基本信息:
- 专利标题： 나노 딤플 패턴의 형성방법 및 나노 구조물
- 专利标题（英）：Method of forming nano dimple pattern and nanostructure
- 专利标题（中）：形成纳米凹坑图案和纳米结构的方法
- 申请号：KR1020110013045 申请日：2011-02-15
- 公开(公告)号：KR101293205B1 公开(公告)日：2013-08-05
- 发明人： 나종주 , 김완두 , 임현의 , 배종수
- 申请人： 한국기계연구원
- 申请人地址： 대전광역시 유성구 가정북로 *** (장동)
- 专利权人： 한국기계연구원
- 当前专利权人： 한국기계연구원
- 当前专利权人地址： 대전광역시 유성구 가정북로 *** (장동)
- 代理人： 김남식; 이인행; 양기혁; 한윤호
- 主分类号： C03C15/00
- IPC分类号： C03C15/00 ; C03C23/00 ; B44C1/22
摘要：
마스크층을 식각 보호층으로 이용하는 나노 딤플 패턴의 형성방법 및 이로부터 제조된 나노 구조물이 제공된다. 일 실시예에 따르면, 기판 상에 폴리머 입자들을 갖는 마스크층을 형성한다. 상기 마스크층은 상기 폴리머 입자들 사이로 상기 기판을 노출하는 개구를 갖는다. 상기 마스크층을 식각 보호층으로 이용하여 상기 개구로부터 노출된 상기 기판의 표면을 선택적으로 식각하여, 상기 기판 상에 나노 딤플 패턴을 형성한다.
摘要（英）：
The nano-structure forming a mask layer formed from this method and the dimple pattern using a nano-etching protection layer is provided. According to one embodiment, to form a mask layer having the polymer particles on the substrate. The mask layer has an opening exposing the substrate between said polymer particles. And by using the mask layer as an etch protection layer selectively etching the surface of the substrate exposed through the opening, to form a nano-dimple pattern on the substrate.
公开/授权文献:
- KR1020120093470A 나노 딤플 패턴의 형성방법 및 나노 구조물 公开/授权日：2012-08-23
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C03 | 玻璃；矿棉或渣棉 |
| ----C03C | 玻璃、釉或搪瓷釉的化学成分；玻璃的表面处理；由玻璃、矿物或矿渣制成的纤维或细丝的表面处理；玻璃与玻璃或与其他材料的接合 |
| ------C03C15/00 | 纤维和丝之外的蚀刻法玻璃表面处理 |