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1. 发明公开

KR20180018381A 화합물 및 이를 이용하는 유기 전자 소자 审中-公开
标题翻译：化合物和有机电子器件使用它们
公开(公告)号：KR20180018381A
公开(公告)日：2018-02-21
申请号：KR20170100468
申请日：2017-08-08
IPC分类号： C07D307/94 , C07D333/50 , C07D405/04 , C07D409/04 , H01L51/00 , H01L51/52
CPC分类号： H01L51/0074 , C07B59/002 , C07B2200/05 , C07C255/50 , C07C255/51 , C07D213/57 , C07D233/58 , C07D239/74 , C07D251/24 , C07D307/94 , C07D333/80 , C07D405/04 , C07D409/04 , C07D409/14 , H01L51/001 , H01L51/0057 , H01L51/0065 , H01L51/0067 , H01L51/0072 , H01L51/0073 , H01L51/5012 , H01L51/5016 , H01L51/5056 , H01L51/5072 , H01L51/5088 , H01L51/5092 , H01L51/5096 , H01L51/5206 , H01L51/5221
摘要： 본발명은신규한화합물및 이를이용하는유기전자소자를제공한다. 상기신규한화합물은하기식(Ⅰ)로나타내고:이때 X및 X는각각독립적으로 C(R)이고, 이 2개의 (R)는같거나다르며, 상기 2개의 (R)는결합하여아릴고리(aryl ring)를형성하고; X및 X는각각독립적으로C(R)이며, 이 2개의 (R)는같거나다르며, 상기 2개의 (R)는결합하여, 1개이상의퓨란기(furan group) 또는 1개이상의싸이오펜기(thiophene group)를함유하는헤테로아릴고리(heteroaryl ring)를형성한다.
摘要翻译：本发明提供了一种新型化合物和使用该化合物的有机电子器件。其中两个（R）相同或不同并且两个（R）结合形成芳基环（R 1）形成环）和; X和X各自独立地是C（R），两个（R）neungat或不同，两个（R）被连接到一个或多个基团呋喃（呋喃基）或一个或多个噻吩基（噻吩基团）。

2. 发明公开

KR1020160074414A 이온성 액체의 정제 방법 및 공기의 제습 방법 审中-实审
标题翻译：净化离子液体的方法和去除空气的方法
公开(公告)号：KR1020160074414A
公开(公告)日：2016-06-28
申请号：KR1020150179256
申请日：2015-12-15
申请人： 에보닉 데구사 게엠베하
发明人： 제나끄올리비에 , 빌리벤야민 , 왕신밍 , 슈나이더롤프 , 슈나이더마르크-크리슈토프
IPC分类号： C07D233/54 , C07D233/56 , C07D233/58 , B01D1/22 , B01D53/26 , B01D53/28 , B01D53/14 , B01D53/78
CPC分类号： B01D53/263 , B01D53/28 , B01D2252/20473 , B01D2252/30 , B01D2257/708 , B01D2257/80 , C07B63/00 , C07C51/44 , C07C53/10 , C07C309/04 , C07D233/00 , C07D233/58 , C07F9/06
摘要： 본발명에따르면, Q가 1,3-디알킬이미다졸륨이온 (알킬기는서로독립적으로선형 C-C-알킬기임) 이고, A가 3 미만의 pK를갖는산 HA 의음이온인구조 QA의이온성액체는 0.1 h 이상의기간에걸쳐 100 내지 200 ℃의 온도및 100 mbar 이하의압력에서휘발성화합물의탈흡수에의해정제될수 있으며, 공기의제습에사용될수 있다.
摘要翻译：本发明涉及离子液体的净化方法和除湿空气的方法。根据本发明，具有Q 1 + A 2 - 的结构的离子液体，其中Q 1 +是1,3-二烷基咪唑鎓离子（其中每个烷基独立地表示直链C 1 -C 4烷基），并且A 1 - 是具有pKa小于3的酸性HA的阴离子可以通过在100-200℃的温度下在0.1小时或更长的时间内在100毫巴或更低的压力下解吸挥发性化合物来纯化，并且可以使用用于除湿空气。

3. 发明公开

KR1020160072158A Tg가 낮은 보레이트를 포함하는 홀로그래픽 매체의 제조를 위한 광중합체 배합물 审中-实审
标题翻译：用于生产包含低TG的硼酸盐的全息介质的光聚合物配方
公开(公告)号：KR1020160072158A
公开(公告)日：2016-06-22
申请号：KR1020167012505
申请日：2014-10-13
申请人： 코베스트로 도이칠란트 아게
发明人： 베르네트,호르스트 , 뢸레,토마스 , 브루더,프리드리히-카를 , 회넬,데니스 , 바이저,마르크-스테판 , 패케,토마스 , 하겐,라이너 , 발체,귄테르
IPC分类号： G03F7/00 , G03F7/028 , G03F7/029 , G03F7/035 , C07F5/02
CPC分类号： G03F7/001 , C07C211/63 , C07D213/20 , C07D233/58 , C07D295/037 , C07F5/027 , G03F7/029 , G03F7/035 , G03H1/0248 , G03H2001/0264 , G03H2260/12 , C07F5/02 , G03F7/028
摘要： 본발명은, 이소시아네이트에대해반응성인성분, 폴리이소시아네이트성분, 기록단량체, 및 1종이상의염료및 공개시제를함유하는광개시제를포함하며, 공개시제가화학식 Ia의 1종이상의물질을함유하는것을특징으로하는광중합체배합물에관한것이다. 본발명은추가로, 특정한공개시제의제조방법및 이러한방법에의해수득가능한공개시제, 및추가로특정한공개시제를사용한홀로그래픽매체의제조방법, 및본 발명의광중합체배합물을사용하여수득가능한홀로그래픽매체를제공한다. 본발명은추가로, 본발명의홀로그래픽매체를포함하는라미네이트구조체및 또한공개시제로서적합한특정보레이트에관한것이다.

4. 发明授权

KR101560116B1 클로로아세톤을 이용한 메데토미딘의 제조 방법 有权
标题翻译：用氯丁酮制备药物的方法
公开(公告)号：KR101560116B1
公开(公告)日：2015-10-13
申请号：KR1020147029607
申请日：2012-11-15
申请人： 론자 리미티드
发明人： 사라고사되르발트플로렌시오 , 쿨레사안나 , 엘츠너슈테판 , 부욕로베르트 , 브로벨즈비그니에브 , 보이치에호브스키크지슈토프
IPC分类号： C07D233/58 , C07D233/56 , A61K31/4164
CPC分类号： C07D233/58 , C07D233/56 , C07D263/16
摘要： 본발명은 1-브로모 2,3-디메틸벤젠및 클로로아세톤으로부터의메데토미딘의제조방법을개시한다.

5. 发明授权

KR101520992B1 구리 또는 구리 합금용 표면 처리제 및 그 용도 有权
公开(公告)号：KR101520992B1
公开(公告)日：2015-05-19
申请号：KR1020117004902
申请日：2009-09-01
申请人： 시코쿠가세이고교가부시키가이샤
发明人： 히라오,히로히코 , 야마지,노리아키 , 무라이,타카유키
IPC分类号： B23K1/20 , B23K35/36 , C23C22/52 , C23F11/14
CPC分类号： C23F11/149 , B23K35/3615 , C07D233/58 , C23C22/52 , H05K3/282 , H05K2203/124
摘要： 본발명의목적은무연솔더를사용한인쇄배선기판에전자부품등을실장하는경우인쇄배선기판등의회로부분을구성하는구리또는구리합금의표면상에우수한열 내성을갖는화학물질층을형성하고동시에상기솔더에대한습윤성을향상시키며연납접성을양호하게하는표면처리제및 표면처리방법을제공하는데 있다. 또한, 본발명의다른목적은회로부분을구성하는구리또는구리합금의표면을상기표면처리제와접촉시켜생성된인쇄배선기판을제공키는데 있으며, 상기구리또는구리합금의표면을상기표면처리제와접촉시킨이후에무연솔더를사용한솔더링을수행하는솔더링방법을제공하는데 있다. 하기식 (I)로표현되는이미다졸화합물을함유하는구리또는구리합금용표면처리제로서, 하기식에서, R, R및 R는서로동일하거나상이하고수소원자또는 1 내지 8 개의탄소원자들을갖는알킬기이며, R, R및 R중적어도하나는 4 이상의탄소원자들을갖는알킬기이다.

6. 发明公开

KR1020140129399A 클로로아세톤을 이용한 메데토미딘의 제조 방법 有权
标题翻译：用氯丁酮制备药物的方法
公开(公告)号：KR1020140129399A
公开(公告)日：2014-11-06
申请号：KR1020147029607
申请日：2012-11-15
申请人： 론자 리미티드
发明人： 사라고사되르발트플로렌시오 , 쿨레사안나 , 엘츠너슈테판 , 부욕로베르트 , 브로벨즈비그니에브 , 보이치에호브스키크지슈토프
IPC分类号： C07D233/58 , C07D233/56 , A61K31/4164
CPC分类号： C07D233/58 , C07D233/56 , C07D263/16 , A61K31/4164
摘要： 본 발명은 1-브로모 2,3-디메틸벤젠 및 클로로아세톤으로부터의 메데토미딘의 제조 방법을 개시한다.

7. 发明公开

KR1020140096673A 항균성 이미다졸륨 화합물, 이를 포함하는 광경화성 코팅 조성물 및 항균성 고분자 코팅 有权
标题翻译：抗菌素化合物和包含其的抗菌素可溶性THIOL-ENE组合物和其制备的抗菌聚合物涂料
公开(公告)号：KR1020140096673A
公开(公告)日：2014-08-06
申请号：KR1020130009528
申请日：2013-01-28
申请人： 한국과학기술연구원
发明人： 김만호 , 안광덕 , 김미리내
IPC分类号： C07D233/56 , C09D5/14 , A01N43/28
CPC分类号： A01N43/50 , C07D233/58 , A01N25/10 , A01N25/34
摘要： An antibacterial imidazolium compound, a photocurable coating composition, and an antibacterial coating of the present invention comprise a compound represented by chemical formula 1 or derivatives of the same compound. Explanation about the X^-, R^1, and R^2 in chemical formula 1 is the same as stated in the detail description of the present invention. The antibacterial imidazolium compound has an excellent antibacterial effect against various strains so that the antibacterial coating can be provided by simply being added to the photocurable coating composition. Additionally, the antibacterial coating comprises a monomeric antibacterial imidazolium compound that exists by being chemically bonded to a polymer chain so that antibacterial effect is maintained for a long time. A manufacturing process of the antibacterial coating is simple by inducing a thiol N bond using light irradiation, and a use of toxic organic solvents is unnecessary, thereby providing an eco-friendly antibacterial coating.
摘要翻译：本发明的抗菌咪唑化合物，光固化性涂料组合物和抗菌涂层含有化学式1表示的化合物或相同化合物的衍生物。关于化学式1中的X 1 - ，R 1'和R 2'的解释与本发明的详细描述中所述相同。抗菌咪唑化合物对各种菌株具有优异的抗菌作用，因此通过简单地加入到光固化性涂料组合物中可提供抗菌涂层。此外，抗菌涂层包括通过与聚合物链化学键合而存在的单体抗菌咪唑化合物，使得长时间保持抗菌效果。通过使用光照射诱导硫醇N键，抗菌涂层的制造工艺简单，并且不需要使用有毒有机溶剂，从而提供环保的抗菌涂层。

8. 发明公开

KR1020140045529A 아연 메틸이미다졸레이트로 구성된 다공성 금속-유기 골격체의 제조 방법 审中-实审
标题翻译：制备金属有机骨架的方法
公开(公告)号：KR1020140045529A
公开(公告)日：2014-04-16
申请号：KR1020147002963
申请日：2012-07-03
申请人： 바스프 에스이
发明人： 트루칸나탈리아 , 뮐러울리흐
IPC分类号： C07F3/06 , C07D233/58 , B01J31/18
CPC分类号： B01J31/1691 , B01J20/226 , B01J20/3085 , B01J31/181 , B01J2531/26 , C07D233/58
摘要： 본 발명은, 하나 이상의 금속 이온에 배위결합된 하나 이상의 이좌배위 이상의 유기 화합물을 포함하되, 상기 하나 이상의 금속 이온은 아연 이온이고, 상기 하나 이상의 이좌배위 이상의 유기 화합물은 2-메틸이미다졸에 기반하는, 다공성 금속-유기 골격체의 제조 방법에 관한 것으로서, 이때 상기 방법은 (a) 아연 이온을 포함하는 제 1 수계 용액을 2-메틸이미다졸을 포함하는 제 2 수계 용액에 첨가하고, 제 2 용액의 첨가 후에 현탁액이 형성되는 단계; 및 (b) 단계 (a)에서 형성된 현탁액에, 강 염기를 포함하는 제 3 용액을 첨가하는 단계를 포함한다.

9. 发明公开

KR1020130102266A 담지화된 이온성 액체상의 제조 无效
标题翻译：支持的离子液相的制备
公开(公告)号：KR1020130102266A
公开(公告)日：2013-09-17
申请号：KR1020120023370
申请日：2012-03-07
申请人： 주식회사 씨트리
发明人： 유정복 , 이덕희 , 육덕수 , 이주원 , 장국진 , 김현지 , 주소경 , 김완주
IPC分类号： C07F5/06 , C07D231/02 , C01F7/56 , B01J19/18
CPC分类号： B01J31/26 , C07D233/58 , C07F5/06
摘要： PURPOSE: A method for manufacturing a supported ionic liquid phase is provided to safely produce a supported ionic liquid. CONSTITUTION: A supported ionic liquid is prepared using 1-butyl-3-methylimidazolium chloride, AlCl_3, and TiCl_4. A method for manufacturing a supported ionic liquid phase comprises the steps of: separately concentrating the prepared ionic liquid by compression; and dissolving the ionic liquid in a solvent containing methylene chloride and water.
摘要翻译：目的：提供一种用于制造负载离子液相的方法以安全地产生负载的离子液体。构成：使用1-丁基-3-甲基咪唑氯化物AlCl 3和TiCl 4制备负载离子液体。负载离子液相的制造方法包括以下步骤：通过压缩分离浓缩所制备的离子液体; 并将离子液体溶解在含有二氯甲烷和水的溶剂中。

10. 发明公开

KR1020110124210A 유기 전계 발광 소자 无效
公开(公告)号：KR1020110124210A
公开(公告)日：2011-11-16
申请号：KR1020117017216
申请日：2010-01-21
申请人： 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤
发明人： 구라모찌,유스께 , 고바야시,노리후미 , 히가시무라,히데유끼
IPC分类号： C09K11/06 , H01L51/50
CPC分类号： C07D213/18 , C07D233/58 , C08G61/02 , C08G61/10 , C08G61/12 , C08G2261/312 , C08G2261/3142 , C08G2261/3162 , C08G2261/5242 , C09K11/06 , C09K2211/1029 , C09K2211/1044 , C09K2211/1466 , C09K2211/188 , H01L51/0035 , H01L51/0037 , H01L51/004 , H01L51/0091 , H01L51/5012 , H05B33/14 , H01L51/006
摘要： 본 발명은 양극 및 음극을 포함하는 1쌍의 전극 사이에 하기 화학식 (1)로 표시되는 금속 배위 화합물을 함유하는 유기층이 협지된 유기 전계 발광 소자에 관한 것이다.
ML
a X
b (1)
(식 중, M은 주기율표 제11족의 금속 이온이고, L은 하기 화학식 (2)로 표시되는 배위자이고, X는 음이온이고, a, b는 명세서에서 정의한 바와 같음)

(식 중, A는 하기 화학식 (3) 또는 하기 화학식 (4)로부터 수소 원자를 2개 제거한 2가의 기이고, D
1 , k
1 , m
1 , A, D
1 , Q
1 및 Q
2 는 명세서에서 정의한 바와 같음)

(식 중, X
1 , X
2 , X
3 , X
4 , X
5 , R
1 , R
5 , R
6 및 R
9 는 명세서에서 정의한 바와 같음).

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