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1. 发明公开

KR1020040012298A 퓸드 실리카 입자로 표면 처리된 격벽 분말을 포함하는감광성 격벽 페이스트 조성물 및 그의 제조방법, 그리고그를 사용한 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 형성방법 失效
标题翻译：含有二氧化硅微粒表面处理的BARRIER RIB粉末的感光性阻燃剂RIB糊剂组合物及其制备方法以及使用制备的浆料形成等离子体显示面板（PDP）的BARRIER RIB的方法
公开(公告)号：KR1020040012298A
公开(公告)日：2004-02-11
申请号：KR1020020045812
申请日：2002-08-02
申请人： 이비텍(주) , (주)이그잭스 , 경북대학교 산학협력단
发明人： 박이순 , 윤상원 , 백신혜 , 최형석 , 임무식 , 박선우 , 김봉출 , 신경석 , 이효식
IPC分类号： C03C17/04 , B82Y40/00
CPC分类号： C03C8/24 , G03F7/0007 , G03F7/0047
摘要： PURPOSE: A photosensitive barrier rib paste composition containing barrier rib powder surface treated with fumed silica particles is provided, which increases exposure efficiency without raising the sintering temperature of paste in forming of barrier rib pattern for plasma display panel by a photolithographic process. CONSTITUTION: The photosensitive barrier rib paste comprises 8-20wt.% of one or more of multifunctional monomers and multifunctional polymers, 5-20wt.% of binder polymer based on cellulose and acrylate, 10-23wt.% of solvent, 1-2wt.% of photoinitiator, 60-80wt.% of inorganic barrier rip powder surface treated with fumed silica, and optionally 0.5-5wt.% of additives such as photo intensifier, dispersant, silicon-based defoamer, etc. The paste is prepared by the following steps of: (i) preparing inorganic barrier rip powder(2-5micrometer) surface treated with fumed silica particles(5-500nm) by ball milling 40-60wt.% of glass frit, 10-25wt.% of ceramic powder(Al2O3, CaO, Cr2O3, etc.), 0.1-1wt.% of fumed silica particles and optionally 0.05-0.1wt.% of black pigment for 10-60min, baking mixed powder at 100-150deg.C for 10-30min, and ball milling again; (ii) preparing a photosensitive vehicle containing at least one compound selected from multifunctional monomers and multifunctional polymers, photoinitiator, additive, polymer binder and solvent; (iii) mixing prepared powder and photosensitive vehicle and dispersing. The barrier rib pattern for plasma display panel is formed by the following steps of: (i) coating the paste on the substrate coated with dielectrics in a thickness of 150-250micrometer; (ii) drying at 50-130deg.C for 5-30min.; (iii) exposing the paste to ultraviolet ray using a photomask; (iv) forming barrier rib pattern; (v) sintering at 450-600deg.C for 20-30min.
摘要翻译：目的：提供一种含有用煅制二氧化硅颗粒处理的阻挡肋粉末表面的光敏隔壁糊料组合物，其通过光刻工艺在等离子体显示面板形成障壁图案中提高了糊料的烧结温度，从而提高了曝光效率。构成：感光隔肋糊包含8-20重量％的一种或多种多官能单体和多官能聚合物，5-20重量％的基于纤维素和丙烯酸酯的粘合剂聚合物，10-23重量％溶剂，1-2重量％％的光引发剂，60-80重量％的用热解法二氧化硅处理的无机阻挡裂纹粉末表面，以及任选的0.5-5重量％的添加剂，如光增强剂，分散剂，硅基消泡剂等。该糊剂通过以下制备步骤：（i）通过球磨40-40重量％的玻璃料，10-25重量％的陶瓷粉末（Al 2 O 3，Al 2 O 3等）制备表面用热解法二氧化硅颗粒（5-500nm）处理的无机屏障裂纹粉末（2-5微米） CaO，Cr2O3等），0.1-1重量％的热解法二氧化硅颗粒和任选的0.05-0.1重量％的黑色颜料10-60分钟，在100-150℃下烘烤混合粉末10-30分钟，再次; （ii）制备含有至少一种选自多官能单体和多官能聚合物，光引发剂，添加剂，聚合物粘合剂和溶剂的化合物的光敏载体; （iii）混合制备的粉末和感光性载体并分散。用于等离子体显示面板的隔壁图案通过以下步骤形成：（i）在150-250微米的厚度的涂覆有电介质的基底上涂覆糊状物; （ii）在50-130℃干燥5-30分钟。（iii）使用光掩模使糊状物暴露于紫外线; （iv）形成障壁图案; （v）在450-600℃烧结20-30分钟。

2. 发明授权

KR100497763B1 퓸드 실리카 입자로 표면 처리된 격벽 분말을 포함하는감광성 격벽 페이스트 조성물 및 그의 제조방법, 그리고그를 사용한 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 형성방법 失效
标题翻译：具有表面处理的阻隔肋粉末与热解法二氧化硅颗粒的光敏性障壁糊料复合体及其制造方法和使用其制造等离子体显示面板的隔壁的方法
公开(公告)号：KR100497763B1
公开(公告)日：2005-08-03
申请号：KR1020020045812
申请日：2002-08-02
申请人： 이비텍(주) , (주)이그잭스 , 경북대학교 산학협력단
发明人： 박이순 , 윤상원 , 백신혜 , 최형석 , 임무식 , 박선우 , 김봉출 , 신경석 , 이효식
IPC分类号： C03C17/04 , B82Y40/00
CPC分类号： C03C8/24 , G03F7/0007 , G03F7/0047
摘要： 본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널(plasma display panel, PDP) 제조 기술에 관한 것이며, 특히 퓸드 실리카 입자로 표면 처리된 격벽 분말을 포함하는 감광성 격벽 페이스트 조성물 및 그의 제조방법, 그리고 그를 사용한 PDP의 격벽 형성 방법에 관한 것이다. 본 발명은 사진식각법으로 PDP의 격벽 패턴을 형성함에 있어서, 페이스트 소성 온도를 높이지 않으면서 노광 효율을 증대시킬 수 있는 감광성 격벽 페이스트 조성물을 제공하는데 그 목적이 있다. 본 발명의 감광성 격벽 페이스트 조성물은 무기 격벽 분말에 대해 나노 크기(평균입경 5∼500㎚)의 퓸드 실리카(fumed silica) 입자를 표면 처리하였다. 퓸드 실리카 입자는 무결정성이며 일반 실리카(SiO
2 )에 비해 순도가 높기 때문에 투명하며 빛의 굴절률이 낮고 광 진행 손실이 적다. 이러한 퓸드 실리카 입자를 평균입경 2∼5㎛ 크기의 불투명한 무기 격벽 분말과 함께 볼밀(ball mill) 등을 사용하여 혼합 및 분쇄한 다음 100∼150℃의 온도로 열처리하고 재분쇄하면 퓸드 실리카 입자가 표면에 결합된 무기 격벽 분말을 얻을 수 있다. 이와 같이 실리카 나노 입자로 표면 처리된 격벽 분말을 이용하여 감광성 격벽 페이스트를 제조한 다음 사진식각법으로 격벽 패턴을 형성하면 격벽 분말의 표면에 결합된 실리카 나노 입자들이 자외선 광이 침투할 수 있는 채널을 형성해 줌으로써 감광성 격벽 페이스트의 노광 효율을 높일 수 있다.

3. 发明公开

KR1020080079953A 캡핑층을 형성한 반도체 디바이스 및 그 제조방법 无效
标题翻译：用于沉积盖层的半导体器件及其制造方法
公开(公告)号：KR1020080079953A
公开(公告)日：2008-09-02
申请号：KR1020070020627
申请日：2007-02-28
申请人： 경북대학교 산학협력단
发明人： 이정희 , 함성호 , 공성호 , 나경일 , 양충모 , 윤상원 , 조현익
IPC分类号： H01L21/20
摘要： A semiconductor device for depositing a capping layer and a manufacturing method thereof are provided to perform a deposition process at a low temperature by depositing sequentially a Ni layer and the capping layer and performing a heat treatment process. A gate pattern and a source/drain region are formed on an upper surface of a silicon substrate(S210). A nickel layer is deposited on the upper surface of the silicon substrate including the gate pattern and the source/drain region by performing an ALD(Atomic Layer Deposition) method(S220). A capping layer is formed on an upper surface of the nickel layer(S230). A nickel silicide layer is formed on upper surfaces of the gate pattern and the source/drain region by treating thermally the silicon substrate including the capping layer(S240).
摘要翻译：提供一种用于沉积覆盖层的半导体器件及其制造方法，用于通过依次沉积Ni层和封盖层并执行热处理工艺在低温下进行沉积工艺。栅极图案和源极/漏极区域形成在硅衬底的上表面上（S210）。通过执行ALD（原子层沉积）方法（S220），在包括栅极图案和源极/漏极区域的硅衬底的上表面上沉积镍层。在镍层的上表面上形成覆盖层（S230）。通过对包括封盖层的硅衬底进行热处理，在栅极图案和源极/漏极区域的上表面上形成硅化镍层（S240）。

4. 发明公开

KR1020040011998A 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 형성용 소프트 몰드제작을 위한 기본 몰드틀 제작방법, 그를 이용한 소프트몰드 제작방법 및 그를 이용한 격벽 형성방법 无效
标题翻译：用于制造用于形成等离子显示面板的框架的软模的基座模制框架制造方法，使用该模具的软模制造方法和使用其的障碍物RIB形成方法
公开(公告)号：KR1020040011998A
公开(公告)日：2004-02-11
申请号：KR1020020045340
申请日：2002-07-31
申请人： 주식회사 유피디 , 경북대학교 산학협력단
发明人： 박이순 , 윤상원 , 백신혜 , 최형석 , 임무식 , 박선우 , 김봉출 , 신경석 , 이효식
IPC分类号： H01J9/24 , H01J11/36
摘要： PURPOSE: A base mold frame manufacturing method, a soft mold manufacturing method and a barrier rib forming method are provided to achieve improved durability and reduce manufacturing procedures and costs. CONSTITUTION: A base mold frame manufacturing method comprises a step of preparing a photosensitive glass(50); a step of exposing the photosensitive glass into a predetermined depth by using a photo mask(51); a step of performing a heat treatment on the photosensitive glass; and a step of removing the exposed area of the photosensitive glass by using the difference of etching characteristics between the exposed area and the unexposed area which have different structures after the heat treatment performed in the previous step.
摘要翻译：目的：提供基底模框架制造方法，软模制造方法和障壁成形方法，以实现改进的耐久性并降低制造程序和成本。构成：基底模框制造方法包括制备感光玻璃（50）的步骤。通过使用光掩模（51）将感光玻璃曝光到预定深度的步骤; 在感光玻璃上进行热处理的步骤; 以及通过使用在上一步骤中进行的热处理后具有不同结构的曝光区域和未曝光区域之间的蚀刻特性的差异来去除感光玻璃的曝光区域的步骤。

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