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1. 发明授权

KR101825493B1 금속 배선용 식각액 조성물 및 이를 이용한 박막 트랜지스터 표시판의 제조방법 有权
标题翻译：用于电极的蚀刻剂和使用该蚀刻剂制造薄膜晶体管阵列面板的方法
公开(公告)号：KR101825493B1
公开(公告)日：2018-02-06
申请号：KR1020100036364
申请日：2010-04-20
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 솔브레인 주식회사
发明人： 이병진 , 박홍식 , 이태형 , 송용성 , 박충우 , 오종현
IPC分类号： C09K13/10
CPC分类号： C09K13/10 , C23F1/10 , C23F1/44 , H01L21/32134 , H01L27/124 , H01L27/1259 , H01L29/4908
摘要： 본발명은표시장치의금속배선을식각하기위한식각액에관한것으로, 본발명에따른금속배선식각액은과산화수소, 산화제, 불소화합물, 킬레이트제, 질산계화합물, 붕소계화합물, 첨가제및 잔량의물을포함하는것을특징으로한다.
摘要翻译：本发明涉及用于蚀刻金属布线的蚀刻剂，并且根据本发明的金属布线蚀刻剂包括约5重量％至约15重量％的过氧化氢，约0.5重量％至约5重量％的氧化剂，约0.1重量％至约1重量％的氟化物基化合物，约0.5重量％至约5重量％的硝酸盐基化合物和约0.05重量％至约1重量％的硼基化合物。

2. 发明公开

KR1020090095181A 금속배선 형성용 식각액 조성물, 이 조성물을 이용한도전막의 패터닝 방법 및 평판 표시 장치의 제조방법 无效
标题翻译：用于图案金属层的蚀刻组合物，使用其形成导电层的方法和使用其制造平板显示器的方法
公开(公告)号：KR1020090095181A
公开(公告)日：2009-09-09
申请号：KR1020080020352
申请日：2008-03-05
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 솔브레인 주식회사
发明人： 김봉균 , 박홍식 , 정종현 , 홍선영 , 이지선 , 이병진 , 백귀종 , 이태형 , 송용성
IPC分类号： C23F1/16
CPC分类号： C09K13/06 , H01L29/458 , H01L29/4908 , C23F1/16 , C23F1/02 , C23F1/20 , C23F1/26 , H01L21/302
摘要： An etchant composite for forming a metal wiring and a method for patterning a conductive film and for manufacturing a flat panel display using the etchant composite are provided to extend the lifetime of etchant by lowering the vocalization of the oxidizer. A manufacturing method of a flat panel display using the etchant composite for forming a metal wiring comprises a substrate(100). A gate wiring and a gate electrode(110) are formed by forming a first conductive film on the substrate and patterning. A semiconductor layer is formed on the top of the substrate in which the gate wiring is formed. After forming a second conductive film on the semiconductor layer and patterning, and then a source electrode(140a) and a drain electrode(140b) are formed. A protective layer(150) has a contact hole(CNT) exposing one part of the drain electrode is built up. A third conductive film is electrically connected with the drain electrode through a contact hole and located on the protective layer. The third conductive film is patterned to form a pixel electrode(160).
摘要翻译：提供用于形成金属布线的蚀刻剂复合材料和用于图案化导电膜并用于使用蚀刻剂复合材料制造平板显示器的方法，以通过降低氧化剂的发声来延长蚀刻剂的使用寿命。使用蚀刻剂复合材料形成金属布线的平板显示器的制造方法包括基板（100）。通过在衬底上形成第一导电膜并进行构图，形成栅极布线和栅电极（110）。在形成栅极布线的基板的顶部上形成半导体层。在半导体层上形成第二导电膜并构图后，形成源电极（140a）和漏电极（140b）。保护层（150）具有暴露一部分漏电极的接触孔（CNT）。第三导电膜通过接触孔与漏极电连接并位于保护层上。图案化第三导电膜以形成像素电极（160）。

3. 发明授权

KR101527160B1 식각액 조성물, 이를 사용한 금속 패턴의 형성 방법 및박막 트랜지스터 표시판의 제조 방법 有权
标题翻译：蚀刻组合物，形成金属图案的方法和使用其制造薄膜晶体管阵列的方法
公开(公告)号：KR101527160B1
公开(公告)日：2015-06-10
申请号：KR1020080038784
申请日：2008-04-25
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 솔브레인 주식회사
发明人： 이병진 , 박홍식 , 정종현 , 홍선영 , 김봉균 , 최영주 , 서남석 , 이태형 , 송용성 , 하현
IPC分类号： C09K13/08
摘要： 본발명은인산 80 내지 90 중량%, 황산 0.1 내지 5 중량%, 불화암모늄 0.1 내지 2 중량% 및전체조성물의총 중량이 100 중량%가되도록하는물을포함하는식각액조성물, 이를사용한금속패턴의형성방법및 박막트랜지스터표시판의제조방법에관한것이다.

4. 发明公开

KR1020110116761A 금속 배선용 식각액 조성물 및 이를 이용한 박막 트랜지스터 표시판의 제조방법 审中-实审
标题翻译：电极蚀刻及使用其制造薄膜晶体管阵列板的方法
公开(公告)号：KR1020110116761A
公开(公告)日：2011-10-26
申请号：KR1020100036364
申请日：2010-04-20
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 솔브레인 주식회사
发明人： 이병진 , 박홍식 , 이태형 , 송용성 , 박충우 , 오종현
IPC分类号： C09K13/10
CPC分类号： C09K13/10 , C23F1/10 , C23F1/44 , H01L21/32134 , H01L27/124 , H01L27/1259 , H01L29/4908
摘要： 본 발명은 표시장치의 금속 배선을 식각하기 위한 식각액에 관한 것으로, 본 발명에 따른 금속 배선 식각액은 과산화수소, 산화제, 불소 화합물, 킬레이트제, 질산계 화합물, 붕소계 화합물, 첨가제 및 잔량의 물을 포함하는 것을 특징으로 한다.

5. 发明公开

KR1020110085254A 금속 배선용 식각액조성물 및 상기 식각액을 사용한 박막트랜지스터 표시판의 제조 방법 无效
标题翻译：金属接线用金属及使用其制造薄膜晶体管阵列的方法
公开(公告)号：KR1020110085254A
公开(公告)日：2011-07-27
申请号：KR1020100004930
申请日：2010-01-19
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 솔브레인 주식회사
发明人： 이병진 , 박홍식 , 이태형 , 송용성 , 박충우 , 이창호
IPC分类号： C09K13/08
CPC分类号： H01L21/32134 , C09K13/08 , C23F1/18 , C23F1/26 , C23F1/44
摘要： PURPOSE: An etchant composition for metal wiring is provided to etch a multi-layered film including copper in one time and to obtain an etch rate suitable for a processing, proper etching amount and proper taper inclination angle. CONSTITUTION: An etchant composition for metal wiring comprises 5-25 weight% of peroxides, 0.5-5 weight% of oxidizing agents, 0.1-1 weight% of fluoride-based compound and 1-10 weight% of glycohols. The peroxides comprise ammonium persulfates, sodium persulfates, potassium persulfates or mixture thereof. The oxidizing agent comprises potassium hydrogen sulfate, sodium nitrate, ammonium sulfate, sodium sulfate, sodium hydrogen sulfate or mixture thereof.
摘要翻译：目的：提供用于金属布线的蚀刻剂组合物以一次性蚀刻包括铜的多层膜，并获得适合于加工，适当蚀刻量和适当的锥形倾斜角的蚀刻速率。构成：用于金属布线的蚀刻剂组合物包括5-25重量％的过氧化物，0.5-5重量％的氧化剂，0.1-1重量％的氟化物基化合物和1-10重量％的醇。过氧化物包括过硫酸铵，过硫酸钠，过硫酸钾或其混合物。氧化剂包括硫酸氢钾，硝酸钠，硫酸铵，硫酸钠，硫酸氢钠或其混合物。

6. 发明公开

KR1020170027931A 식각액 조성물 및 이를 이용한 박막 트랜지스터 표시판의 제조 방법 审中-实审
标题翻译：蚀刻剂组合物和使用其制造薄膜晶体管基板的方法
公开(公告)号：KR1020170027931A
公开(公告)日：2017-03-13
申请号：KR1020150124328
申请日：2015-09-02
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 솔브레인 주식회사
发明人： 김영준 , 안수민 , 정재우 , 박홍식 , 손정익 , 오희성 , 임정훈
IPC分类号： C09K13/06 , C23F1/16
摘要： 본발명의일 실시예에따른식각액조성물은식각액조성물총 중량에대하여 5 중량% 이상 20 중량% 이하의질산, 1 중량% 이상 15 중량% 이하의아세트산, 0.1 중량% 이상 5 중량% 이하의아세트산염, 0.1 중량% 이상 4 중량% 이하의함할로겐화합물및 전체조성물의총 중량이 100 중량% 가되도록하는물을포함할수 있다.

7. 发明公开

KR1020090112971A 식각액 조성물, 이를 사용한 금속 패턴의 형성 방법 및박막 트랜지스터 표시판의 제조 방법 有权
标题翻译：蚀刻组合物，形成金属图案的方法和使用其制造薄膜晶体管阵列的方法
公开(公告)号：KR1020090112971A
公开(公告)日：2009-10-29
申请号：KR1020080038784
申请日：2008-04-25
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 솔브레인 주식회사
发明人： 이병진 , 박홍식 , 정종현 , 홍선영 , 김봉균 , 최영주 , 서남석 , 이태형 , 송용성 , 하현
IPC分类号： C09K13/08
摘要： PURPOSE: An etchant composition is provided to maintain adhesive force between an insulating substrate and photosensitive pattern and to make etch profile good through simplification of a process. CONSTITUTION: An etchant composition includes phosphoric acid 80 ~ 90 weight%, sulfuric acid 0.1 ~ 5 weight%, and ammonium fluoride 0.1 ~ 2 weight%. A method for forming metal pattern comprises the steps of: forming a photosensitive pattern which partially exposes the insulating substrate on the insulating substrate(110); forming a trench on the insulating substrate by etching a part of exposed insulating substrate. The seed layer including a first seed layer located on the photosensitive pattern and a second seed layer located on the trench; removing the photosensitive pattern and the first seed layer by lift off the photosensitive pattern; and forming a wiring layer(124c) on the second seed layer with an electroless plating method.
摘要翻译：目的：提供蚀刻剂组合物以保持绝缘基板和感光图案之间的粘合力，并且通过简化工艺使蚀刻轮廓良好。构成：蚀刻剂组成包括磷酸80〜90重量％，硫酸0.1〜5重量％，氟化铵0.1〜2重量％。一种用于形成金属图案的方法包括以下步骤：形成在绝缘基板（110）上部分地暴露绝缘基板的感光图案; 通过蚀刻暴露的绝缘基板的一部分在绝缘基板上形成沟槽。种子层包括位于感光图案上的第一种子层和位于沟槽上的第二种子层; 通过剥离感光图案去除感光图案和第一种子层; 以及通过化学镀方法在所述第二籽晶层上形成布线层（124c）。

8. 发明授权

KR101987800B1 박막 트랜지스터 표시판 및 박막 트랜지스터 표시판 제조 방법 有权
公开(公告)号：KR101987800B1
公开(公告)日：2019-10-01
申请号：KR1020190015017
申请日：2019-02-08
申请人： 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 최신일 , 최승하 , 김봉균 , 김상갑 , 김소연 , 김현 , 박홍식 , 배수빈
IPC分类号： H01L27/12 , H01L29/45

9. 发明授权

KR101953215B1 식각 조성물, 금속 배선 및 표시 기판의 제조방법 有权
公开(公告)号：KR101953215B1
公开(公告)日：2019-03-04
申请号：KR1020120110660
申请日：2012-10-05
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 박홍식 , 이왕우 , 김봉균 , 정종현 , 박영우 , 김규포 , 서원국 , 신현철 , 한승연 , 이기범 , 조삼영
IPC分类号： C23F1/16 , H05K3/06

10. 发明公开

KR1020170113866A 디스플레이장치 审中-实审
标题翻译：显示设备
公开(公告)号：KR1020170113866A
公开(公告)日：2017-10-13
申请号：KR1020160036956
申请日：2016-03-28
申请人： 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 박홍식 , 안형준 , 이환우
IPC分类号： G09G3/32
CPC分类号： H01L27/3213 , H01L27/156 , H01L27/3216 , H01L27/3218 , H01L27/322 , H01L27/3244
摘要： 본발명의일 실시예는, 표시영역및 비표시영역을포함하는기판; 상기기판의표시영역에배치된청색의서브화소; 상기청색의서브화소를지나는가상의선을중심으로일측에위치하며, 적색의서브화소, 녹색의서브화소및 백색의서브화소를포함하는제1서브유닛; 및상기가상의선을중심으로타측에위치하며, 적색의서브화소, 녹색의서브화소및 백색의서브화소를포함하는제2서브유닛;을포함하고, 상기제1서브유닛과상기청색의서브화소는제1화소를이루고, 상기제2서브유닛과상기청색의서브화소는제2화소를이루며, 상기청색의서브화소는, 상기제1화소에대응하는제1화소정보중 청색에관한데이터정보, 및상기제2화소에대응하는제2화소정보중 청색에관한데이터정보에기초하여생성된데이터신호에따라빛을방출하는, 디스플레이장치를제공한다.
摘要翻译：本发明的实施例是一种显示装置，包括：衬底，包括显示区域和非显示区域; 蓝色子像素，布置在基板的显示区域中; 第一子单元，位于通过蓝色子像素并包括红色子像素，绿色子像素和白色子像素的假想线的一侧; 以及位于所述虚拟线的另一侧并且包括红色子像素，绿色子像素和白色子像素的第二子单元，其中，所述第一子单元和所述蓝色子像素分别与所述第一子单元和所述第二子单元连接，第二子单元和蓝色子像素构成第二像素，并且蓝色子像素包括与第一像素对应的第一像素信息的关于蓝色的数据信息，以及与第二像素对应的第二像素信息，并根据基于蓝色数据信息生成的数据信号发光。

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