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    • 3. 发明公开
    • 감광성 수지 조성물 및 이로부터 제조된 절연막
    • 由此产生的光电组合物和绝缘层
    • KR1020130078559A
    • 2013-07-10
    • KR1020110147574
    • 2011-12-30
    • 주식회사 삼양사
    • 김도김준영최정식한미정박찬무김학준임경진김지혜이건표
    • G03F7/075G03F7/004
    • G03F7/075G03F7/004G03F7/0043G03F7/0045G03F7/0047
    • PURPOSE: A photosensitive resin composition is provided to facilitate to form positive or negative patterns as the dielectric constant is low, and the water-development of siloxane resin itself is possible, and to have excellent transparency and heat resistance. CONSTITUTION: A photosensitive resin composition comprises siloxane resin formed by including a first organic silane monomer represented by Chemical formula 1, and a second organic silane monomer represented by Chemical formula 2; a photoresist; and an organic solvent. The siloxane resin includes 10-90 parts by weight of the first organic silane monomer and 90-10 parts by weight of the second organic silane monomer. The acid value of the siloxane resin is 10-300 mgKOH/g. The content of the photoresist is 1-50 parts by weight to 100.0 parts by weight of the siloxane resin.
    • 目的:提供一种感光性树脂组合物,以便于介电常数低,形成正型或负型,并且硅氧烷树脂本身的水显影是可能的,并且具有优异的透明性和耐热性。 构成:感光性树脂组合物包含由化学式1表示的第一有机硅烷单体和由化学式2表示的第二有机硅烷单体形成的硅氧烷树脂。 光致抗蚀剂; 和有机溶剂。 硅氧烷树脂包括10-90重量份的第一有机硅烷单体和90-10重量份的第二有机硅烷单体。 硅氧烷树脂的酸值为10-300mgKOH / g。 光致抗蚀剂的含量为1-50重量份至100.0重量份的硅氧烷树脂。
    • 4. 发明公开
    • 액정디스플레이 패널용 블랙매트릭스 포토레지스트 조성물
    • 用于液晶显示面板的黑色矩阵光电组合物
    • KR1020160056836A
    • 2016-05-20
    • KR1020150158807
    • 2015-11-12
    • 주식회사 삼양사
    • 오천림김학준최정식김태운안정민이건표조용일
    • G03F7/028G03F7/027G03F7/00G03F7/004
    • 본발명은우수한광중합개시제의사용으로액정디스플레이패널의투과율에영향을미치지않으며블랙매트릭스박막의반사율의감소효과와색차발생의저해현상을억제하고아울러심부경화가유리하여패턴형성에유리한점 등을지니는액정디스플레이패널용블랙매트릭스포토레지스트조성물에관한것으로, 상세하게는본 발명에광중합개시제로사용한옥심에스테르플루오렌유도체화합물은하기화학식 1로표시되는것을특징으로한다. [화학식 1]상기화학식 1에서 A와 R내지 R및 n은각각발명의상세한설명에서정의한바와같다.
    • 本发明涉及一种用于液晶显示面板的黑色基质光致抗蚀剂组合物,其使用优异的光聚合引发剂来降低黑色矩阵薄膜的反射率,抑制色差产生的降解并促进芯固化和图案化, 同时不影响液晶显示面板的透射。 更具体地说,本发明中使用的光聚合引发剂是由下述化学式1表示的肟酯芴衍生物化合物。在化学式1中,R 1〜R 3各自独立地表示H,卤素,(C 1 -C 20)烷基, (C 1 -C 20)芳基,(C 1 -C 20)烷氧基,(C 6 -C 20)芳基(C 1 -C 20)烷基,羟基(C 1 -C 20)烷基,羟基(C 1 -C 20) C3-C20)环烷基; A是H,(C 1 -C 20)烷基,C(C 6 -C 20)芳基,(C 1 -C 20)芳基(C 1 -C 20)烷基,羟基(C 1 -C 20)烷基,羟基(C 1 -C 20) -C 20)烷基,(C 3 -C 20)环烷基,氨基,硝基,氰基或羟基; n为0或1。