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1. 发明授权

KR101430747B1 플라즈마를 이용한 기판 처리 장치 有权
标题翻译：使用等离子体处理衬底的装置
公开(公告)号：KR101430747B1
公开(公告)日：2014-08-19
申请号：KR1020100105305
申请日：2010-10-27
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 박근영 , 조중근 , 구교욱
IPC分类号： H01L31/18 , H01L31/04 , H01L21/205
CPC分类号： Y02E10/50 , Y02P70/521
摘要： 본 발명은 태양전지와 같은 기판을 처리하는데 사용되는 플라즈마 강화 화학 증착(Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition: PECVD) 장치에 관한 것이다. 본 발명의 PECVD 장치는 챔버; 상기 챔버 내에 배치되며 기판을 지지하는 서셉터(suscepter); 상기 서셉터의 상부에 배치되며 상기 기판에 막 형성을 위한 공정가스를 공급하는 샤워헤드(showerhead); 상기 서셉터와 연결되며, 상기 서셉터와 상기 샤워헤드 사이의 거리를 조절하기 위해 상기 서셉터를 승강시키는 구동부; 상기 공정가스가 여기되어 플라즈마가 발생하도록 상기 샤워헤드에 고주파 전류를 인가하는 고주파 전원; 및 상기 서셉터와 상기 샤워헤드 사이의 거리를 공정 진행중에 연속적 또는 단계적으로 변경되도록 상기 구동부를 제어하는 제어부를 포함한다.

2. 发明授权

KR101158289B1 플라즈마 처리 장치 및 방법 失效
标题翻译：等离子体处理设备和方法
公开(公告)号：KR101158289B1
公开(公告)日：2012-06-19
申请号：KR1020100032370
申请日：2010-04-08
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 유샤코브안드레이 , 조중근 , 노일호 , 윤창로 , 노재민
IPC分类号： H01L21/205
摘要： 본 발명은 솔라셀(solar cell) 등과 같은 전자 소자를 제조하기 위해 기판 상에 박막을 형성하는 플라즈마 강화 화학 기상 증착 장치를 제공한다. 본 발명의 장치는 샤워 헤드들이 복수 개가 분리되어 제공된다. 각각의 샤워 헤드는 그 길이 방향이 제1방향을 따라 배치되고, 샤워 헤드들은 제1방향에 수직한 제2방향을 따라 일렬로 배열된다. 각각의 샤워 헤드의 일단 및 타단에는 전력이 인가된다.
摘要翻译：本发明提供一种等离子体增强化学气相沉积设备，用于在用于制造诸如太阳能电池等电子器件的基板上形成薄膜。本发明的设备具有彼此分离的多个喷头。每个喷头沿着第一方向布置在纵向方向上，并且喷头沿垂直于第一方向的第二方向布置成一条线。电力施加在每个喷头的一端和另一端。

3. 发明公开

KR1020100089642A 다중 전극을 제어하는 장치 및 플라즈마 처리 시스템 失效
标题翻译：用于控制多电极和等离子体处理系统的装置
公开(公告)号：KR1020100089642A
公开(公告)日：2010-08-12
申请号：KR1020090008982
申请日：2009-02-04
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 박근영 , 조중근 , 구교욱
IPC分类号： H05H1/30 , H05H1/34 , H05H1/36 , H01L21/3065
CPC分类号： H01J37/32899 , H01J37/321 , H01J37/32183 , H05H1/46 , H05H2001/4652 , H05H2001/4682
摘要： PURPOSE: An apparatus for controlling a multi-electrode and a plasma processing system are provided to adjust the distribution ratio of power, applied to each electrode, by detecting the change of impedance of each electrode. CONSTITUTION: A plurality of electrodes(110a, 110b, 110c, 110d, 110e, 110f) is prepared in a chamber. A radio-frequency(RF) generator(330) supplies RF power to the electrodes. A plurality of power controlling units(350a, 350b, 350c, 350d, 350e, 350f) is respectively connected with the electrodes to obtain constant power. A matching unit(320) is connected between the power controlling unit and the RF generator. The matching unit performs an impedance matching operation between the RF generator and the electrodes.
摘要翻译：目的：提供一种用于控制多电极和等离子体处理系统的装置，通过检测每个电极的阻抗变化来调节施加到每个电极的功率分配比。构成：在室中制备多个电极（110a，110b，110c，110d，110e，110f）。射频（RF）发生器（330）向电极提供RF功率。多个功率控制单元（350a，350b，350c，350d，350e，350f）分别与电极连接以获得恒定的功率。匹配单元（320）连接在功率控制单元和RF发生器之间。匹配单元在RF发生器和电极之间执行阻抗匹配操作。

4. 发明公开

KR1020090015333A 공정챔버 및 이를 구비하는 기판 처리 설비, 그리고 상기설비의 기판 처리 방법 有权
标题翻译：用于处理基材的工艺室和设施，以及用于处理具有设备的基板的方法
公开(公告)号：KR1020090015333A
公开(公告)日：2009-02-12
申请号：KR1020070079572
申请日：2007-08-08
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 성보람찬 , 조중근
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/00
摘要： A process chamber and facility for treating substrate with the process chamber, and method for treating substrate with the facility are provided to maintain the concentration of the supercritical fluid constantly and to remove photoresist solution formed in the surface of the processing chamber. The housing(110) provides the space for performing the process of substrate. The substrate gateway is prepared in the side wall of the housing. The supporting member(130) supports the substrate and is inserted into the opened lower part of the housing. The supporting member is driven to the top and bottom by the drive unit(140). The fixing member(150) fixes the supporting member on the housing when the supporting member is located in the process position.
摘要翻译：提供用处理室处理基板的处理室和设备，以及利用设备处理基板的方法，以恒定地维持超临界流体的浓度并去除在处理室的表面中形成的光致抗蚀剂溶液。壳体（110）提供用于执行衬底处理的空间。衬底栅极准备在壳体的侧壁中。支撑构件（130）支撑基板并插入壳体的打开的下部。支撑构件由驱动单元（140）驱动到顶部和底部。当支撑构件位于处理位置时，固定构件（150）将支撑构件固定在壳体上。

5. 发明公开

KR1020080048133A 스핀헤드 및 상기 스핀헤드의 기판 척킹/언척킹방법,그리고 상기 스핀헤드를 구비하는 기판 처리 장치 有权
标题翻译：旋转头和使用旋转头切割底板的方法和用于用旋转头处理基板的装置
公开(公告)号：KR1020080048133A
公开(公告)日：2008-06-02
申请号：KR1020060118076
申请日：2006-11-28
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 김주원 , 최기훈 , 조중근 , 구교욱 , 최중봉
IPC分类号： H01L21/687 , H01L21/683 , H01L21/304
CPC分类号： H01L21/68728 , H01L21/68742
摘要： A spin head and a method for chucking/dechucking a substrate using the same, and an apparatus for treating a substrate with the same are provided to improve process efficiency by preventing a residual processing solution on a substrate. A body(110) has a rotating function. A chucking/dechucking unit includes a plurality of chucking pins which are arranged in a shape of ring around an upper surface of the body. The chucking/dechucking unit chucks or dechucks an edge part of a substrate(W). A driving unit rotates the chucking pins at a constant angle in order to change selectively contact parts between the chucking pins and the substrate. The driving unit includes an up/down movable drivers(140) and a motion conversion part(150,160) for converting the vertical motion of the chucking pins to the rotatory motion.
摘要翻译：提供旋转头和使用其旋转基板的方法，以及用于处理基板的设备，以通过防止基板上的残留处理溶液来提高工艺效率。主体（110）具有旋转功能。夹紧/脱扣单元包括多个夹紧销，所述夹紧销围绕主体的上表面布置成环形。夹紧/脱扣单元卡住或取下基板（W）的边缘部分。驱动单元以恒定角度旋转夹紧销，以便选择性地改变夹紧销和基板之间的接触部分。驱动单元包括用于将夹紧销的垂直运动转换为旋转运动的上/下可移动驱动器（140）和运动转换部（150,160）。

6. 发明授权

KR100834117B1 기판 지지유닛, 그리고 상기 기판 지지유닛을 구비하는기판처리장치 및 방법 有权
标题翻译：基板支撑单元，以及用于处理基板的装置和方法
公开(公告)号：KR100834117B1
公开(公告)日：2008-06-02
申请号：KR1020070016481
申请日：2007-02-16
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 김종한 , 구교욱 , 조중근
IPC分类号： H01L21/687
CPC分类号： H01L21/68785 , H01L21/67017 , H01L21/68721 , H01L21/68764
摘要： A substrate support unit, and a substrate treatment apparatus including the same and a method thereof are provided to treat a face opposite to a chuck plate by proceeding a process with the chuck plate being spaced apart from a substrate. A substrate support unit includes a chuck plate and a gas supply member. A plurality of vortex generating holes are disposed annularly with respect to the center of the chuck plate in the chuck plate. The gas supply member includes injection lines(248) supplying gas in a direction tangential to the inner surfaces of the vortex generating holes so that the gas turns along the inner surfaces of the vortex generating holes. The gas supply member is formed in the chuck plate. The gas supply member supplies the gas into the vortex generating holes through the injection lines. The injection lines include an inner line connecting the center of the chuck plate to the shortest points.
摘要翻译：提供了一种基板支撑单元，以及包括该基板支撑单元的基板处理装置及其方法，用于通过进行与基板间隔开的卡盘的处理来处理与卡盘板相对的面。基板支撑单元包括卡盘板和气体供给部件。多个涡流产生孔相对于卡盘板中的夹盘的中心环状设置。气体供给构件包括沿与涡流产生孔的内表面相切的方向供应气体的注入管线（248），使得气体沿涡流产生孔的内表面转动。气体供给部件形成在卡盘板中。气体供给构件通过注入管将气体供给到涡流生成孔。注射线包括将夹盘的中心连接到最短点的内线。

7. 发明授权

KR100822373B1 초임계 유체를 이용한 기판 건조 장치, 이를 구비한 기판처리 설비 및 기판 처리 방법 有权
标题翻译：使用超临界流体的基板干燥机，具有该超临界流体的装置以及用于处理基板的方法
公开(公告)号：KR100822373B1
公开(公告)日：2008-04-17
申请号：KR1020060087935
申请日：2006-09-12
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 조중근 , 구교욱
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： H01L21/67034
摘要： 본 발명은 초임계 유체를 이용한 기판 건조 장치, 이를 구비한 기판 처리 설비 및 기판 처리 방법에 관한 것으로, 본 발명 기판 처리 설비는, 챔버와, 상기 챔버의 일부를 구성하며, 기판에 초임계 유체를 제공하여 상기 기판을 건조시키는 처리실과; 상기 챔버의 다른 일부를 구성하며, 상기 처리실을 상기 초임계 유체의 임계압력 이상으로 승압시키는 고압실을 포함하는 기판 건조 장치를 구비한다. 본 발명에 의하면, 고압실에 의해 건조처리실을 초임계 상태로 급속 승압시켜 초임계 유체로써 기판 건조처리를 진행할 수 있게 된다.
반도체, 초임계 유체, 초임계 이산화탄소

8. 发明公开

KR1020080024101A 척킹부재 및 스핀헤드, 이를 이용한 척킹방법 无效
标题翻译：切割构件和旋转头，使用切割构件切割基板的方法
公开(公告)号：KR1020080024101A
公开(公告)日：2008-03-17
申请号：KR1020070130175
申请日：2007-12-13
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 조중근 , 구교욱 , 성보람찬
IPC分类号： H01L21/687 , H01L21/683 , H01L21/68
摘要： A chucking member, a spin head, and a chucking method using the chucking member are provided to smoothly discharge an air stream along the outer circumferences of a chucking pin and to prevent the re-inflow of a treatment liquid being discharged toward the external into a rear of a substrate by using the chucking member. A chucking member(100) includes a chucking pin(120), a body(140) and a rotational shaft(160). The chucking pin includes a first front end and a first rear end. The body supports the chucking pin and is rotated together with the chucking pin by the revolution of the rotational shaft. The body includes a second front end and a second rear front end. When the chucking member is rotated, the first front end is contacted to a lateral section of a wafer and the wafer is supported by the first front end. An air stream formed around the substrate is discharged to the external along the outer circumference of the body of the chucking member.
摘要翻译：提供一种夹紧构件，旋转头和使用夹紧构件的夹紧方法，以沿着夹紧销的外周平滑地排出空气流，并且防止向外部排放的处理液的再流入通过使用夹持构件在基板的后部。夹紧构件（100）包括夹紧销（120），主体（140）和旋转轴（160）。夹持销包括第一前端和第一后端。主体支撑夹头销，并通过旋转轴的旋转与夹紧销一起旋转。主体包括第二前端和第二后前端。当夹紧构件旋转时，第一前端与晶片的横截面接触，并且晶片由第一前端支撑。形成在基板周围的气流沿着夹紧部件的主体的外周排出到外部。

9. 发明授权

KR100809594B1 척킹부재 및 이를 포함하는 스핀헤드 有权
标题翻译：切割构件和旋转头，使用切割构件切割基板的方法
公开(公告)号：KR100809594B1
公开(公告)日：2008-03-04
申请号：KR1020060087948
申请日：2006-09-12
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 조중근 , 구교욱 , 성보람찬
IPC分类号： H01L21/687
CPC分类号： B23B31/1269 , B23B2265/12 , H01L21/68728 , Y10T279/18
摘要： A chucking member and a spin head including the chucking member are provided to smoothly discharge an air current generated by revolution of a substrate by using a chucking pin having a streamline shape. A supporting plate(10) is rotatable. Chucking members(100) are installed on an upper surface of the supporting plate and support a lateral side of a substrate to prevent separation of the substrate loaded on the supporting plate due to revolution of the substrate. The chucking member includes a rotatable body(140), a chucking pin(120), and a rotational shaft(160). The chucking pin is eccentrically coupled to an upper of the rotatable body from a rotational center thereof, thereby chucking the lateral side of the substrate. The rotational shaft is coupled to a lower of the rotatable body. The chucking pin is a streamline shape. The chucking pin includes a first front section and a first rear section. The first front section has a first end portion and is positioned on a front with respect to the floe of an air stream generated by the revolution of the substrate. The first rear section is positioned on a rear with respect to the flow of the air stream. An upper surface of the chucking pin is downwardly declined from the first front section to the first rear section.
摘要翻译：提供夹持构件和包括夹紧构件的旋转头，以通过使用具有流线形状的卡盘销平滑地排出由基板旋转产生的气流。支撑板（10）可旋转。夹持构件（100）安装在支撑板的上表面上并且支撑基板的侧面，以防止由于基板的旋转而负载在支撑板上的基板的分离。夹紧构件包括可旋转体（140），夹紧销（120）和旋转轴（160）。夹持销从其旋转中心偏心地联接到可旋转体的上部，从而夹持基底的侧面。旋转轴联接到可旋转体的下部。夹头是流线形状。夹紧销包括第一前部和第一后部。第一前部具有第一端部并且相对于由衬底的旋转产生的气流的絮状物位于前部。第一后部相对于气流的流动位于后方。夹紧销的上表面从第一前部向第一后部向下倾斜。

10. 发明授权

KR100766343B1 기판 세정 건조 방법 有权
标题翻译：清洗干燥方法
公开(公告)号：KR100766343B1
公开(公告)日：2007-10-11
申请号：KR1020060046539
申请日：2006-05-24
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 김원배 , 한재선 , 배정용 , 조중근
IPC分类号： H01L21/304
摘要： 본 발명은 기판을 회전시키면서 세정 및 건조시키는 기판의 세정건조 방법에 관한 것이다. 본 발명의 방법은 회전되는 기판상에서 기판의 중심에서부터 가장자리로 이동하면서 기판 표면에 유체를 분사하는 단계를 포함하되; 유체 분사 단계는 기판 상부에 IPA 증기를 공급하여 기판 주변 분위기를 IPA증기로 바꾸는 단계와, 첫 번째 분사구가 기판의 중심에서부터 가장자리로 이동하면서 기판 표면을 세정하기 위한 제1유체를 분사하는 단계 및 두 번째 분사구가 첫 번째 분사구를 뒤따라 이동하면서, 첫 번째 분사구에 의해 세정된 기판의 표면을 건조하기 위한 제2유체를 분사하는 단계를 포함한다.
스핀, 세정

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