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热词
    • 5. 发明公开
    • 잉크젯 프린팅 장치
    • 喷墨打印设备
    • KR1020170011711A
    • 2017-02-02
    • KR1020150104839
    • 2015-07-24
    • 엘지디스플레이 주식회사
    • 이창선이종철전상은
    • B41J2/155B41J2/04B41J2/07B41J3/407H05K3/12
    • 잉크젯프린팅장치가제공된다. 잉크젯프린팅장치는전도성잉크를분사하는복수의노즐을각각구비하는제1 잉크젯헤드및 제2 잉크젯헤드를포함한다. 잉크젯프린팅장치는제1 잉크젯헤드및 제2 잉크젯헤드가나란히배치되는잉크젯헤드고정부를포함한다. 복수의노즐은, 제1 잉크젯헤드및 제2 잉크젯헤드각각에서복수의행과복수의열을이루며배치된다. 제1 잉크젯헤드의노즐들및 제2 잉크젯헤드의노즐들중 적어도하나가전도성잉크를미분사하거나어느일 방향으로편향되도록전도성잉크를분사하는경우제1 잉크젯헤드및 제2 잉크젯헤드에의해프린팅되는배선에줄빠짐현상이발생하는것을저감시키도록, 제2 잉크젯헤드는제1 잉크젯헤드의일측면을기준으로행 방향으로시프트되어배치된다. 이에따라, 두잉크젯헤드의노즐들중 적어도하나가전도성잉크를미분사하거나, 분사된전도성잉크가편향되어프린팅되는경우에도잉크젯프린팅장치에의해프린팅되는배선의단선문제가발생하는것을억제할수 있다.
    • 6. 发明公开
    • 박막 증착장비용 밸브장치
    • 用于蒸气沉积有机薄膜的阀装置
    • KR1020130055901A
    • 2013-05-29
    • KR1020110121571
    • 2011-11-21
    • 엘지디스플레이 주식회사
    • 김지훈이병성이종철
    • C23C16/50C23C16/513H01J9/20
    • H01J37/32899H01J37/32082
    • PURPOSE: A valve device for a thin film deposition apparatus is provided to be installed to reduce standing wave effect which is generated when plasma, which is generated in a process chamber of a large-sized PECD, flows into a transfer chamber. CONSTITUTION: A valve device for a thin film deposition apparatus includes a process chamber, a transfer chamber, a valve housing, and a gate valve module. The process chamber receives a supplied glass substrate, and performs a disposition treatment on the glass substrate. The transfer chamber supplies or returns the glass substrate to the process chamber. The valve housing is connected with the process chamber and the transfer chamber. The gate valve module shuttles inside the valve housing to respectively operate the process chamber and the transfer chamber.
    • 目的:提供一种用于薄膜沉积设备的阀装置,以减少在大型PECD的处理室中产生的等离子体流入传送室时产生的驻波效应。 构成:用于薄膜沉积设备的阀装置包括处理室,传送室,阀壳和闸阀模块。 处理室接收供应的玻璃基板,并对玻璃基板进行配置处理。 传送室将玻璃基板提供或返回到处理室。 阀壳与处理室和传送室连接。 闸阀模块在阀壳体内穿梭以分别操作处理室和传送室。
    • 7. 发明公开
    • 평판표시장치의 제조를 위한 대기개방형 박막처리장치 및이를 이용한 박막처리방법
    • 用于制造平板显示装置的打开薄膜处理装置和使用其的薄膜处理方法
    • KR1020060027682A
    • 2006-03-28
    • KR1020040076582
    • 2004-09-23
    • 엘지디스플레이 주식회사
    • 이종철이제섭박상혁
    • G02F1/13
    • C23C16/047C23C16/4412C23C16/45574H01L21/3065H01L21/32135
    • 본 발명은 대형의 밀폐된 반응공간을 필요로 하는 종래의 챔버형(chamber type) 박막처리장치와 달리 대기 개방된 상태에서 기판 국소적인 위치에 박막을 증착하거나 또는 기(旣) 증착된 박막을 식각하는 등의 박막처리공정을 수행할 수 있는 대기개방형 박막처리장치 및 이를 이용한 박막처리방법에 관한 것이다.
      이에 구체적으로 기판이 안착되는 스테이지와; 상면이 투명윈도우로 밀폐된 리텐션홀에 의해 전체가 상하 관통된 상태로 최상층의 리드플레이트와, 중간층의 유로플레이트와, 다수의 펌프공이 상하 관통된 최하층의 버툼플레이트가 상하 적층되어 상기 스테이지 상에 상하좌우 이동 가능하게 이격 구비되며, 상기 각 플레이트 서로 면접되는 적어도 일 층간 사이로 상기 리텐션홀에 연결되는 제 1 유로 및 상기 다수의 펌프공에 연결되는 하나 이상의 제 2 유로가 매립 형성된 가스쉴드와; 상기 가스쉴드와 함께 상하좌우로 이동되면서 소정의 광에너지를 발생시켜 상기 투명윈도우 및 리텐션홀을 통해서 상기 기판 일 지점에 초점을 맞추는 에너지소스와; 상기 제 1 유로에 연결되는 반응가스공급수단과; 상기 제 2 유로에 연결되는 압력조절수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 평판표시장치의 제조를 위한 대기개방형 박막처리장치 및 이를 이용한 박막처리방법을 제공한다.
    • 10. 发明公开
    • 대기개방형 박막처리장치 및 이를 이용한 평판표시장치용기판의 박막처리방법
    • 用于平板显示设备的大气薄膜处理设备和薄膜处理方法
    • KR1020060077363A
    • 2006-07-05
    • KR1020040116195
    • 2004-12-30
    • 엘지디스플레이 주식회사
    • 이종철박상혁
    • G02F1/13
    • C23C16/483C23C16/047C23C16/45517
    • 본 발명은 대기 개방된 상태에서 평판표시장치용 기판의 국소적인 부분에 대한 박막처리공정을 수행하는 대기개방형 박막처리장치 및 이를 이용한 박막처리방법에 관한 것이다. 구체적으로 본 발명은 기판이 안착되는 스테이지와, 상기 스테이지 상부에 위치되며 상하의 리텐션홀이 관통된 가스쉴드와, 상기 가스쉴드 상부에 위치되고 레이저빔을 출사하여 상기 리텐션홀을 통해 상기 기판으로 초점을 맞추는 에너지소스를 이용하여 대기 개방된 상태에서 상기 기판 표면을 처리하는 평판표시장치용 기판의 박막처리방법으로서, a)상기 스테이지 상에 상기 기판이 안착되는 단계와; b)상기 가스쉴드와 상기 에너지소스가 함께 이동하여 상기 기판 일 지점에 정렬되는 단계와; c)상기 리텐션홀로 반응가스가 공급되고 상기 레이저빔이 상기 리텐션홀을 통해서 상기 기판의 상기 일 지점에 초점을 맞추는 단계와; d)상기 에너지소스가 상기 리텐션 홀을 통해서 라인 형상으로 상기 초점을 상기 일 지점으로부터 타 지점으로 이동시키는 단계를 포함하여, 상기 기판 표면에 상기 일 지점으로부터 상기 타 지점을 연결하는 리페어라인을 형성하는 평판표시장치용 기판의 박막처리방법을 제공하고, 상기와 같은 박막처리방법을 수행할 수 있는 대기개방형 박막처리장치를 제공한다.