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1. 发明公开

KR20180028039A 염 및 상기 염을 포함하는 포토레지스트 조성물 审中-公开
标题翻译：盐和光刻胶组合物含有该
公开(公告)号：KR20180028039A
公开(公告)日：2018-03-15
申请号：KR20170113541
申请日：2017-09-05
IPC分类号： C07C309/19 , G03F7/004 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/32
CPC分类号： C07C309/17 , C07C309/10 , C07C381/12 , C07C2603/74 , C07D307/77 , C07D317/72 , C07D319/08 , C07D321/10 , C07D327/04 , C07D327/06 , C07D327/08 , C07D333/46 , C07D335/02 , G03F7/0045 , G03F7/0384 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/325 , G03F7/38
摘要： 화학식 (I)로나타낸염:[식에서, R및 R는각각독립적으로 C6-C18 치환되지않은또는치환된방향족탄화수소기를나타내고, X은 C1-C12 2가지방족포화탄화수소기를나타내며, 상기탄화수소기내의메틸렌기는산소원자또는카르보닐기로치환될수 있고, A는유기음이온을나타냄].
摘要翻译：式（I）洛娜tanaen或其盐：[其中，R和R各自独立地为C6-C18表示未取代或取代的芳族烃基，X是C1-C12 2夹寄bangjok表示饱和的烃基，该烃基飞行亚甲基基团可以被氧原子或羰基取代，a表示的有机阴离子。

2. 发明授权

KR101680891B1 레지스트 조성물, 레지스트 패턴 형성 방법, 화합물, 산발생제 有权
标题翻译：形成耐药型化合物和酸生成剂的抗性组合物方法
公开(公告)号：KR101680891B1
公开(公告)日：2016-11-29
申请号：KR1020090063046
申请日：2009-07-10
申请人： 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤
发明人： 가와우에아키야 , 우츠미요시유키 , 세시모다케히로 , 나카무라츠요시 , 모토이케나오토 , 시미즈히로아키 , 마츠자와겐스케 , 하다히데오
IPC分类号： G03F7/004
CPC分类号： G03F7/0045 , C07C309/09 , C07C309/10 , C07C309/17 , C07C311/48 , C07C311/51 , C07C317/04 , C07C317/10 , C07C381/12 , C07C2601/14 , C07C2602/42 , C07C2603/74 , C07D307/92 , C07D307/94 , C07D493/18 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041 , Y10S430/12 , Y10S430/121 , Y10S430/122
摘要： 산의작용에의해알칼리현상액에대한용해성이변화되는기재성분 (A) 및노광에의해산을발생하는산발생제성분 (B) 를함유하는레지스트조성물로서, 상기산발생제성분 (B) 가하기일반식 (b1-11) 로나타내는화합물로이루어지는산발생제 (B1) 을함유하는레지스트조성물. 식 (b-11) 중, R∼ R는각각독립적으로아릴기또는알킬기이고, R∼ R중어느 2 개가서로결합하여식 중의황 원자와함께고리를형성하고있어도되고, R∼ R중적어도 1 개는치환기로서하기일반식 (I) 로나타내는기를갖는치환아릴기이고, 식 (I) 중의 R는불소화알킬기를나타낸다.
摘要翻译：一种抗蚀剂组合物，其包含：在酸的作用下在碱性显影液中表现出改变的溶解度的碱成分（A）和产生酸的酸发生剂组分（B），其中所述酸产生剂组分（B）包含酸产生剂（B1），其包含如下所示的由通式（b1-11）表示的化合物：其中R7“至 R9“各自独立地表示芳基或烷基，其中R7”至R9“中的两个可以彼此键合以形成具有硫原子的环，并且R 7”至R 9“中的至少一个表示取代的芳基具有下述通式（I）表示的基团作为取代基的基团; X-表示阴离子; Rf表示氟化烷基。

3. 发明授权

KR101663122B1 함불소 술폰산염류, 함불소 술폰산염 수지, 레지스트 조성물 및 그것을 사용한 패턴 형성 방법 有权
标题翻译：含有氟的含硫酸盐的含氟磺酸盐酸盐树脂组合物和使用其的图案形成方法
公开(公告)号：KR101663122B1
公开(公告)日：2016-10-06
申请号：KR1020147023610
申请日：2013-01-17
申请人： 샌트랄 글래스 컴퍼니 리미티드
发明人： 모리가즈노리 , 나리즈카사토루 , 하기와라유지 , 아메미야후미히로 , 후지와라마사키
IPC分类号： C08F20/38 , C08F20/22 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027 , C08F220/38 , C08F220/22
CPC分类号： G03F7/0397 , C07C303/22 , C07C309/10 , C07C381/12 , C07C2601/14 , C07C2602/42 , C07D307/20 , C07D307/93 , C07D327/04 , C08F220/38 , C08F222/14 , C08F222/18 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , G03F7/2002 , G03F7/2037 , G03F7/2041 , G03F7/30 , G03F7/38
摘要： 개시되어있는것은, 하기일반식 (3)으로나타내어지는반복단위를가지는함불소술폰산염수지이다. 식중, A는각각독립적으로수소원자, 불소원자또는트리플루오로메틸기를나타내고, n은 1∼10의정수를나타낸다. W는 2가의연결기, R은수소원자또는 1가의유기기, M는 1가의카티온을나타낸다. 이수지를포함하는레지스트조성물은감도, 해상도및 마스크패턴의재현성이더욱뛰어나고, 또한, LER가작은패턴을형성할수 있다.

4. 发明公开

KR1020150008410A 술포늄 화합물, 그의 제조법 및 용도 有权
标题翻译：磺化合物，其制备和使用
公开(公告)号：KR1020150008410A
公开(公告)日：2015-01-22
申请号：KR1020147032012
申请日：2013-04-17
申请人： 바스프 에스이
发明人： 쿠니모토,카주히코 , 쿠라,히사토시
IPC分类号： C08G59/68 , C08L63/00 , C09D11/02 , G03F7/004 , C08G59/40 , C07C381/12
CPC分类号： C08G59/62 , B05D3/007 , C07C309/08 , C07C309/10 , C07C2601/08 , C07C2601/14 , C07D307/10 , C07D309/08 , C07D333/46 , C08G59/4064 , C08L63/00 , C09D11/02 , C09D163/00 , C09J163/00 , G03F7/0045 , C08G59/68 , C07C381/12 , G03F7/004
摘要： 하기 화학식 I, Ia 또는 Ib의 화합물은 열산 발생제로서 적합하다.

상기 식에서,
A
1
- 및 A
- 는 예를 들어 이고, n은 1 또는 2이고; X는 C
1 -C
4 알킬렌 또는 CO이고; Y는 예를 들어 O, O(CO), O(CO)O이고, R
1 은 예를 들어 수소, C
1 -C
18 알킬, C
3 -C
30 시클로알킬, 페닐, 나프틸, 안트라실, 페난트릴, 비페닐릴, 플루오레닐 또는 C
3 -C
20 헤테로아릴이고, 이들 모두는 임의로 치환되고; R
2 및 R
3 은 예를 들어 임의로 치환된 C
1 -C
10 할로알킬렌이거나, 또는 R
2 및 R
3 은 임의로 치환된 페닐렌이고; R
4 는 기 (A) 또는 기 (B)이고; R
5 및 R
6 은 예를 들어 C
1 -C
20 알킬이거나; 또는 R
4 및 R
5 또는 R
4 및 R
6 은 함께 직쇄 C
2 -C
6 알킬렌을 형성하고, R
5
및 R
6 은 함께 직쇄 C
2 -C
6 알킬렌을 형성하고; R
7 , R
8 , R
9 및 R
10 은 예를 들어 C
1 -C
20 알킬이고; M은 예를 들어 C
1 -C
20 알킬렌, C
2 -C
20 알케닐렌, C
2 -C
20 알키닐렌이고; R
25 및 R
26 은 예를 들어 수소, C
1 -C
20 알킬이고; R
27 , R
28 , R
29 , R
30 및 R
31 은 예를 들어 수소, C
1 -C
20 알킬, C
2 -C
20 알케닐, C
3 -C
20 시클로알킬이거나, 또는 2개의 라디칼 R
27 및 R
28 , R
28 및 R
29 , R
29 및 R
30 및/또는 R
30 및 R
31 은 함께 직쇄 C
2 -C
6 알킬렌을 형성하거나, R
25 및 R
27 은 함께 1,2-페닐렌을 형성하고, R
33 및 R
34 는 예를 들어 수소, C
1 -C
20 알킬이고; R
35 , R
36 및 R
37 은 예를 들어 수소, C
1 -C
20 알킬이다.
摘要翻译：其中A1和A-为（II）的式（I），（Ia）或（Ib）的化合物为1或2; X是C 1 -C 4亚烷基或CO; Y是例如O，O（CO），O（CO）O，R 1例如是氢，d-ds烷基，C 3 -C 30环烷基，苯基，萘基，蒽基，菲基，联苯基，芴基或C 3 -C 20杂芳基，任选被取代; R2和R3例如是任选取代的C 1 -C 10卤代亚烷基，或者R 2和R 3是任选被取代的亚苯基; R4是一组（A）或一组（B）; R5和R6例如是C1-C20烷基; 或R 4和R 5或R 4和R 6一起形成直链C 2 -C 6亚烷基，R 5和R 6一起形成直链C 2 -C 6亚烷基; R 7，R 8，R 9和R 10如果为C 1 -C 20烷基; M例如是C 1 -C 20亚烷基，C 2 -C 20亚烯基，C 2 -C 20亚炔基; R 25和R 26是例如氢，C 1 -C 20烷基; R27，R28，R29，R30和R31是例如氢，C1-C20烷基，C2-C20链烯基，C3-C20环烷基或两个基团R27和R28，R28和R29，R29和R30和/或R30和R31一起形成直链链C 2 -C 6亚烷基或R 25和R 27一起形成1,2-亚苯基，R 33和R 34例如是氢，C 1 -C 20烷基; R 35，R 36和R 37例如是氢，C 1 -C 20烷基; 适合作为热酸发生器。

5. 发明公开

KR1020140145997A 술포네이트계 화합물 및 이를 이용한 고분자 전해질막 有权
标题翻译：使用磺酸盐的组合物和聚合物电解质膜
公开(公告)号：KR1020140145997A
公开(公告)日：2014-12-24
申请号：KR1020140071436
申请日：2014-06-12
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 김영제 , 신정규 , 유정은 , 정승표 , 이종찬
IPC分类号： C07F1/06 , C08G75/23 , C08J5/22 , H01M8/1016
CPC分类号： B01J31/0222 , C07C309/10 , C07F1/06 , C08J5/2262 , C08J2371/00 , C08J2371/12 , H01M8/1004 , H01M8/1048 , H01M2008/1095 , C08G75/23 , C08J5/2206
摘要： The present invention relates to: a sulfonate based-compound; a polymer electrolyte membrane using the same; a membrane electrode assembly including the same; and a fuel cell including the same. The present invention provides the sulfonate-based compound represented by Chemical Formula 1. In Chemical Formula 1, A1 to A4 are same with each other or different from each other and are independently halogen groups. The polymer electrolyte membrane manufactured by using the sulfonate-based compound easily forms a hydrophilic-hydrophobic phase separation structure.
摘要翻译：本发明涉及：磺酸酯基化合物; 使用其的高分子电解质膜; 包括该膜电极组件的膜电极组件; 和包括该燃料电池的燃料电池。本发明提供由化学式1表示的磺酸盐系化合物。在化学式1中，A1〜A4彼此相同或不同，为卤素基。通过使用磺酸酯系化合物制造的高分子电解质膜容易形成亲水 - 疏水相分离结构。

6. 发明公开

KR1020130106409A 함불소 술폰산염류, 광산발생제, 레지스트 조성물 및 그것을 사용한 패턴 형성 방법 有权
标题翻译：氟化磺酸钠，光酸发生器，耐蚀组合物和使用其的图案形成方法
公开(公告)号：KR1020130106409A
公开(公告)日：2013-09-27
申请号：KR1020137013573
申请日：2011-10-14
申请人： 샌트랄 글래스 컴퍼니 리미티드
发明人： 다키하나료조 , 나리즈카사토루
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027 , C07C309/10
CPC分类号： G03F7/027 , C07C303/32 , C07C309/06 , C07C309/10 , C07C309/12 , C07C309/16 , C07C309/19 , C07C381/12 , C07C2601/14 , C07C2603/74 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/2041 , Y10S430/111 , Y10S430/122 , Y10S430/123 , G03F7/004 , G03F7/033
摘要： A resist composition according to the present invention includes at least a base resin, a photoacid generator and a solvent, wherein the photoacid generator comprises a fluorine-containing sulfonic acid salt of the following general formula (4). In the formula, X independently represents a hydrogen atom or a fluorine atom; n represents an integer of 1 to 6; R1 represents a hydrogen atom, or an alkyl, alkenyl, oxoalkyl, aryl or aralkyl group; any of hydrogen atoms on carbons in R1 may be substituted with a substituent; R2 represents RAO or RBRCN; and A represents a divalent group. This fluorine-containing sulfonic acid salt can serve as a photoacid generator having high solubility in a resist solvent and thus can suitably be used for a resist composition such that the resist composition shows high resolution, wide DOF, small LER and high sensitivity to form a good pattern shape in lithographic processes.

7. 发明公开

KR1020130028006A 함불소 술폰산염 수지, 레지스트 조성물, 패턴 형성 방법, 중합성 함불소 술폰산염, 중합성 함불소 술폰산 및 중합성 함불소 술폰산오늄염의 제조 방법 有权
标题翻译：含氟磺酸盐，含氟磺酸盐树脂，耐酸性组合物和使用其的图案形成方法
公开(公告)号：KR1020130028006A
公开(公告)日：2013-03-18
申请号：KR1020120098241
申请日：2012-09-05
申请人： 샌트랄 글래스 컴퍼니 리미티드
发明人： 모리가즈노리 , 나리즈카사토루 , 아메미야후미히로 , 후지와라마사키
IPC分类号： C08G75/24 , C08L81/08 , G03F7/004 , G03F7/26
CPC分类号： G03F7/0045 , C07C309/10 , C07C2601/08 , C07C2601/14 , C07C2601/18 , C07C2603/74 , C08F28/04 , C08F220/24 , C08F220/28 , C08F220/38 , C08F222/14 , C08F222/18 , C08F228/04 , C08F2220/382 , G03F7/004 , G03F7/0041 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , G03F7/20 , G03F7/2039 , G03F7/2041 , G03F7/30 , C07C303/22 , C08G75/24 , C08L81/08 , G03F7/202 , G03F7/26
摘要： PURPOSE: A perfluorinated sulfonic salt resin is able to express the high degree of sensitivity, the high resolution, the high reproducibility of mask pattern and the low line edge roughness by regularly including the region that has a mine file generation function and the region in which the solubility to the developing solution is changed by the reaction of acid. CONSTITUTION: A perflorinated sulfonic salt resin has the repetitive unit of following chemical formula 3. In the chemical formula 3, A is hydrogen, fluoride, or trifluoromethyl group, n is integer ranged from 1 to 10, W is a linker with two functional group, R^1 is acid labile group, M^+ is a cation with one functional group. The resist composition includes the perfluorinated sulfonate salt resin and a solvent. A pattern producing method comprises a process that spreads the resist composition on a circuit board; a process that exposes the resist composition in the light after heating treatment; and a process that developes the heated material after treating the light exposed material with heat when it is needed.
摘要翻译：目的：全氟化磺酸盐树脂通过定期地包括具有矿山文件生成功能的区域，能够表现出高度的灵敏度，高分辨率，掩模图案的高再现性和低的线边缘粗糙度，其中通过酸的反应来改变对显影液的溶解度。构成：一种经过磺化的磺酸盐树脂具有以下化学式3的重复单元。在化学式3中，A为氢，氟，或三氟甲基，n为1至10的整数，W为具有两个官能团 R ^ 1是酸不稳定基团，M ^ +是具有一个官能团的阳离子。抗蚀剂组合物包括全氟化磺酸盐树脂和溶剂。图案制造方法包括将抗蚀剂组合物铺展在电路板上的工艺; 在加热处理后使光刻胶组合物曝光的工序; 以及在需要时用热处理曝光材料后，开发加热材料的工艺。

8. 发明公开

KR1020110086151A 플루오로알킬 에테르 설포네이트 계면활성제 无效
标题翻译：氟代醇醚磺酸酯表面活性剂
公开(公告)号：KR1020110086151A
公开(公告)日：2011-07-27
申请号：KR1020117013367
申请日：2009-11-11
申请人： 이 아이 듀폰 디 네모아 앤드 캄파니
发明人： 펭,셍 , 헝,밍-홍 , 정크,크리스토퍼,피. , 탕,판,린
IPC分类号： C07C309/10 , C08F14/18 , C11D1/14
CPC分类号： C07C309/10 , A61K8/466 , A61Q19/00 , C08F214/18 , C11D1/004
摘要： 화학식 (1)의 화합물:
R
f -O-(CXX')
m -(CY
2 )
n SO
3 M (1)
화학식 (2)에서,
선형 또는 분지형 퍼플루오로알킬기,
X 및 X'는 각각 독립적으로 H 또는 F이되, 단, X 또는 X' 중 적어도 하나는 F이며,
각 Y는 독립적으로 H 또는 F이고,
m은 1 내지 4의 정수이며,
n은 1 내지 2의 정수이고,
M은 H, NH
4 , Li, Na 또는 K이되,
단, CXX'가 CHF 또는 CFH이면, n은 2이다.

9. 发明公开

KR1020080016937A 플루오로비닐 에테르로부터의 히드로플루오로알칸술폰산 및염 无效
标题翻译：氟代脂肪酸和氟烷基醚的盐
公开(公告)号：KR1020080016937A
公开(公告)日：2008-02-22
申请号：KR1020087000218
申请日：2006-06-07
申请人： 이 아이 듀폰 디 네모아 앤드 캄파니
发明人： 정크,크리스토퍼,피. , 하머,마크,앤드류 , 페이링,앤드류,에드워드 , 스카트,프랑크,레너드,3세 , 슈네프,조
IPC分类号： C07C309/10 , C07C303/32 , C07C381/12 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/0045 , C07C303/32 , C07C309/10 , C07C381/12 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/0047
摘要： Hydrofluoroalkanesulfonates of the general formula R-O-CXH-CX 2-SO3M, where R is selected from the group consisting of alkyl groups, functionalized alkyl groups, and alkenyl groups; X is selected from the group consisting of hydrogen and fluorine with the proviso that at least one X is fluorine; and M is a cation, are made by reacting fluorovinyl ether with aqueous sulfite solution. Organic onium hydrofluoroalkanesulfonates are useful as ionic liquids and photoacid generators.
摘要翻译：通式为R-O-CXH-CX 2-SO 3 M的氢氟烷基磺酸盐，其中R选自烷基，官能化烷基和链烯基; X选自氢和氟，条件是至少一个X是氟; 并且M是阳离子，通过使氟乙烯基醚与亚硫酸盐水溶液反应而制成。有机鎓氢氟烷基磺酸盐可用作离子液体和光酸产生剂。

10. 发明公开

KR1020050052465A 차량 및 차량 문짝 无效
标题翻译：一辆车和一个车门
公开(公告)号：KR1020050052465A
公开(公告)日：2005-06-02
申请号：KR1020057002274
申请日：2003-08-08
申请人： 게스탐프 하르트테크 아베
发明人： 보댕,한스 , 욘슨,마르탱 , 크리스핀슨,얀 , 비크스트룀,라르스
IPC分类号： B60J5/04
CPC分类号： C07C323/52 , B60J5/0448 , B60J5/0455 , B60J5/0458 , C07C217/28 , C07C229/12 , C07C291/04 , C07C309/10 , C07C309/14
摘要： A vehicle door has a supporting frame (10) substantially in the form of a rectangular annular hat beam (13-16) of high-strength steel, which, with its outer side flange (17), carries the outer panel (28) of the door and has its crown (12) towards the vehicle interior. The lower rear portion of the outer side flange (17) has a bolt 832) arranged to fit in a hole (35) in the pillar (34). In case of a side impact, the bolt will make the pillar participate in the energy absorption. The frame (10) is comparatively shallow and it can therefore have a high yield strength and all the other elements of the door can be mounted on the inside of the frame, which make them easily available for service.
摘要翻译：车门具有基本上为高强度钢的矩形环形帽梁（13-16）形式的支撑框架（10），其外侧凸缘（17）将外板（28）承载在外板门，并有其冠（12）朝向车内。外侧凸缘（17）的下后部具有螺栓832），螺栓832）被布置成装配在柱（34）中的孔（35）中。在侧面碰撞的情况下，螺栓将使支柱参与能量吸收。框架（10）较浅，因此具有高屈服强度，并且门的所有其他元件可以安装在框架的内部，这使得它们易于使用。

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