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热词
    • 1. 发明公开
    • 적층 칩 패키지와 그 제조 방법
    • 堆叠芯片包装及其制造方法
    • KR1020030050665A
    • 2003-06-25
    • KR1020010081164
    • 2001-12-19
    • 삼성전자주식회사
    • 류재봉김희석진호태
    • H01L25/065
    • H01L24/73H01L2224/32145H01L2224/32225H01L2224/48227H01L2224/73265H01L2924/15311H01L2924/00012H01L2924/00
    • PURPOSE: A stack chip package and a method for manufacturing the same are provided to be capable of reducing the thickness and signal transmitting path of the package by mounting solder balls on the connecting parts formed in stacked semiconductor chips as an outer connecting part without using wires. CONSTITUTION: A plurality of semiconductor chips(201a,201b,201c) include a micro circuit and a plurality of through-holes(207), respectively. The semiconductor chips are sequentially stacked corresponding to the through-holes of each semiconductor chip. A plurality of adhesive parts(250) are located between the semiconductor chips, wherein each adhesive part has a plurality of connecting holes(257) corresponding to the through-holes. A plurality of connecting parts(260) are formed in the through-holes and connecting holes. A plurality of outer connecting parts(240) are mounted corresponding to the exposed end portions of the connecting parts.
    • 目的:提供一种堆叠芯片封装及其制造方法,能够通过将焊球安装在作为外部连接部的叠层半导体芯片形成的连接部上而不使用导线来减小封装的厚度和信号传输路径 。 构成:多个半导体芯片(201a,201b,201c)分别包括微电路和多个通孔(207)。 半导体芯片相应于每个半导体芯片的通孔依次层叠。 多个粘接部分(250)位于半导体芯片之间,其中每个粘合部分具有对应于通孔的多个连接孔(257)。 多个连接部件(260)形成在通孔和连接孔中。 多个外连接部件(240)相对于连接部件的暴露端部安装。
    • 2. 发明公开
    • 정전기 제거장치를 구비한 반도체 패키지 다이접착장치의 칩 이송부와 이를 이용한 칩 이송 방법
    • 带静电去除装置的半导体封装芯片键合装置的芯片传送部分及使用其的芯片传送方法
    • KR1019990030512A
    • 1999-05-06
    • KR1019970050732
    • 1997-10-01
    • 삼성전자주식회사
    • 최희국진호태김병만
    • H01L23/48
    • 반도체 패키지 제조에 있어서, 다이접착(Die-Attach) 공정은 픽업, 이송 및 칩(1)을 스테이지(3)에 내려 놓는 동작을 거쳐 칩(1)을 리드프레임(Lead Frame)(5)에 접착시키게 되는데, 이때 다이 본더(Die Bonder) 각 부위에는 정전기가 발생하게 된다. 이와 같이 발생된 정전기는 전기적인 방전을 일으켜 칩(1) 내부의 회로를 파괴시키거나 반도체의 동작 특성을 열화시킨다. 종래 기술에서 픽업부, 이송부(4)의 정전기는 정전기 제거장치(De-ionizer)에 의해 제거가 가능하나 칩(1)을 스테이지(3)에 내려 놓는 동작 시 공기나 질소 가스(12)를 공급하는 호스(7) 내부와 공기나 질소 가스(12) 자체에서 발생되는 정전기는 제거가 불가능하다. 본 발명은 솔레노이드(13) 동작에 의해 진공과 공기 또는 질소 가스(12)를 제어 및 공급하고, 정전기 제거장치(14)를 다이 본더에 설치하여 공기나 질소 가스(12)를 상기 정전기 제거장치(14)에 통과시켜 공기나 질소 가스(12)에 발생된 정전기와 호스(7) 내부의 정전기를 제거하여 정전기에 의한 회로 파괴와 제품 열화를 방지한다.
    • 10. 发明公开
    • 반도체의 잔류 응력 제거장치 및 잔류 응력 제거방법
    • 降低半导体残留应力的装置和方法
    • KR1020140091203A
    • 2014-07-21
    • KR1020130003118
    • 2013-01-10
    • 삼성전자주식회사한양대학교 산학협력단
    • 박재동김학성이정삼전은범진호태
    • H01L21/268
    • H01L21/67115H01L21/2686H01L21/68
    • Disclosed are an apparatus and a method for removing residual stress of a semiconductor chip using an IPL annealing technology. The apparatus for reducing a residual stress of a semiconductor chip according to the present invention includes: a stage for supporting a semiconductor wafer to remove a residual stress generated in a semiconductor manufacturing process; an IPL irradiation unit which is disposed to approach the stage or be spaced apart from the stage and irradiates intense pulsed light (IPL) to reduce the residual stress; and an alignment unit for controlling the relative positions of the semiconductor wafer supported by the stage and the IPL irradiation unit. Therefore, the residual stress of a semiconductor can be removed in a normal temperature and an atmospheric pressure condition, can be reduced in a short time while reducing a possibility of element deformation in comparison with the related art, and the strength of a semiconductor can be improved due to the removal of the residual stress.
    • 公开了使用IPL退火技术去除半导体芯片的残余应力的装置和方法。 根据本发明的用于减小半导体芯片的残余应力的装置包括:用于支撑半导体晶片以消除在半导体制造工艺中产生的残余应力的平台; IPL照射单元,其被设置为接近平台或与舞台间隔开并照射强脉冲光(IPL)以减少残余应力; 以及对准单元,用于控制由载物台和IPL照射单元支撑的半导体晶片的相对位置。 因此,与现有技术相比,可以在短时间内减少半导体的残余应力,同时减少元件变形的可能性,半导体的强度可以是 由于去除了残余应力而得到改善。