基本信息:
- 专利标题： 기판 처리 장치
- 专利标题（英）：Substrate treating apparatus
- 专利标题（中）：基板处理装置
- 申请号：KR1020140193903 申请日：2014-12-30
- 公开(公告)号：KR1020160083287A 公开(公告)日：2016-07-12
- 发明人： 정영헌 , 서경진 , 유혜정
- 申请人： 세메스 주식회사
- 申请人地址： **, *sandan *-gil, Jiksan-eup, Seobuk-gu, Cheonan-si, Chungcheongnam-do, Korea
- 专利权人： 세메스 주식회사
- 当前专利权人： 세메스 주식회사
- 当前专利权人地址： **, *sandan *-gil, Jiksan-eup, Seobuk-gu, Cheonan-si, Chungcheongnam-do, Korea
- 代理人： 권혁수; 송윤호
- 主分类号： H01L21/027
- IPC分类号： H01L21/027 ; H01L21/02
摘要：
본발명은기판처리장치에관한것이다. 본발명의일 실시예에따른기판처리장치는기판을지지하는기판지지유닛; 상기기판지지유닛에지지된기판에현상액을공급하는현상액공급유닛; 및상기현상액이공급된상기기판의상면을가열하는가열유닛을포함한다.
摘要（中）：
本发明涉及一种基板处理装置。 根据本发明的实施例，基板处理装置包括：基板支撑单元，被配置为支撑基板; 显影剂供给单元，其构造成将显影剂供给到由所述基板支撑单元支撑的所述基板; 以及加热单元，其构造成加热供应有显影剂的基板的上表面。 因此，基板处理装置能够有效地处理基板。
摘要（英）：
The present invention relates to a substrate processing apparatus. A substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention includes a substrate supporting unit for supporting a substrate; A developing solution supply unit for supplying a developing solution to the substrate held on the substrate holding unit; And a heating unit for heating the upper surface of the substrate on which the developer is supplied.
公开/授权文献:
- KR102296277B1 기판 처리 장치 公开/授权日：2021-09-02
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H01 | 基本电气元件 |
| ----H01L | 半导体器件；其他类目未包含的电固体器件 |
| ------H01L21/00 | 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备 |
| --------H01L21/02 | .半导体器件或其部件的制造或处理 |
| ----------H01L21/027 | ..未在H01L21/18或H01L21/34组中包含的为进一步的光刻工艺在半导体之上制作掩膜 |