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热词
    • 5. 发明公开
    • 플라즈마 식각설비의 웨이퍼 서셉터
    • 等离子体蚀刻装置的波形截止器
    • KR1020070009159A
    • 2007-01-18
    • KR1020050064230
    • 2005-07-15
    • 삼성전자주식회사
    • 이혁재김상호김현오박진준배도인서기원이태원
    • H01L21/68
    • H01L21/6831H01J37/32642H01L21/67069H01L21/68735
    • A wafer susceptor for plasma etching equipment is provided to prevent a cover ring and a focus ring from being partially damaged during an etching process by effectively revising a shape of a ring assembly. An electrostatic chuck body(140) has a table part and a surrounding part enclosing the table part, in which a stepped portion is formed between the table part and the surrounding part. A ring holder(170) encloses a side of the electrostatic chuck body, and a base ring(150) encloses an outer side of the ring holder and has an upper surface flush with an upper surface of the ring holder. A focus ring(180) covers the upper surfaces of the surrounding part and ring holder. A cover ring(160) encloses an outer side of the focusing ring and also covers an upper end of the base ring.
    • 提供了一种用于等离子体蚀刻设备的晶片基座,以通过有效地修改环形组件的形状来防止覆盖环和聚焦环在蚀刻过程期间被部分损坏。 静电吸盘体(140)具有台部和包围台部的周围部,台部与周围部之间形成台阶部。 环形支架(170)围绕静电卡盘体​​的一侧,并且环形圈(150)包围环形支架的外侧,并且具有与环形支架的上表面齐平的上表面。 聚焦环(180)覆盖周围部分和环形支架的上表面。 盖环(160)包围聚焦环的外侧并且还覆盖基环的上端。
    • 6. 发明公开
    • 반도체 웨이퍼 이송용 로봇
    • 机器人转移波浪
    • KR1020070004230A
    • 2007-01-09
    • KR1020050059661
    • 2005-07-04
    • 삼성전자주식회사
    • 이혁재박성욱배도인서기원우창우이태원
    • H01L21/68B65G47/22B25J9/06
    • H01L21/681
    • A semiconductor wafer transfer robot is provided to reduce an occupational area of semiconductor manufacturing equipment by performing simultaneously a wafer transfer function and a wafer align function. A semiconductor wafer transfer robot(40) includes a support shaft(22), a robot arm(16a,16b) on the support shaft, a robot chuck(18) with finger portions capable of supporting an edge portion of a wafer, a guide rail(26) prolonged to a robot chuck from the support shaft, a rotating unit(30) for moving and rotating the wafer according to the guide of the guide rail, a detecting unit(32a,32b) for detecting a flat zone of the wafer on the support shaft, and a controller for controlling the support shaft, the robot arm and the rotating unit.
    • 提供半导体晶片传送机器人,通过同时执行晶片传递功能和晶片对准功能来减少半导体制造设备的职业领域。 半导体晶片传送机器人(40)包括支撑轴(22),支撑轴上的机器人臂(16a,16b),具有能够支撑晶片的边缘部分的指状部分的机器人卡盘(18),引导件 轨道(26)从支撑轴延伸到机器人卡盘,用于根据导轨的引导件移动和旋转晶片的旋转单元(30),用于检测导轨的平坦区域的检测单元(32a,32b) 支撑轴上的晶片,以及用于控制支撑轴,机器人臂和旋转单元的控制器。
    • 9. 发明授权
    • 뮤지컬 잡음을 감쇄하는 스펙트럼 잡음 제거 방법 및 그장치
    • 频谱噪声消除方法和衰减音乐噪声的装置
    • KR100565086B1
    • 2006-03-30
    • KR1020040081774
    • 2004-10-13
    • 삼성전자주식회사
    • 오윤학이혁재
    • G11B20/10
    • 본 발명은 캠코더와 같은 레코더기기에서 잡음과 오디오 신호가 입력될 때 잡음을 제거한 후 발생하는 뮤지컬 노이즈를 감쇄시키는 스펙트럼 잡음 제거 방법 및 그 장치가 개시되어 있다. 본 발명은 현재 프레임이 잡음 프레임으로 판별되면 이전 프레임의 잡음 스펙트럼과 현재 프레임의 스펙트럼을 바탕으로 잡음 스펙트럼을 갱신하는 과정, 입력되는 프레임 단위의 오디오 스펙트럼에서 상기 갱신된 잡음 스펙트럼을 차감하고, 그 차감된 신호의 스펙트럼에서 발생되는 뮤지컬 노이즈의 인접 대역에 소정의 매스킹 노이즈를 삽입하여 상기 뮤지컬 노이즈를 매스킹하는 과정을 포함한다.
    • 公开了一种用于消除频谱噪声的方法和装置,该频谱噪声衰减了在从诸如摄像机的记录器装置去除噪声之后产生的音乐噪声。 本发明中减去噪声谱更新在过程的帧单元中的音频频谱,当当前帧被确定为噪声帧,则净输入来更新噪声频谱以及基于所述前一帧的帧的频谱的当前噪声谱 并且通过将预定的掩蔽噪声插入在接收信号的频谱中产生的音乐噪声的相邻频带中来掩蔽音乐噪声。