专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明授权

KR102231022B1 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 有权
公开(公告)号：KR102231022B1
公开(公告)日：2021-03-25
申请号：KR1020140088613
申请日：2014-07-14
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 강준기 , 최종수 , 김대민
IPC分类号： H01L21/67
摘要： 본발명은기판처리장치에관한것이다. 본발명의일 실시예에따른기판처리장치에있어서, 처리공간을가지는처리용기와상기처리공간내에서기판을지지하는기판지지유닛과그리고상기기판지지유닛에의해지지되는기판에처리유체를공급하는분사유닛을포함하며상기분사유닛은유체를공급하는유체노즐과제1가스를공급하는제1가스노즐과제2가스를공급하는제2가스노즐과상기유체노즐상기제1가스노즐그리고상기제2가스노즐이설치된노즐지지대와상기노즐지지대를지지하는지지축과그리고상기지지축하부에제공되어상기지지축을구동하는구동기를포함하며상기유체노즐과상기제1가스노즐의거리는상기유체노즐과상기제2가스노즐의거리와상이하게제공되는기판처리장치를포함한다.

2. 发明授权

KR101993730B1 기판 세정 장치 및 기판 세정 방법 有权
公开(公告)号：KR101993730B1
公开(公告)日：2019-07-01
申请号：KR1020120084118
申请日：2012-07-31
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 이용희 , 이복규 , 최종수
IPC分类号： H01L21/67

3. 发明授权

KR101570166B1 기판 세정 장치 및 기판 세정 방법 有权
标题翻译：装置和方法FDR清洁基板
公开(公告)号：KR101570166B1
公开(公告)日：2015-11-20
申请号：KR1020140192070
申请日：2014-12-29
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 이용희 , 이복규 , 최종수
IPC分类号： H01L21/302
摘要： 본발명은반도체기판제조장치및 방법에관한것으로, 보다상세하게는기판을세정하는장치및 방법에관한것이다. 본발명기판세정장치의일 실시예는기판을지지하는기판지지유닛, 상기기판지지유닛을둘러싸고상기기판으로부터비산하는유기용제를회수하는용기및 상기용기의일측에제공되고상기기판에기포를포함한액상의유기용제를분사하는유체공급유닛을포함하되, 상기유체공급유닛은상기유기용제를상기기판으로토출시키는노즐헤드, 저장탱크로부터상기노즐헤드로상기유기용제를공급하는유기용제공급라인및 상기공급라인에제공되어상기유기용제에기포를제공하는기포제공부재를포함한다.

4. 发明公开

KR1020120134348A 기판 세정 방법 有权
标题翻译：清洗基板的方法
公开(公告)号：KR1020120134348A
公开(公告)日：2012-12-12
申请号：KR1020110053199
申请日：2011-06-02
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 이강석 , 최종수
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/67 , C11D3/12
CPC分类号： H01L21/02052 , C11D3/1213 , C11D3/122 , H01L21/02057 , H01L21/6704
摘要： PURPOSE: A substrate cleaning method is provided to clean a substrate by spraying a medicinal fluid or deionized water on the substrate. CONSTITUTION: A mixture including sulfuric acid and hydrogen peroxide is supplied to a substrate. The substrate is medicinally processed by the mixture(S10). The substrate is medicinally processed by supplying diluted ammonia water to the substrate(S20). The substrate is rinsed after the medicinal process(S30). The substrate is dried after rinse(S40). [Reference numerals] (S10) SPM processing on a substrate; (S20) Diluted ammonia water processing on the substrate; (S30) Rinsing the substrate; (S40) Drying the substrate
摘要翻译：目的：提供基材清洗方法，通过在基材上喷涂药液或去离子水来清洗基材。构成：将含有硫酸和过氧化氢的混合物供给至基材。基板由混合物进行药物处理（S10）。通过向基板供给稀释的氨水，对基板进行医疗处理（S20）。药物处理后冲洗底物（S30）。冲洗后将基材干燥（S40）。（附图标记）（S10）在基板上的SPM处理; （S20）在基板上稀释氨水处理; （S30）冲洗基材; （S40）干燥基板

5. 发明公开

KR1020110131707A 기판 세정 장치 및 그 장치에서의 기판 세정 방법 无效
标题翻译：用于清洁基板的装置和用于在装置中清洁基板的方法
公开(公告)号：KR1020110131707A
公开(公告)日：2011-12-07
申请号：KR1020100051283
申请日：2010-05-31
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 이복규 , 최종수
IPC分类号： H01L21/302
CPC分类号： H01L21/67034
摘要： PURPOSE: A substrate cleaning apparatus and a substrate cleaning method thereof are provided to completely eliminate a drying fluid used in a drying process from the surface of a substrate, thereby suppressing water stain generation. CONSTITUTION: A substrate is cleaned with a cleaning fluid(S100). The substrate is rinsed with a rinse fluid(S110). The substrate is dried with a first drying fluid for the first time(S120). The substrate is dried with a second drying fluid for the second time(S130). The substrate is finally dried with a nitrogen gas(S140). A support member supports and rotates the substrate.
摘要翻译：目的：提供一种基板清洗装置及其基板清洗方法，从基板表面完全消除干燥工序中使用的干燥流体，抑制产生水渍。构成：用清洁液清洗基材（S100）。用冲洗液冲洗底物（S110）。首先用第一干燥流体干燥基板（S120）。用第二干燥液第二次干燥基板（S130）。最后用氮气干燥底物（S140）。支撑构件支撑并旋转衬底。

6. 发明公开

KR1020100112798A 습식 기판 처리 방법 无效
标题翻译：用于处理湿巾类型的基材的方法
公开(公告)号：KR1020100112798A
公开(公告)日：2010-10-20
申请号：KR1020090031272
申请日：2009-04-10
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 이복규 , 최종수
IPC分类号： H01L21/306 , H01L21/304
CPC分类号： H01L21/30608
摘要： PURPOSE: A method for treating a wet-type substrate is provided to improve the efficiency of processing a wet-type substrate by using a processing liquid having improved spreading. CONSTITUTION: A substrate is prepared(S110). The substrate is load and rotated(S120). The substrate is heated to a set temperature(S130). The substrate is processed by solution treatment to increase the diffusion of a solution(S140). The substrate is unloaded(S150).
摘要翻译：目的：提供一种处理湿式基材的方法，以通过使用具有改进的铺展的处理液来提高湿式基材的加工效率。构成：制备底物（S110）。衬底被加载和旋转（S120）。将基板加热至设定温度（S130）。通过溶液处理来处理底物以增加溶液的扩散（S140）。卸载基板（S150）。

7. 发明公开

KR1020100102951A 스핀 코터 장치 및 스핀 코터 장치를 이용하여 감광액을 도포하는 방법 失效
标题翻译：旋转涂布机装置和使用其的涂料照相机的方法
公开(公告)号：KR1020100102951A
公开(公告)日：2010-09-27
申请号：KR1020090021282
申请日：2009-03-12
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 정영헌 , 조수현 , 최종수
IPC分类号： G03F7/16 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/162 , G03F7/168 , H01L21/67017 , H01L21/6715
摘要： PURPOSE: A spin coater apparatus and a method for coating a photoresist using the same are provided to prevent bubbles from being generated on a wafer when a highly viscous photoresist is coated and to evenly coat the highly viscous photoresist. CONSTITUTION: A method for coating a photoresist using a spin coater which coats the photoresist while rotating a wafer comprises the following steps: performing a first coating process of coating a wafer(110) with the photoresist using a nozzle(130) for spraying the photoresist from the edge of the wafer to the center of the wafer; firstly baking the firstly coated photoresist; secondarily coating the photoresist on the wafer by moving the nozzle; and secondarily baking the secondarily coated photoresist.
摘要翻译：目的：提供旋涂机装置和使用其的涂覆光致抗蚀剂的方法，以防止在涂覆高粘度光致抗蚀剂时在晶片上产生气泡并均匀地涂覆高粘度光致抗蚀剂。构成：使用旋转涂布机在旋转晶片时涂覆光致抗蚀剂的方法，包括以下步骤：使用用于喷涂光致抗蚀剂的喷嘴（130）执行用光致抗蚀剂涂覆晶片（110）的第一涂覆工艺，从晶片的边缘到晶片的中心; 首先烘烤第一次涂覆的光致抗蚀剂; 通过移动喷嘴二次在晶片上涂覆光致抗蚀剂; 并二次烘烤二次涂覆的光致抗蚀剂。

8. 发明授权

KR100949610B1 노광 후 웨이퍼 이송을 제어하는 방법 및 시스템 有权
标题翻译：在扫描过程之后控制晶片流动的方法和系统
公开(公告)号：KR100949610B1
公开(公告)日：2010-03-25
申请号：KR1020080015435
申请日：2008-02-20
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 강동연 , 노형래 , 최종수 , 오두영
IPC分类号： H01L21/68
摘要： 본 발명은 웨이퍼 이송 방법 및 시스템에 관한 것으로 더욱 상세하게는, 노광기를 거친 후 웨이퍼의 이송 흐름을 제어하는 방법 및 시스템에 관한 것이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 노광 후 웨이퍼 이송을 제어하는 방법은 노광기에 의하여 노광 처리된 제1 웨이퍼를 제1 버퍼로 이송하는 단계, 제1 버퍼에 머무르는 상기 제1 웨이퍼를 복수의 노광 후 베이킹 장치 중 하나로 이송하는 단계, 및 상기 복수의 노광 후 베이킹 장치 중 하나로부터 노광 후 베이킹 공정이 종료된 제2 웨이퍼를 제2 버퍼로 이송시키는 단계를 포함한다.
웨이퍼 이송, PED, 버퍼, 흐름 제어, PED 도달시간

9. 发明公开

KR1020070036865A 노즐 세정 장치 无效
标题翻译：喷嘴清洁装置
公开(公告)号：KR1020070036865A
公开(公告)日：2007-04-04
申请号：KR1020050091841
申请日：2005-09-30
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 최종수 , 조수현 , 류인철 , 이우석
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70925 , B08B3/02 , G03F7/3057 , H01L21/02057 , H01L21/67051
摘要： 본 발명은 반도체 제조 장치에 사용되는 노즐을 세정하는 장치에 관한 것이다.
상술한 목적을 해결하기 위한 본 발명의 실시예에 따른 노즐 세정 장치는 상부가 개방되어 상기 노즐이 안치되는 공간이 제공되는 하우징 및 상기 하우징에 결합되어 상기 노즐을 향해 세정액을 공급하는 세정액 공급 라인 및 건조가스를 공급하는 건조가스 공급 라인을 포함하며, 상기 노즐은 웨이퍼에 감광액을 분사하는 노즐이다.
본 발명에 따른 노즐 세정장치는 노즐의 세정 및 건조를 실시하는 노즐 세정장치를 제공하여 노즐이 처리액에 의해 응고되는 현상을 효과적으로 방지한다.
노즐, 노즐 세정 장치, 감광액, 세정 장치,

10. 发明授权

KR100625322B1 스피너 시스템 및 그의 인터락 제어 방법 有权
标题翻译：微调系统及其联锁控制方法
公开(公告)号：KR100625322B1
公开(公告)日：2006-09-15
申请号：KR1020050075854
申请日：2005-08-18
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 최영권 , 최종수
IPC分类号： H01L21/027

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式