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    • 1. 发明公开
    • 감광성 수지 조성물 및 이로부터 제조된 절연막
    • 由此产生的光电组合物和绝缘层
    • KR1020130078559A
    • 2013-07-10
    • KR1020110147574
    • 2011-12-30
    • 주식회사 삼양사
    • 김도김준영최정식한미정박찬무김학준임경진김지혜이건표
    • G03F7/075G03F7/004
    • G03F7/075G03F7/004G03F7/0043G03F7/0045G03F7/0047
    • PURPOSE: A photosensitive resin composition is provided to facilitate to form positive or negative patterns as the dielectric constant is low, and the water-development of siloxane resin itself is possible, and to have excellent transparency and heat resistance. CONSTITUTION: A photosensitive resin composition comprises siloxane resin formed by including a first organic silane monomer represented by Chemical formula 1, and a second organic silane monomer represented by Chemical formula 2; a photoresist; and an organic solvent. The siloxane resin includes 10-90 parts by weight of the first organic silane monomer and 90-10 parts by weight of the second organic silane monomer. The acid value of the siloxane resin is 10-300 mgKOH/g. The content of the photoresist is 1-50 parts by weight to 100.0 parts by weight of the siloxane resin.
    • 目的:提供一种感光性树脂组合物,以便于介电常数低,形成正型或负型,并且硅氧烷树脂本身的水显影是可能的,并且具有优异的透明性和耐热性。 构成:感光性树脂组合物包含由化学式1表示的第一有机硅烷单体和由化学式2表示的第二有机硅烷单体形成的硅氧烷树脂。 光致抗蚀剂; 和有机溶剂。 硅氧烷树脂包括10-90重量份的第一有机硅烷单体和90-10重量份的第二有机硅烷单体。 硅氧烷树脂的酸值为10-300mgKOH / g。 光致抗蚀剂的含量为1-50重量份至100.0重量份的硅氧烷树脂。
    • 8. 发明授权
    • 고내열성 네거티브 레지스트 조성물
    • 具有高耐热性的负型抗蚀剂组合物
    • KR101406298B1
    • 2014-06-12
    • KR1020120158053
    • 2012-12-31
    • 주식회사 삼양사
    • 김도김준영최정식
    • G03F7/004G03F7/075
    • 본 발명은 고내열성 네거티브 레지스트 조성물에 관한 것이다. 본 발명의 네거티브 레지스트 조성물은, (a) 불포화 카르복시산, 불포화 카르복시산 무수물, 또는 이들의 혼합물로부터 유도되는 반복 단위; (b) 실세스퀴옥세인 말레이미드계 단량체로부터 유도되는 반복 단위; (c) 에폭시계 불포화 단량체로부터 유도되는 반복 단위; (d) 실란계 불포화 단량체로부터 유도되는 반복 단위; 및 (e) 아크릴계 불포화 단량체로부터 유도되는 반복 단위;를 포함하는 아크릴계 공중합체 5 내지 60 중량%; 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 다관능성 단량체 2 내지 50 중량%; 광개시제 1 내지 35 중량%; 및 유기용매 10 내지 90 중량%를 포함한다. 본 발명의 고내열성 네거티브 레지스트 조성물은 알칼리 현상액으로 현상되어 패턴 형성이 용이하며, 내열성 및 투과도가 우수하여 고온 공정에서 황변에 대한 내성이 특히 우수하다.