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1. 发明授权

KR100828112B1 다성분을 가지는 글라스 기판용 미세가공 표면처리액 失效
标题翻译：用于精细加工具有多种组分的玻璃基板的表面处理解决方案
公开(公告)号：KR100828112B1
公开(公告)日：2008-05-08
申请号：KR1020047002328
申请日：2002-08-26
申请人： 스텔라 케미파 코포레이션
发明人： 기쿠야마히로히사 , 미야시타마사유키 , 야부네다츠히로 , 오미다다히로
IPC分类号： C09K13/08
CPC分类号： C03C15/00
摘要： The object of the present invention is to provide a surface treatment solution for finely processing a glass substrate containing multiple ingredients as the one used for the construction of liquid crystal-based or organic electroluminescence-based flat panel display devices, without invoking crystal precipitation and surface roughness. An etching solution of the invention contains, in addition to hydrofluoric acid (HF) and ammonium fluoride (NH4F), at least one acid whose dissociation constant is larger than that of HF. The concentration of the acid in the solution is adjusted as follows. If such an acid-added etching solution with the concentration x of the acid varied is applied to a silicon oxide film heated to a temperature proper to etching, and the etching rate f(x) Ä ANGSTROM /minÜ is plotted as a function of the concentration x of the acid in the solution, and it is found that f(x) takes a maximum f(x1) when x = x1, and a minimum f(x2) when x = x2 (x1 x1.

2. 发明公开

KR1020040039292A 다성분을 가지는 글라스 기판용 미세가공 표면처리액 失效
标题翻译： 다성분을가지는글라스기판용미세가공표면처리액
公开(公告)号：KR1020040039292A
公开(公告)日：2004-05-10
申请号：KR1020047002328
申请日：2002-08-26
申请人： 스텔라 케미파 코포레이션
发明人： 기쿠야마히로히사 , 미야시타마사유키 , 야부네다츠히로 , 오미다다히로
IPC分类号： C09K13/08
CPC分类号： C03C15/00
摘要： 본 발명의 목적은 다성분을 가지는 예를 들어, 액정이나 유기 EL 등의 플래트패널 디스플레이용 글라스 기판 자체를 결정의 석출 및 표면 거칠어짐을 일으키지 않고 가공할 수 있는 다성분을 가지는 글라스 기판용 균일 조성을 가지는 미세가공 표면처리액을 제공하는데 있다.
불화수소산 및 불화암모늄을 함유함과 동시에, 불화수소산보다도 산해리정수가 큰 산을 적어도 1종 이상 함유하는 것을 특징으로 한다. 불화수소산 및 불화암모늄을 함유함과 동시에, 불화수소산보다도 산해리정수가 큰 산을 적어도 1종 이상 함유하는 약액으로, 상기 불화수소산보다도 산해리정수가 큰 산의 함유량을 x로 하고, 글라스 기판을 에칭하는 액체 온도에서의 상기 약액의 열실리콘 산화막에 대한 에칭율을 f(x)[Å/min]으로 했을 때, 상기 약액은 x=x
1 에서 극대치 f(x
1 ), x=x
2 (단, x
1 ＜x
2 )에서 극소치 f(x
2 )를 가지고, x＞x
1 의 범위에서 상기 불화수소산보다도 산해리정수가 큰 산을 함유하는 것을 특징으로 한다.
摘要翻译：本发明的目的是提供一种表面处理液，其用于精细地处理含有多种成分的玻璃基板，作为用于构造液晶或有机电致发光的平板显示装置的玻璃基板，而不引起结晶沉淀和表面粗糙度。本发明的蚀刻溶液除了氢氟酸（HF）和氟化铵（NH 4 F）以外还含有至少一种其解离常数大于HF的酸。如下调整溶液中酸的浓度。如果将这种酸浓度为x的酸加入的蚀刻溶液施加到加热到适合于蚀刻的温度的氧化硅膜上，并且蚀刻速率为f（x）＆Auml; ANGSTROM / min＆Uuml; 被绘制为溶液中酸浓度x的函数，并且发现当x = x1时f（x）取最大值f（x1），当x = x2（x1）时取最小值f（x2）＆lt; x2），将溶液中酸的浓度x调整为x＆gt; X1。＆lt;图像＆GT;

3. 发明授权

KR101668494B1 반도체 장치의 제조 방법 및 반도체 기판의 세정 방법 有权
标题翻译：用于制造半导体器件的方法和用于清洁半导体衬底的方法
公开(公告)号：KR101668494B1
公开(公告)日：2016-10-28
申请号：KR1020107025641
申请日：2009-04-10
申请人： 고쿠리츠 다이가쿠 호진 도호쿠 다이가쿠 , 스텔라 케미파 코포레이션
发明人： 오미다다히로 , 데라모토아키노부 , 하세베루이 , 미야시타마사유키
IPC分类号： H01L21/302
CPC分类号： H01L21/02052 , H01L21/02054 , H01L21/0206 , Y10S438/906
摘要： 반도체기판등의기판의세정에는, 적어도 5 공정으로이루어지는세정을실시할필요가있었다. 오존을함유하는초순수에의해세정하는제 1 공정, 계면활성제를함유하는초순수에의해세정하는제 2 공정, 및초순수와 2-프로판올을함유하는세정액에의해계면활성제유래의유기물을제거하는제 3 공정을포함하는세정방법이얻어진다. 제 3 공정후, 크립톤등의희가스의플라즈마를조사하여, 계면활성제유래의유기물을추가로제거한다.

4. 发明公开

KR1020040036717A 다성분을 가지는 글라스 기판용 미세가공 표면처리액 有权
标题翻译： 다성분을가지는글라스기판용미세가공표면처리액
公开(公告)号：KR1020040036717A
公开(公告)日：2004-04-30
申请号：KR1020047002329
申请日：2002-09-02
申请人： 스텔라 케미파 코포레이션
发明人： 기쿠야마히로히사 , 미야시타마사유키 , 야부네다츠히로 , 오미다다히로
IPC分类号： C03C15/00
CPC分类号： C03C15/00 , C03C15/02
摘要： 본 발명의 목적은 다성분을 가지는 예를 들어, 액정이나 유기 EL 등의 플래트패널 디스플레이용 글라스 기판 자체를 결정의 석출 및 표면 거칠어짐을 일으키지 않고 가공할 수 있는 다성분을 가지는 글라스 기판용 균일 조성을 가지는 미세가공 표면처리액을 제공하는데 있다.
불화수소산을 함유함과 동시에, 불화수소산보다 산해리정수가 큰 산을 적어도 1종 이상 함유하는 것을 특징으로 한다. 불화수소산을 함유함과 동시에, 불화수소산보다도 산해리정수가 큰 산을 적어도 1종 이상 함유하는 약액으로, 상기 불화수소산보다도 산해리정수가 큰 산의 함유량을 x로 하고, 글라스 기판을 에칭하는 액체 온도에서의 상기 약액의 열실리콘 산화막에 대한 에칭율을 f(x)[Å/min]으로 했을 때, 상기 약액은 x=x
1 에서 극소치 f(x
1 )를 가지고, x=x
2 에서 f(x)={f(x
2 )}/2를 가지며, (2/5)*x
1 ＜x＜x
2 의 범위에서 상기 불화수소산보다도 산해리정수가 큰 산을 함유하는 것을 특징으로 한다.
摘要翻译：本发明的目的是提供一种表面处理溶液，其用于精细地处理含有多种成分的玻璃基板，如用于构造液晶或有机电致发光的平板显示装置的玻璃基板，而不引起结晶沉淀，表面粗糙度。除了氢氟酸（HF）之外，本发明的蚀刻溶液还含有至少一种其解离常数大于HF的酸。如下调整溶液中酸的浓度。如果将这种酸浓度为x的酸加入的蚀刻溶液施加到加热到蚀刻所需的高温的氧化硅膜和蚀刻速率f（x）＆Auml; ANGSTROM / min＆Uuml; 作为溶液中酸浓度x的函数绘图，并且发现当x = x1时f（x）取最小值f（x1），并且给出f（x）的酸的浓度x 等于f（x = 0）=＆aum1; f（x2）u1 / 2为x2，溶液中酸的浓度x调整为（2/5）* x1 < x < X2。＆lt;图像＆GT;

5. 发明公开

KR1020110000581A 반도체 장치의 제조 방법 및 반도체 기판의 세정 방법 有权
标题翻译：用于制造半导体器件的方法和用于清洁半导体衬底的方法
公开(公告)号：KR1020110000581A
公开(公告)日：2011-01-03
申请号：KR1020107025641
申请日：2009-04-10
申请人： 고쿠리츠 다이가쿠 호진 도호쿠 다이가쿠 , 스텔라 케미파 코포레이션
发明人： 오미다다히로 , 데라모토아키노부 , 하세베루이 , 미야시타마사유키
IPC分类号： H01L21/302
CPC分类号： H01L21/02052 , H01L21/02054 , H01L21/0206 , Y10S438/906
摘要： 반도체 기판 등의 기판의 세정에는, 적어도 5 공정으로 이루어지는 세정을 실시할 필요가 있었다. 오존을 함유하는 초순수에 의해 세정하는 제 1 공정, 계면 활성제를 함유하는 초순수에 의해 세정하는 제 2 공정, 및 초순수와 2-프로판올을 함유하는 세정액에 의해 계면 활성제 유래의 유기물을 제거하는 제 3 공정을 포함하는 세정 방법이 얻어진다. 제 3 공정 후, 크립톤 등의 희가스의 플라즈마를 조사하여, 계면 활성제 유래의 유기물을 추가로 제거한다.

6. 发明公开

KR1020090073016A 수지 파이프 无效
标题翻译：树脂管
公开(公告)号：KR1020090073016A
公开(公告)日：2009-07-02
申请号：KR1020080134249
申请日：2008-12-26
申请人： 고쿠리츠 다이가쿠 호진 도호쿠 다이가쿠 , 니찌아스 카부시키카이샤 , 스텔라 케미파 코포레이션 , 우베 고산 가부시키가이샤
发明人： 오미다다히로 , 데라모토아키노부 , 후시미게이타 , 야마나카지로 , 미야시타마사유키 , 니시오카도모하루
IPC分类号： F16L11/04 , F16L11/00 , B32B27/30 , B32B27/00
CPC分类号： B32B27/28 , B32B1/08 , B32B27/34 , Y10T428/1393
摘要： A resin pipe is provided to preclude effect due to liquid delivered inside such as UPW(Ultrapure Water) and restrict infiltration of chemical solution such as hydrofluoric acid. A resin pipe(10) comprises an inner layer(12) made of fluoro resin, an intermediate layer(14) made of nylon, formed on the inner layer, and an outermost layer(18) made of fluoro resin, formed on the intermediate layer. The fluoro resin of the inner layer equals the fluoro resin of the outermost layer.
摘要翻译：提供树脂管，以防止由于UPW（超纯水）等内部输送的液体而引起的影响，并限制了氢氟酸等化学溶液的渗透。树脂管（10）包括由氟树脂制成的内层（12），在内层上形成的由尼龙制成的中间层（14）和形成在中间层上的由氟树脂制成的最外层（18）层。内层的氟树脂等于最外层的氟树脂。

7. 发明授权

KR100865881B1 다성분을 가지는 글라스 기판용 미세가공 표면처리액 有权
标题翻译：用于精细加工多组分玻璃基材的表面处理流体
公开(公告)号：KR100865881B1
公开(公告)日：2008-10-29
申请号：KR1020047002329
申请日：2002-09-02
申请人： 스텔라 케미파 코포레이션
发明人： 기쿠야마히로히사 , 미야시타마사유키 , 야부네다츠히로 , 오미다다히로
IPC分类号： C03C15/00
CPC分类号： C03C15/00 , C03C15/02
摘要： 본 발명의 목적은 다성분을 가지는 예를 들어, 액정이나 유기 EL 등의 플래트패널 디스플레이용 글라스 기판 자체를 결정의 석출 및 표면 거칠어짐을 일으키지 않고 가공할 수 있는 다성분을 가지는 글라스 기판용 균일 조성을 가지는 미세가공 표면처리액을 제공하는데 있다.
불화수소산을 함유함과 동시에, 불화수소산보다 산해리정수가 큰 산을 적어도 1종 이상 함유하는 것을 특징으로 한다. 불화수소산을 함유함과 동시에, 불화수소산보다도 산해리정수가 큰 산을 적어도 1종 이상 함유하는 약액으로, 상기 불화수소산보다도 산해리정수가 큰 산의 함유량을 x로 하고, 글라스 기판을 에칭하는 액체 온도에서의 상기 약액의 열실리콘 산화막에 대한 에칭율을 f(x)[Å/min]으로 했을 때, 상기 약액은 x=x
1 에서 극소치 f(x
1 )를 가지고, x=x
2 에서 f(x)={f(x
2 )}/2를 가지며, (2/5)*x
1 ＜x＜x
2 의 범위에서 상기 불화수소산보다도 산해리정수가 큰 산을 함유하는 것을 특징으로 한다.
미세가공, 글라스기판

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