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    • 4. 发明公开
    • MEMS 마이크, 압력 센서 집적 구조 및 그 제조 방법
    • MEMS麦克风,压力传感器一体结构及其制造方法
    • KR1020170094428A
    • 2017-08-17
    • KR1020177019456
    • 2015-12-14
    • 고어텍 인크
    • 순,얀메이
    • H04R31/00H04R19/00H04R19/04B81C1/00
    • B81B7/02B81B2201/0257B81B2201/0264B81C1/00158B81C2201/0105B81C2201/013G01L7/08H04R19/005H04R19/04H04R31/00H04R2201/003H04R31/006B81C1/00301
    • 본발명은 MEMS 마이크, 압력센서집적구조및 그제조방법을개시한다. 공용기판에서순차적으로절연층, 제1다결정실리콘층, 희생층과제2다결정실리콘층을퇴적시키고; 제2다결정실리콘층을에칭하여진동막, 상부전극을형성하며; 희생층을부식하여마이크, 압력센서의사각공동을형성하고, 마이크, 압력센서사이의희생층을에칭하며; 제1다결정실리콘층을에칭하여마이크의배극및 압력센서의하부전극을형성하고; 공용기판의마이크배극아래측에위치하는위치를에칭하여백 공동을형성하고; 배극아래측에위치하는절연층을에칭한다. 마이크의콘덴서구조, 압력센서의콘덴서구조를공용기판에집적하여, 마이크와압력센서의집적도를향상시키고, 패키지구조전체의사이즈를크게줄일수 있으며, 또한, 공용기판에서동시에마이크와압력센서를제조할수 있고생산효율을향상시킨다.
    • 本发明公开了一种MEMS麦克风,压力传感器一体结构及其制造方法。 在共同的衬底上依次沉积绝缘层,第一多晶硅层和牺牲层任务2多晶硅层; 蚀刻第二多晶硅层以形成隔膜和上电极; 蚀刻牺牲层以形成麦克风和压力传感器的方形空腔,蚀刻麦克风和压力传感器之间的牺牲层; 蚀刻第一多晶硅层以形成偶极子的下电极和麦克风的压力传感器; 通过蚀刻位于公共基板的麦克风基板下侧的位置来形成后腔; 位于阳极下侧的绝缘层被蚀刻。 到麦克风电容器结构中,在公共衬底中的压力传感器的集成电容结构,改善了麦克风的集成度和压力传感器和的程度,并以显著减小封装结构的整体尺寸,并且,在同一时间产生一个麦克风和在共用基板的压力传感器 并提高生产效率。