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1. 发明公开

KR1020070016460A 케미컬 공급 장치 및 케미컬 공급 방법 有权
标题翻译：提供化学溶液的装置和方法
公开(公告)号：KR1020070016460A
公开(公告)日：2007-02-08
申请号：KR1020050071138
申请日：2005-08-03
申请人： 삼성전자주식회사 , 씨에스케이(주)
发明人： 남태영 , 김왕근 , 이상곤 , 노영석 , 김호왕 , 김진원 , 김형극
IPC分类号： H01L21/02
CPC分类号： B08B3/00 , C23C16/4482
摘要： 본 발명은 케미컬 공급 장치 및 케미컬 공급 방법에 관한 것으로, 케미컬이 저장된 모 탱크(Mother Tank)와, 상기 모 탱크에 비해 제1 거리차(h)만큼 상대적으로 높은 위치에 배치되어 상기 모 탱크와의 위치간 압력차에 의해 상기 모 탱크로부터 상기 케미컬을 정량적으로 제공받는 중간 탱크(Intermediate Tank)와, 상기 중간 탱크에 비해 제2 거리차(h')만큼 상대적으로 높은 위치에 배치되어 상기 중간 탱크와의 위치간 압력차에 의해 상기 중간 탱크로 제공된 정량의 케미컬을 제공받는 버블링 탱크(Bubbling Tank)를 포함하는 케미컬 공급 장치를 이용하여 정량의 케미컬을 안정적으로 공급할 수 있는 것을 특징으로 한다. 이에 의하면, 중간 버퍼링 탱크를 설치하여 케미컬 공급의 안정성을 확보할 수 있는 효과가 있고, 정량의 중간 버퍼링 탱크를 사용하여 정해진 양만큼 케미컬을 공급하기 때문에 케미컬 공급 과잉에 따른 공정 사고 내지는 안전 사고를 미연에 방지할 수 있는 효과가 있다.
반도체, 케미컬, 전구체, 버퍼링 탱크

2. 发明授权

KR100706793B1 케미컬 공급 장치 및 케미컬 공급 방법 有权
标题翻译：化学饲料和化学饲料
公开(公告)号：KR100706793B1
公开(公告)日：2007-04-12
申请号：KR1020050071138
申请日：2005-08-03
申请人： 삼성전자주식회사 , 씨에스케이(주)
发明人： 남태영 , 김왕근 , 이상곤 , 노영석 , 김호왕 , 김진원 , 김형극
IPC分类号： H01L21/02
CPC分类号： B08B3/00 , C23C16/4482
摘要： 본 발명은 테스트 시스템에 관한 것이다. 본 발명에 따른 테스트 시스템은 테스트 데이터를 생성하는 레퍼런스 칩과, 상기 테스트 데이터를 입력받아 상기 레퍼런스 칩으로 상기 테스트 데이터를 반환하는 테스트 대상 칩을 포함하며, 상기 레퍼런스 칩은 상기 테스트 데이터와 상기 반환된 테스트 데이터를 비교하여 상기 테스트 대상 칩의 데이터 전송 동작 이상 유무를 판별하는 것을 특징으로 한다.
반도체, 케미컬, 전구체, 버퍼링 탱크
摘要翻译：本发明涉及一种测试系统。测试系统包括测试芯片，用于接收所述参考芯片，用于生成测试数据与参考芯片返回的测试数据的测试数据，根据本发明的参考芯片所述返回和测试数据并将测试数据相互比较以确定待测芯片是否存在数据传输操作异常。

3. 发明授权

KR100855582B1 액 공급 장치 및 방법, 상기 장치를 가지는 기판 처리설비, 그리고 기판 처리 방법 失效
标题翻译：液体供应单元和方法，用于处理基板的设备，以及处理基板的方法
公开(公告)号：KR100855582B1
公开(公告)日：2008-09-03
申请号：KR1020070003838
申请日：2007-01-12
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 남태영 , 김태호 , 김호왕 , 이상곤 , 안병호 , 김형구
IPC分类号： H01L21/208
CPC分类号： C23C16/4485 , C23C16/52
摘要： 본 발명은 가스를 공급하여 버퍼 용기 내부를 가압함으로써 버퍼 용기 내에 채워진 케미컬을 버퍼 용기 외부로 공급하는 액 공급 장치를 제공한다. 본 발명에 의하면, 버퍼 용기의 내부 압력을 측정할 수 있는 압력 센서가 제공되며, 버퍼 용기 내부에 케미컬을 충전할 때 버퍼 용기 내부 압력이 설정 압력 이상이면 버퍼 용기 내 가스를 배기하도록 벤트 라인이 설치된다.
버퍼 용기, 전구체, 케미컬, 벤트 라인, 기화기

4. 发明公开

KR1020060010540A 반도체 공정용 불소가스제조장치 无效
标题翻译：在半导体工艺中制造氟化物气体的装置
公开(公告)号：KR1020060010540A
公开(公告)日：2006-02-02
申请号：KR1020040059275
申请日：2004-07-28
申请人： (주)원익머트리얼즈 , 삼성전자주식회사
发明人： 한동훈 , 김왕근 , 이상곤 , 김종산 , 한중기 , 김호왕 , 남태영 , 하상선 , 이준열 , 김철호
IPC分类号： H01L21/02
CPC分类号： H01L21/02 , B01J19/24 , H01L21/67098 , H01L21/6715 , H01L2924/01009
摘要： 본 발명은 반도체 공정용 불소가스 제조장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 불소가스 발생장치에서 발생되는 불소가스의 불순물을 제거하는 필터장치를 구비하여 반도체 공정으로 투입되는 불소가스의 순도를 향상시킬 수 있는 반도체 공정용 불소가스 제조장치에 관한 것이다.

5. 发明公开

KR1020010084011A 반도체장치 제조설비의 가스공급시스템 无效
标题翻译：半导体制造设备气体供应系统
公开(公告)号：KR1020010084011A
公开(公告)日：2001-09-06
申请号：KR1020000008744
申请日：2000-02-23
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김종철 , 노영석 , 김호왕 , 이용욱
IPC分类号： H01L21/18
摘要： PURPOSE: A gas supply system of semiconductor manufacturing equipment is provided to supply continuously a gas by using a multitude of process line for connecting a multitude of cylinder cabinet with main equipment. CONSTITUTION: The first cylinder cabinet(10) is formed with a multitude of valve, a pressure controller, a regulator, and a filter. The first and the second gas cylinders(11A,11B) are connected with the first cylinder cabinet(10) by the first and the second process lines(12A,12B). The first cylinder cabinet(10) is connected with the first valve manifold box(13) by the third process line(14). In the second gas supply system, the second cylinder cabinet(20) and the third and the fourth gas cylinders(21A,21B) are connected by the fourth and the fifth process lines(22A,22B). The second cylinder cabinet(20) and the second valve manifold box(23) are connected by the sixth process line(24). A heater(30) is installed on the first, the second, the fourth, and the fifth process lines(12A,12B,22A,22B). The first and the second valve manifold box(13,23) are connected with main equipment.
摘要翻译：目的：提供半导体制造设备的气体供应系统，通过使用大量的工艺线连接多个缸柜与主要设备来连续供应气体。构成：第一个气缸柜（10）形成有多个阀门，压力控制器，调节器和过滤器。第一和第二气瓶（11A，11B）通过第一和第二处理管线（12A，12B）与第一缸室（10）连接。第一气缸柜（10）通过第三处理管线（14）与第一阀歧管箱（13）连接。在第二气体供给系统中，第二气缸柜（20）和第三和第四气瓶（21A，21B）通过第四和第五处理管线（22A，22B）连接。第二气缸柜（20）和第二阀歧管箱（23）通过第六工艺管线（24）连接。加热器（30）安装在第一，第二，第四和第五处理线（12A，12B，22A，22B）上。第一和第二阀歧管箱（13,23）与主设备连接。

6. 发明公开

KR1019990070671A 반도체장치 제조용 응축핵 카운터 无效
标题翻译：半导体器件制造的冷凝核计数器
公开(公告)号：KR1019990070671A
公开(公告)日：1999-09-15
申请号：KR1019980005643
申请日：1998-02-23
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김호왕 , 오윤철 , 한윤수 , 김대열
IPC分类号： H01L21/66
摘要： 본 발명은 반도체장치 제조용 응축핵 카운터에 관한 것이다.
본 발명은, 분석가스 및 응축용 케미컬이 공급되며, 상기 응축용 케미컬을 특정온도로 가열하는 포화기와 상기 포화기와 연결되고, 상기 포화기에서 가열된 응축용 케미컬을 응축시켜 상기 분석가스에 포함된 파티클의 크기를 성장시키는 냉각탑과 상기 냉각탑과 연결되고, 상기 분석가스에 포함된 특정크기 이상의 파티클의 개수를 측정하는 파티클 측정장치와 상기 파티클 측정장치와 연결되고, 상기 분석가스 및 응축된 응축용 케미컬을 외부로 펌핑하는 펌프가 구비되는 반도체장치 제조용 응축핵 카운터에 있어서, 상기 펌프 일측에 필터링수단이 더 구비되거나, 상기 펌프의 펌핑에 의해서 방출된 상기 분석가스 및 응축된 응축용 케미컬이 다시 상기 포화기로 순환할 수 있도록 순환라인이 형성되고, 상기 순환라인 상에 필터링수단이 설치되는 � ��에 특징이 있다.
따라서, 부탄올 등의 응축용 케미컬의 누출에 따른 문제점을 해결할 수 있는 효과가 있다.

7. 发明公开

KR1019990001385A 반도체장치 제조설비용 이슬점측정장치의 센서부 및 그 퍼지방법 无效
标题翻译：半导体器件制造设备的露点测量装置的传感器部件及其清洗方法
公开(公告)号：KR1019990001385A
公开(公告)日：1999-01-15
申请号：KR1019970024689
申请日：1997-06-13
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김호왕 , 류재준 , 장현천 , 김수련
IPC分类号： H01L21/22
摘要： 본 발명은 반도체장치 제조설비용 이슬점측정장치의 센서부 및 그 퍼지방법에 관한 것이다.
본 발명은, 가스에 포함되어 있는 수분 또는 습기 등을 측정하는 반도체장치 제조설비용 이슬점측정장치의 센서부에 있어서, 상기 센서부에 상기 가스를 유입시키는 유입수단 및 상기 센서부에 유입된 가스를 배기시키는 배기수단 각각에 대기중의 수분 또는 습기 등의 유입을 차단시키는 개폐수단을 더 구비시킴을 특징으로 한다.
따라서, 이슬점측정장치의 센서부는 별도의 안정화 작업이 필요없고 또한 측정데이터의 신뢰도 등의 향상으로 인하여 이슬점측정장치의 효율성이 향상되는 효과가 있다.

8. 发明授权

KR100780864B1 케미컬 공급 장치, 이를 구비한 반도체 제조 설비 및케미컬 공급 방법 失效
标题翻译：供应制造半导体器件的化学品和方法的装置和供应化学品的方法
公开(公告)号：KR100780864B1
公开(公告)日：2007-11-29
申请号：KR1020060047226
申请日：2006-05-25
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 진은옥 , 이상곤 , 김호왕 , 남태영 , 한충근
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/304
CPC分类号： G05D9/12 , G01F23/296 , G01F23/2961 , G01F23/2968
摘要： A chemical supply apparatus, an apparatus for manufacturing a semiconductor device, and a method for supplying chemicals are provided to reduce process errors by monitoring the remaining amount of chemical. A tank(100) is filled with a liquefied chemical(103). The tank includes a liquefied chemical outflow tube. A first sensor is formed to sense a level of the liquefied chemical by applying a predetermined signal to a surface of the liquefied chemical. A plurality of probes(131,132) include gaps to receive the liquefied chemical. A second sensor is formed in the gaps in order to sense the presence of the liquefied chemical and to sense the level of the liquefied chemical. The first sensor is formed with an ultrasonic sensor which is positioned at a bottom surface of the tank in order to sense the level of the liquefied chemical by applying the signal to the surface of the liquefied chemical and detecting the signal reflected from the liquefied chemical.
摘要翻译：提供一种化学品供应装置，用于制造半导体装置的装置以及用于提供化学品的方法，以通过监测化学品的剩余量来减少工艺误差。罐（100）中充满液化化学物（103）。该罐包括液化的化学品流出管。第一传感器被形成为通过向液化化学品的表面施加预定信号来感测液化化学品的水平。多个探针（131,132）包括用于接收液化化学品的间隙。在间隙中形成第二传感器，以便感测液化化学品的存在并感测液化化学品的含量。第一传感器形成有超声波传感器，其位于罐的底表面处，以通过将信号施加到液化化学品的表面并检测从液化化学品反射的信号来感测液化化学品的水平。

9. 发明公开

KR1020010068231A 가스공급시스템의 보정방법 无效
标题翻译：气体供应系统校准方法
公开(公告)号：KR1020010068231A
公开(公告)日：2001-07-23
申请号：KR1020000000038
申请日：2000-01-03
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김호왕 , 노영석 , 김유권 , 김종철
IPC分类号： H01L21/02
摘要： PURPOSE: A calibrating method of a gas supply system is provided to remove inconvenient calibration by automatically calibrating an offset value of pressure and weight and a span value through a simple arithmetic program. CONSTITUTION: Condition of a component is controlled before a gas cylinder is exchanged(S100). The gas cylinder in empty state is desorbed(S110). A calibration of the lowest value and a calibration of an offset value are carried out(S120-S130). The gas cylinder in full state is installed(S140). And then, a calibration of a span value is carried out(S150). Finally, condition of the component is controlled after gas exchange(S160). Data with respect to gas pressure and weight are inputted. The lowest value of pressure and weight is calibrated by an arithmetic program. For the purpose of reflecting an offset value of gas pressure and weight of a residual gas before the gas cylinder is exchanged, the offset value is inputted and the calibration is conducted. For the purpose of correcting a span value of pressure and weight of the gas and displayed pressure and weight, the span value is inputted and the calibration is conducted.
摘要翻译：目的：提供气体供应系统的校准方法，以通过简单的算术程序自动校准压力和重量的偏移值和跨度值来消除不便的校准。构成：在更换气瓶之前控制部件的状态（S100）。空状态的气瓶解吸（S110）。执行最小值的校准和偏移值的校准（S120-S130）。安装完全状态的气瓶（S140）。然后，执行跨度值的校准（S150）。最后，在气体交换后控制部件的状态（S160）。输入关于气体压力和重量的数据。压力和重量的最低值通过算术程序进行校准。为了在气瓶更换之前反映气体压力的偏移值和残余气体的重量，输入偏移值并进行校准。为了校正气体的压力和重量的跨度值以及显示的压力和重量，输入量程值并进行校准。

10. 发明授权

KR100236717B1 크린룸용 방진복의 파티클발생 분석장치 및 이를 이용한 파티클분석방법 失效
标题翻译：用于清洁室的颗粒形成分析仪及其方法
公开(公告)号：KR100236717B1
公开(公告)日：2000-01-15
申请号：KR1019970073508
申请日：1997-12-24
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 한윤수 , 김혁기 , 김현준 , 김호왕
IPC分类号： G01N21/51 , G01N21/85
CPC分类号： G01N15/02
摘要： 본 발명은 크린룸용 방진복의 파티클발생 분석장치 및 이를 이용한 파티클 분석방법에 관한 것이다.
본 발명에 따른 방진복 분석장치는, 방진복이 착용가능한 인체모형기, 상기 인체모형기에 부착되며, 상기 인체모형기에서 에어를 방출시킬 수 있는 에어공급수단 및 상기 인체모형기에 부착되며, 상기 인체모형기에서 파티클을 방출시킬 수 있는 파티클공급수단을 구비하여 이루어지며, 본 발명에 따른 방진복 분석방법은, 상기 방진복을 세정하는 단계, 상기 방진복에서 발생되는 파티클의 개수를 측정하는 단계, 상기 인체모형기에 상기 방진복을 착용시키는 단계, 상기 에어공급수단에 의해서 방진복 내부에 에어를 방출하고, 상기 파티클공급수단에 의해서 방진복 내부에 파티클을 소정개수 방출하는 단계 및 상기 방진복 외부에서 파티클의 개수를 측정하는 단계를 구비하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
따라서, 방진복을 용이하게 분석할 수 있는 효과가 있다.

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