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1. 发明公开

KR1020170023396A 플라즈마 에칭을 이용한 반사방지 표면의 제조방법 및 반사방지 표면이 형성된 기판 审中-实审
标题翻译：使用等离子体蚀刻制备抗反射表面的方法和具有抗反射表面的基板
公开(公告)号：KR1020170023396A
公开(公告)日：2017-03-03
申请号：KR1020160106210
申请日：2016-08-22
申请人： 주식회사 쎄코 , 한국기계연구원
发明人： 김현중 , 김홍철 , 김정래 , 최병경 , 왕홍래 , 권아현 , 신동현 , 이성도 , 나종주 , 권정대
IPC分类号： H01L21/3065 , H01L31/0216 , H01L21/56
CPC分类号： H01L21/3065 , H01L21/56 , H01L31/0216
摘要： 본발명은플라즈마건식에칭과무기물증착의반복적인제어를통해형성되는반사방지구조층을다양한구조로제어함으로써내구성향상과우수한광 투과성및 반사방지효과를확보할수 있고, 이지클린, 내오염성, 내스크래치성등과같은기능성을부여할수 있는반사방지표면의제조방법및 반사방지표면이형성된기판에관한것이다.
摘要翻译：本发明涉及一种抗反射表面的制造方法，其通过反复等离子体干蚀刻和无机沉积的控制形成各种结构来控制抗反射结构层，从而提高耐久性并确保优异的耐候性透光性和抗反射效果，同时赋予容易清洁，耐污染，耐划伤等功能; 以及在其上形成有抗反射表面的基板。

2. 发明授权

KR101954410B1 플라즈마 에칭을 이용한 반사방지 표면의 제조방법 및 반사방지 표면이 형성된 기판 有权
公开(公告)号：KR101954410B1
公开(公告)日：2019-03-06
申请号：KR1020160106210
申请日：2016-08-22
申请人： 주식회사 쎄코 , 한국기계연구원
发明人： 김현중 , 김홍철 , 김정래 , 최병경 , 왕홍래 , 권아현 , 신동현 , 이성도 , 나종주 , 권정대
IPC分类号： H01L21/3065 , H01L31/0216 , H01L21/56

3. 发明公开

KR1020150095972A 클리닝 가스 순환 장치, 증착 장비 및 상압 화학기상증착 장비 无效
标题翻译：清洁气体循环装置，化学蒸气沉积装置和大气压力化学气相沉积装置
公开(公告)号：KR1020150095972A
公开(公告)日：2015-08-24
申请号：KR1020140016196
申请日：2014-02-12
申请人： 한국기계연구원
发明人： 권정대 , 남기석 , 나종주 , 김동호 , 정용수 , 조병진 , 함명관 , 송명관
IPC分类号： C23C16/44 , C23C16/455
CPC分类号： C23C16/4401
摘要： 본 발명은 클리닝 가스를 챔버 내부에 골고루 공급할 수 있는 클리닝 가스 순환 장치, 증착 장비 및 상압 화학기상증착 장비에 관한 것으로서, 증착 장비의 챔버의 일부분에 형성된 클리닝 가스 투입구에 설치되고, 클리닝 가스를 챔버 내부로 공급하는 클리닝 가스 공급관; 상기 챔버의 타부분에 형성된 클리닝 가스 배출구에 설치되고, 챔버 내부의 클리닝 가스를 배출하는 클리닝 가스 배출관; 상기 클리닝 가스 공급관과 상기 클리닝 가스 배출관을 연결시키는 클리닝 가스 순환관; 및 상기 클리닝 가스 순환관에 설치되고, 상기 클리닝 가스를 정제하는 클리닝 가스 정제 필터;를 포함하고, 상기 챔버 내부에서 클리닝 가스의 이동 경로가 길어지도록 상기 클리닝 가스 투입구는 상기 챔버의 상부의 제 1 모서리부, 제 2 모서리부, 제 3 모서리부 및 제 4 모서리부 중에서 어느 일 모서리부 근방에 설치되고, 상기 클리닝 가스 배출구는 상기 챔버의 하부의 제 5 모서리부, 제 6 모서리부, 제 7 모서리부 및 제 8 모서리부 중에서 상기 일 모서리부와 3차원 대각선 방향으로 반대편에 위치하는 다른 모서리부에 설치되는 것일 수 있다.
摘要翻译：清洗气体循环装置，沉积装置和大气压化学气相沉积装置技术领域本发明涉及清洗气体循环装置，沉积装置和大气压化学气相沉积装置该装置包括：清洁气体供给管，其安装在形成在沉积装置的室的一部分中的清洗气体入口处，并将清洁气体供应到室中; 清洁气体排出管，其安装在形成在所述室的另一部分中的清洗气体出口处，并且将所述清洁气体从所述室排出; 清洁气体循环管，其将清洁气体供给管与清洁气体排出管连接; 以及安装在清洗气体循环管上的净化气体净化过滤器，净化清洗气体。清洁气体入口安装在室的上部的第一，第二，第三和第四角之间的一个周围，以便延长腔室中的清洁气体的运动路径，并且清洁气体出口安装在拐角，放置在3D对角线方向的相对侧，在腔室的下部的第五，第六，第七和第八角中。

4. 发明授权

KR101293205B1 나노 딤플 패턴의 형성방법 및 나노 구조물 有权
标题翻译：形成纳米凹坑图案和纳米结构的方法
公开(公告)号：KR101293205B1
公开(公告)日：2013-08-05
申请号：KR1020110013045
申请日：2011-02-15
申请人： 한국기계연구원
发明人： 나종주 , 김완두 , 임현의 , 배종수
IPC分类号： C03C15/00 , C03C23/00 , B44C1/22
摘要： 마스크층을 식각 보호층으로 이용하는 나노 딤플 패턴의 형성방법 및 이로부터 제조된 나노 구조물이 제공된다. 일 실시예에 따르면, 기판 상에 폴리머 입자들을 갖는 마스크층을 형성한다. 상기 마스크층은 상기 폴리머 입자들 사이로 상기 기판을 노출하는 개구를 갖는다. 상기 마스크층을 식각 보호층으로 이용하여 상기 개구로부터 노출된 상기 기판의 표면을 선택적으로 식각하여, 상기 기판 상에 나노 딤플 패턴을 형성한다.

5. 发明授权

KR101073701B1 태양전지에 사용되는 반사방지막 표면에 나노돌기를 형성하는 방법 및 태양전지 반사방지막의 투과율을 증진시키는 방법 有权
标题翻译：在太阳能电池中使用的防反射膜上制备纳米草皮的方法以及提高太阳能电池防反射膜的透过率的方法
公开(公告)号：KR101073701B1
公开(公告)日：2011-10-14
申请号：KR1020090085734
申请日：2009-09-11
申请人： 한국기계연구원
发明人： 나종주 , 이구현 , 정용수 , 김완두
IPC分类号： H01L31/04
CPC分类号： H01L31/02168 , H01L31/02366 , Y02E10/50
摘要： 본발명은태양전지에사용되는반사방지막표면에나노돌기를형성하는방법및 태양전지반사방지막의투과율을증진시키는방법에관한것으로, 더욱상세하게는유리에투명폴리머필름을부착시키는단계(단계 1); 상기단계 1에서제조된유리를챔버내부에구비된전극상측에설치하고진공분위기또는대기분위기를조성하는단계(단계 2); 및상기단계 2의분위기에서전극에전원을공급하여플라즈마를발생시켜유리표면에부착된투명폴리머필름을에칭하여원뿔형상의나노돌기를형성하는단계(단계 3)를포함하는태양전지에사용되는반사방지막표면에나노돌기를형성하는방법및 태양전지반사방지막표면에나노돌기를도입하여입사되는빛의굴절률이변경되도록제어함으로써빛이반사되는것을방지하여태양전지반사방지막의투과율을증진시키는방법에관한것이다. 본발명에따른태양전지에사용되는반사방지막표면에나노돌기를형성하는방법은투명한폴리머필름을먼저유리에부착함으로써나노돌기형성에안정성을확보할수 있고, 플라즈마를이용하여제조공정이간단하며, 태양전지에원뿔형상의나노돌기가도입되어빛을굴절률이변경되도록제어함으로써빛이반사되는것을방지하므로, 태양전지의광효율을증진시키는데유용하게이용할수 있다.

6. 发明公开

KR1020100095851A 도전성 패턴 형성 방법 및 그 패턴 无效
标题翻译：电导线图案及其相似图案
公开(公告)号：KR1020100095851A
公开(公告)日：2010-09-01
申请号：KR1020090014864
申请日：2009-02-23
申请人： 한국기계연구원
发明人： 노지환 , 이제훈 , 나종주
IPC分类号： H01L21/3205 , H01L21/288
CPC分类号： H01L21/268 , H01L21/288 , H01L21/324
摘要： PURPOSE: A method for forming a conductive pattern and the pattern are provided to thicken the thickness of a conductive layer within a limited width range by forming a conductive layer by filling conductive materials in a patterned groove. CONSTITUTION: A fine uneven part(11) is formed on the surface of a film with non-conductivity. A hydrophobic layer(20) is formed by coating hydrophobic materials on the surface of the film. The thickness of the hydrophobic layer and the film is removed with a laser and a groove(30) with a hydrophilic property is patterned. A conductive material solution is filled in the groove by dipping the film in the conductive material solution. A first conductive layer is formed on the groove with the conductive material by drying and plasticizing the film.
摘要翻译：目的：提供形成导电图案的方法和图案，以通过在图案化的凹槽中填充导电材料形成导电层来在有限的宽度范围内增厚导电层的厚度。构成：在非导电性的膜的表面上形成微细的凹凸部（11）。通过在膜的表面上涂覆疏水性材料形成疏水层（20）。用激光去除疏水层和膜的厚度，并对具有亲水性的凹槽（30）进行图案化。通过将膜浸入导电材料溶液中将导电材料溶液填充在凹槽中。通过干燥和塑化膜，在沟槽上形成第一导电层与导电材料。

7. 发明授权

KR100711619B1 마이크로 디바이스용 극저마찰 탄소보호막 및 그 제조방법 有权
标题翻译：用于微器件的超低摩擦碳膜和相同的方法
公开(公告)号：KR100711619B1
公开(公告)日：2007-04-30
申请号：KR1020050067878
申请日：2005-07-26
申请人： 한국기계연구원
发明人： 나종주 , 이구현 , 남기석 , 권식철
IPC分类号： C23C16/26
摘要： 본 발명은 마찰계수가 낮으면서도 충분한 내마모성을 구비하고 있는 마이크로 디바이스용 극저마찰 탄소보호막 및 그 제조방법에 관한 것으로, 순수한 탄소를 이용한 카본박막 제조공정에 의해 제조되고 다이아몬드 구조와 흑연 구조가 소정의 비율로 혼재된 비정질상으로 이루어지고; 라만분석에서 D-peak의 위치가 1390±10㎝
-1 , G-peak의 위치가 1580±20㎝
-1 , I
D /I
G 가 1.2~2를 만족하며; 경도 2~30㎬, 잔류응력 10㎫~2㎬, 표면조도 0.4~6.0㎚, 탄성계수 10~270㎬, 전기저항 1~100mΩ-㎝의 범주에 속하는 것이며, 전압밀도 4.4~13.2W/㎠, 기판온도 상온~400℃, 아르곤(Ar) 압력 1~10mTorr의 조건에서 탄소를 스퍼터링 타겟으로 하여, 상기 기판의 온도와 바이어스 전압을 변화시키면서 기판에 펄스 RF 바이어스를 인가하여 DLC(Diamond Like Carbon)박막과 흑연박막이 혼합된 다층박막을 형성한다.
따라서, 마찰계수가 낮아 마이크로 디바이스 제품의 작동성능을 저해하지 않고 높은 내마모성에 의해 제품의 수명이 길어지며 물에 대한 높은 접촉각으로 인해 습식공정 후에도 물이 거의 남지 않게 되므로 부품간 응착이 일어나지 않게 된다.
마이크로 디바이스, 보호막, 내마모성, 라만분석, 비정질, 스퍼터링, DLC박막, 흑연박막, 마찰계수, 접촉각

8. 发明授权

KR100304832B1 다이아몬드 공구의 절삭 및 연마 특성 개선방법 및 이에 따라제조된 절삭 및 연마 특성이 우수한 다이아몬드 공구 失效
标题翻译：一种改进钻石工具切割和研磨性能的方法
公开(公告)号：KR100304832B1
公开(公告)日：2001-09-24
申请号：KR1019990036124
申请日：1999-08-28
申请人： 한국기계연구원
发明人： 나종주 , 이상로 , 이구현 , 남기석
IPC分类号： C23C14/06
摘要： 본발명은드릴이나휠, 연마디스크와같이다이아몬드를코팅한다이아몬드공구의표면에저마찰재료인흑연, PTFE, MoS, WS,다이아몬드상카본(DLC;Diamond Like Carbon)등의박막층을형성하여절삭성능및 연마성능을향상시킬수 있도록한 다이아몬드공구의절삭및 연마특성개선방법및 이에따라제조된절삭및 연마특성이우수한다이아몬드공구에관한것이다. 본발명에의하면 0.1∼100㎛의 중심선평균거칠기를갖는다이아몬드공구의표면에, 평균입경 0.01∼10㎛크기의흑연, PTFE, MoS, WS, DLC 분말을단독또는 2종이상혼합한혼합분말을 0.5 ㎛이하의두께로서버니싱, 또는진공증착에의해코팅하는것을특징으로하는다이아몬드공구의절삭및 연마특성개선방법및 이러한방법에의해제조된절삭및 연마특성이우수한다이아몬드공구가제공된다.

9. 发明授权

KR102085747B1 불화물 결합제로 인해 광 투과도가 향상된 반사 방지막 有权
公开(公告)号：KR102085747B1
公开(公告)日：2020-03-06
申请号：KR1020180122142
申请日：2018-10-12
申请人： 한국기계연구원
发明人： 김영국 , 나종주 , 송병관 , 정재용
IPC分类号： G02B1/04 , G02B1/10 , G02B3/00

10. 发明公开

KR1020170135334A 물질막 형성 방법 无效
公开(公告)号：KR1020170135334A
公开(公告)日：2017-12-08
申请号：KR1020160067097
申请日：2016-05-31
申请人： 한국기계연구원
发明人： 권정대 , 조병진 , 이규환 , 남기석 , 나종주 , 최선영
IPC分类号： C23C16/455 , C23C16/458
摘要： 본발명은폴리머기판상에버퍼층을형성하는단계, 상기버퍼층상에몰리브덴또는산화몰리브덴을함유하는예비층을형성하는단계및 황화수소를함유하는분위기에서상기예비층에대하여플라즈마처리를수행하여이황화몰리브덴층을형성하는단계를포함하는물질막형성방법을제공한다.

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