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1. 发明授权

KR102211780B1 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 有权
公开(公告)号：KR102211780B1
公开(公告)日：2021-02-04
申请号：KR1020180135210
申请日：2018-11-06
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 박민정 , 서경진 , 정영헌
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/687 , H01L21/02
摘要： 본발명은기판을처리하는장치를제공한다. 일실시예에있어서, 기판처리장치는. 내부에내부공간을제공하는공정챔버와; 상기내부공간에내에제공되며상부에개구가형성된컵 형상을가지고내부에처리공간이형성된처리용기와; 상기처리용기내에위치되어기판을지지하고회전시키는지지부재와, 상기처리공간에서발생된부산물을상기처리공간의외부로배출시키는배기부재와; 상기지지부재에지지된기판의에지에인근하여위치되고, 길이방향에대하여수직한단면의영역중 기판의에지와인근한영역이기판의에지를감싸는방향으로원호형상을갖는흡입부재를포함한다.

2. 发明授权

KR102204885B1 기판 처리 방법 有权
公开(公告)号：KR102204885B1
公开(公告)日：2021-01-19
申请号：KR1020170117544
申请日：2017-09-14
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 박민정 , 정영헌 , 서경진
IPC分类号： H01L21/02
摘要： 본발명의실시예는기판을액 처리하는방법을제공한다. 기판을액 처리하는방법은회전하는상기기판에감광액을공급하여상기기판상에감광액을도포하는액도포단계를포함하되, 상기액 도포단계는상기감광액이공급되는동안에제1속도에서제2속도까지상기기판의회전속도를가속하는가속단계를포함하되, 상기기판의영역에따른상기감광액의두께제어는상기감광액의점도에따라상기제1속도에서상기제2속도에도달되는도달시간을제어하여수행한다. 이로인해감광액의점도에따라액막의두께조절을영역별로제어할수 있다.

3. 发明授权

KR101977752B1 기판 처리 장치 및 방법 有权
公开(公告)号：KR101977752B1
公开(公告)日：2019-08-28
申请号：KR1020170067013
申请日：2017-05-30
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 이현희 , 정영헌 , 박민정 , 서경진
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/02 , H01L21/677

4. 发明授权

KR101935943B1 기판 처리 장치 및 기판 처리 장치 세정 방법 有权
公开(公告)号：KR101935943B1
公开(公告)日：2019-01-08
申请号：KR1020160181149
申请日：2016-12-28
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 정영헌 , 조수현 , 오창석 , 홍은석
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/67 , H01L21/687 , H01L21/683

5. 发明授权

KR101910800B1 기판 처리 장치 有权
公开(公告)号：KR101910800B1
公开(公告)日：2018-10-24
申请号：KR1020170067012
申请日：2017-05-30
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 이현희 , 정영헌 , 서경진
IPC分类号： H01L21/67
CPC分类号： H01L21/67017 , H01L21/67242
摘要： 본발명은기판의처리분위기를배기하는장치를제공한다. 기판처리장치는기판을처리하는제1공정유닛, 기판을처리하는제2공정유닛, 그리고상기제1공정유닛및 상기제2공정유닛을배기하는배기어셈블리를포함하되, 상기배기어셈블리는메인배기라인, 상기메인배기라인을감압하는감압부재, 상기메인배기라인으로부터제1배기지점에서분기되어상기제1공정유닛에연결되는제1배기라인, 상기메인배기라인으로부터제2배기지점에서분기되어상기제2공정유닛에연결되는제2배기라인, 그리고상기메인배기라인에연결되어상기메인배기라인에가스를보충하여제공하는보충부재를포함하되, 상기제2배기지점은상기제1배기지점보다상기감압부재로부터더 멀리제공된위치이고, 상기보충부재는상기감압부재에서상기제1배기지점보다멀리떨어진위치에서상기메인배기라인에연결된다. 배기편차가발생된공정유닛에대해에어를공급하여공정유닛들간에배기편차를최소화할수 있다.

6. 发明公开

KR1020160134926A 액 도포 방법 및 기판 처리 장치 审中-实审
标题翻译：用于施加液体的方法和用于处理基底的装置
公开(公告)号：KR1020160134926A
公开(公告)日：2016-11-24
申请号：KR1020150066798
申请日：2015-05-13
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 박민정 , 정영헌 , 안은샘 , 이기승
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/67 , H01L21/027
摘要： 본발명은액 도포방법및 기판처리장치에관한것이다. 본발명의일 실시예에따른기판상에처리액을도포하는방법은기판을회전시키면서기판의중심부에상기처리액을공급하는액 공급단계와상기처리액의공급이완료되면상기기판의중심부에기체를공급하는건조단계를포함하는액 도포방법을포함한다.

7. 发明公开

KR1020160083287A 기판 처리 장치 审中-实审
标题翻译：基板处理装置
公开(公告)号：KR1020160083287A
公开(公告)日：2016-07-12
申请号：KR1020140193903
申请日：2014-12-30
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 정영헌 , 서경진 , 유혜정
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/02
CPC分类号： H01L21/0273 , H01L21/02
摘要： 본발명은기판처리장치에관한것이다. 본발명의일 실시예에따른기판처리장치는기판을지지하는기판지지유닛; 상기기판지지유닛에지지된기판에현상액을공급하는현상액공급유닛; 및상기현상액이공급된상기기판의상면을가열하는가열유닛을포함한다.
摘要翻译：本发明涉及一种基板处理装置。根据本发明的实施例，基板处理装置包括：基板支撑单元，被配置为支撑基板; 显影剂供给单元，其构造成将显影剂供给到由所述基板支撑单元支撑的所述基板; 以及加热单元，其构造成加热供应有显影剂的基板的上表面。因此，基板处理装置能够有效地处理基板。

8. 发明公开

KR1020160078581A 처리액 공급 방법 및 기판 처리 장치 有权
标题翻译：供应用于处理基材的化学和设备的方法
公开(公告)号：KR1020160078581A
公开(公告)日：2016-07-05
申请号：KR1020140187980
申请日：2014-12-24
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 정영헌 , 서경진 , 유혜정 , 조수현
IPC分类号： H01L21/02
CPC分类号： H01L21/02 , H01L21/02002 , H01L21/02005
摘要： 본발명은처리액을공급하는방법및 장치를제공한다. 기판에처리액을공급하는방법으로는, 제1케미칼과순수를혼합하여상기처리액을생성하되, 상기순수는상기제1케미칼과혼합전에가열된상태로공급되고, 가열된상기순수의양에의해상기처리액의농도및 온도가조절된다. 이에따라현상공정의쓰루풋을향상시키고, 처리액의사용량을줄일수 있다.
摘要翻译：本发明提供一种供给处理液的方法及其装置。在向基板供给处理液的方法中，混合第一化学纯水并产生处理液，在纯水与第一化学品混合之前，以加热状态供给纯水，浓度和处理液的温度通过加热的纯水的量来调节。因此，可以提高显影处理的生产量，并且可以减少使用处理液体的量。

9. 发明公开

KR1020120056620A 기판처리방법 有权
标题翻译：用于处理底物的装置和方法
公开(公告)号：KR1020120056620A
公开(公告)日：2012-06-04
申请号：KR1020100118244
申请日：2010-11-25
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 이영훈 , 최종수 , 정영헌 , 정유선 , 이진복
IPC分类号： H01L21/302
CPC分类号： H01L21/02101 , H01L21/67034
摘要： PURPOSE: An apparatus and a method for processing a substrate capable of drying a substrate are provided to regularly maintain the inner pressure of a chamber by providing an inert gas to the inside of the chamber when a supercritical fluid is discharged. CONSTITUTION: A chamber(410) provides a space for processing a substrate. A substrate support member(430) supports the substrate while being installed in the chamber. A fluid supply tube(440) supplies a supercritical fluid into the chamber. A gas supply pipe(450) supplies the inert gas to the chamber while being connected to the chamber. An discharge line(460) discharges the fluid within the chamber while being connected to the chamber.
摘要翻译：目的：提供一种用于处理能够干燥基板的基板的设备和方法，以便当超临界流体排出时，通过向室内提供惰性气体来规则地维持室的内部压力。构成：室（410）为处理衬底提供了空间。衬底支撑构件（430）在安装在腔室中时支撑衬底。流体供应管（440）将超临界流体供应到室中。供气管（450）在连接到室的同时将惰性气体供应到室。排出管线（460）在连接到腔室的同时排出腔室内的流体。

10. 发明公开

KR1020110080361A 기판 처리 장치 无效
标题翻译：加工辊的设备
公开(公告)号：KR1020110080361A
公开(公告)日：2011-07-13
申请号：KR1020100000540
申请日：2010-01-05
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 정영헌 , 민충기
IPC分类号： H01L21/683 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70908 , G03F7/70716 , G03F7/70916 , H01L21/0273
摘要： PURPOSE: A substrate processing apparatus is provided to enhance productivity by installing a plate support part and a plate for settling a substrate. CONSTITUTION: A substrate processing part(100) includes a plate support part(110) and a plate(120). The plate provides a flat settling side for settling the substrate on an upper side. A recess with a set depth is formed in a ring shape on an upper side of the plate. The upper side of the plate is discriminated into the first side and the second side. The substrate is settled only on the first side. So, if a substrate processing liquid or impurity flows on the substrate, they are collected in a recess.
摘要翻译：目的：提供一种基板处理装置，通过安装用于沉积基板的板支撑部和板来提高生产率。构成：基板处理部（100）包括板支撑部（110）和板（120）。该板提供了一个平坦的沉降侧，用于在上侧沉积基底。具有固定深度的凹部在板的上侧上形成为环形。板的上侧被鉴别为第一侧和第二侧。基板仅在第一面上沉降。因此，如果衬底处理液体或杂质在衬底上流动，则它们被收集在凹槽中。

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