601/14 , C07C2603/74 , C07D217/06 , C07D295/185 , C07D327/06 , C07D333/46 , C07D333/48 , C07D333/76 , C07D335/02 , C07J9/005 , C07J17/00 , C07J31/006 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20
摘要： 본발명은수지(A) 및하기일반식(I)의임의의화합물(B)을포함하는감활성광선성또는감방사선성수지조성물을제공한다.[일반식중, Rf는불소원자, 또는적어도 1개의불소원자를함유하는 1가의유기기를나타내고; R은수소원자, 또는불소원자를함유하지않는 1가의치환기를나타내고; X은적어도 2개의탄소원자를갖는 1가의유기기, 또는불소원자이외의치환기가필요에따라도입되는메틸기를나타내고, 단 X은 R과결합하여환을형성해도좋고; Z는활성광선또는방사선으로노광되는경우에술폰산기, 이미드산기또는메티드산기로변환되는부위를나타낸다]

8. 发明公开

KR1020150021491A 반응성기를 갖는 이온결합성 염 및 이를 포함하는 열가소성 수지 조성물 审中-实审
标题翻译：具有反应性组合物的离子盐和含有其的热塑性树脂组合物
公开(公告)号：KR1020150021491A
公开(公告)日：2015-03-02
申请号：KR1020147027294
申请日：2013-02-27
申请人： 니뽄 뉴카자이 가부시키가이샤
发明人： 무라타,타쿠 , 사이토,유타 , 나카무라,타쿠 , 홋타,코이치
IPC分类号： C07C219/08 , C08G65/334 , C08K5/42 , C08L101/00
CPC分类号： C07C309/17 , C07C219/06 , C07C229/04 , C07C305/04 , C08G65/334 , C08G65/3346 , C08K5/41 , C08K5/42 , C08L23/00 , C08L25/06 , C08L33/00 , C08L67/00 , C07C219/08 , C08L101/00
摘要： 본 발명은 열가소성 수지의 내후성을 향상시키는 반응성기를 갖는 이온결합성 염, 및 이 이온결합성 염을 포함하는 열가소성 수지 조성물을 제공하는 것이다.
하기 화학식 (1) 또는 하기 화학식 (2)로 표시되는 반응성기를 갖는 이온결합성 염 :

상기 화학식 (1) 및 (2) 중, R
1 은 R
2 는 각각 독립적으로, 치환 또는 비치환된 탄소수 1~30의 직쇄형, 분기형 또는 환형의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6~30의 아릴기, 혹은 치환 또는 비치환된 탄소수 7~31의 아릴알킬기이며, A는 탄소수 2~4의 직쇄형 또는 분기형의 알킬렌기이고, n은 0~50의 정수이며, Q1 또는 Q2는 각각 독립적으로, 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 암모늄 이온, 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 이미다졸륨 이온, 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 피리디늄 이온, 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 피롤리디늄 이온, 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 피롤리늄 이온, 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 피페리디늄 이온, 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 피라지늄 이온, 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 피리미디늄 이온, 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 트리아졸륨 이온, � ��틸렌성 불포화 결합을 갖는 트리아지늄 이온, 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 퀴놀리늄 이온, 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 이소퀴놀리늄 이온, 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 인돌리늄 이온, 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 퀴녹살리늄 이온, 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 피페라지늄 이온, 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 옥사졸리늄 이온, 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 티아졸리늄 이온, 및 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 모폴리늄 이온으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 1종이다.

9. 发明授权

KR101488755B1 포지티브형 감광성 조성물 有权
标题翻译：阳性型光敏组合物
公开(公告)号：KR101488755B1
公开(公告)日：2015-02-03
申请号：KR1020090103734
申请日：2009-10-29
申请人： 후지필름 가부시키가이샤
发明人： 야마구치슈헤이 , 츠치무라토모타카 , 타다유코
IPC分类号： G03F7/039
CPC分类号： G03F7/0045 , C07C309/17 , C07C381/12 , C07C2602/42 , C07C2603/66 , C07C2603/74 , C09B49/126 , C09B57/00 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/2041 , Y10S430/106 , Y10S430/111 , Y10S430/12 , Y10S430/121 , Y10S430/122 , Y10S430/124 , Y10S430/126
摘要： 원자외광, EUV, 전자선 등, 특히 ArF 엑시머 레이저광을 사용하는 마이크로 포토 패브리케이션 본래의 성능향상 기술의 과제를 해결하는 것이며, 감도, 해상력, 노광 마진이 우수한 포지티브형 감광성 조성물을 제공하는 것이다.
활성광선 또는 방사선 조사에 의해서 일반식 (I)로 나타내어지는 술폰산을 발생하는 적어도 1종의 화합물 및 산의 작용에 의해서 알칼리 현상액에 대한 용해도가 증대하는 수지를 포함하는 것을 특징으로 하는 포지티브형 감광성 조성물.

[식 (I) 중, X
1 , X
2 는 서로 독립적으로 불소 원자 또는 플루오로알킬기를 나타낸다. R
1 은 다환구조를 갖는 기를 나타낸다. R
2 는 수소 원자, 쇄식 알킬기, 단환식 알킬기, 다환구조를 갖는 기 또는 단환식 아릴기를 나타내고, 상기 쇄식 알킬기, 상기 단환식 알킬기, 상기 단환식 아릴기는 치환기를 가지고 있어도 좋다. R
1 과 R
2 는 서로 결합하여 다환구조를 형성하고 있어도 좋다.]
포지티브형 감광성 조성물

10. 发明授权

KR101416035B1 산 발생제용으로 적합한 염 및 이를 함유하는 화학 증폭형포지티브 내식막 조성물 有权
公开(公告)号：KR101416035B1
公开(公告)日：2014-07-08
申请号：KR1020070082484
申请日：2007-08-16
申请人： 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤
发明人： 요시다이사오 , 하라다유카코 , 미야가와다카유키
IPC分类号： C07C309/64 , C07C309/70 , C07C309/63
CPC分类号： G03F7/0045 , C07C309/17 , C07C381/12 , C07D307/93 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , Y10S430/122
摘要： 본 발명은 화학식 1의 염 및 화학식 1의 염을 포함하는 화학 증폭형 내식막 조성물을 제공한다.

상기 화학식 1에서,
X는 C1-C12 2가 선형 또는 분지형 탄화수소 그룹을 나타내며,
Y는 하나 이상의 치환체에 의해 치환될 수 있는 C1-C30 탄화수소 그룹이며, C1-C30 탄화수소 그룹 중의 하나 이상의 -CH
2 -는 -O- 또는 -CO-로 치환될 수 있고,
Q
1 및 Q
2 는 각각 독립적으로 불소 원자 또는 C1-C6 퍼플루오로알킬 그룹을 나타내며,
A
+ 는 유기 짝이온을 나타낸다.
화학 증폭형 포지티브 내식막 조성물, 산 발생제, 유기 짝이온, 연결 그룹, 사이클릭 탄화수소 그룹, 퍼플루오로알킬 그룹, 리소그래피, 해상도, 노광 한계.

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