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1. 发明公开

KR1020130113356A 포토마스크 및 그것을 사용하는 레이저 어닐링 장치 및 노광 장치 有权
标题翻译：照相机，激光退火装置及其使用的曝光装置
公开(公告)号：KR1020130113356A
公开(公告)日：2013-10-15
申请号：KR1020127034458
申请日：2011-05-26
申请人： 브이 테크놀로지 씨오. 엘티디
发明人： 하타나카마코토 , 이와모토다카미츠 , 하시모토가츠시게
IPC分类号： G03F1/38 , G03F1/42 , H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F1/42 , G03F1/50 , H01L21/0268 , G03F1/38 , G03F7/2053 , G03F9/7003 , H01L21/0274
摘要： 본 발명은 기판의 반송 방향과 교차하는 방향에 일정한 배열 피치로 형성되어 광을 통과시키는 복수의 마스크 패턴(2)과, 기판 위에 형성된 복수의 패턴의 기판 반송 방향과 교차 방향의 배열 피치의 정수배와 동일한 간격을 가지고 기판 반송 방향에 평행하게 형성된 한 쌍의 세선(4a, 4b)을 구비한 구조를 이루며, 복수의 마스크 패턴(2)에 대하여 기판 반송 방향과 반대쪽의 위치에 기판 반송 방향으로 서로 일정 거리 떨어져서 배치되는 동시에, 한 쌍의 세선(4a, 4b) 사이에 미리 설정된 기준 위치가 기판 반송 방향과 교차하는 방향에 미리 정해진 거리만큼 서로 어긋난 상태로 형성된 복수의 얼라이먼트 마크(4)를 구비한 것이다. 이에 의하여, 동종의 기판의 기판 반송 방향과 교차 방향으로 오프셋한 위치에 광을 조사하는 경우에도, 이동 중인 기판에 대한 추종성을 양호하게 한다.
摘要翻译：公开了一种光掩模，其设置有多个掩模图案（2），所述掩模图案（2）以与基板传送方向交叉的方向以给定的布置间距形成并且光通过该光掩模，以及多个对准标记（4），每个对准标记结构设置有一对细线（4a，4b），其以等于设置在基板上并平行于基板传送方向的多个图案的基板传送方向的方向等于排列间距的整数倍的间隔形成并且相对于多个掩模图案（2）在与基板传送方向相反的一侧的位置处以基板传送方向彼此以给定的距离布置，预定在薄片对之间的参考位置线（4a，4b）形成为在与基板传送方向交叉的方向上彼此偏移预定距离。因此，即使将光照射到与相同基板的基板转印方向交叉的方向上偏移的位置，跟随移动的基板的性质也是有利的。

2. 发明公开

KR1020120100985A 노광 장치 및 포토 마스크 有权
标题翻译：曝光装置和照片遮罩
公开(公告)号：KR1020120100985A
公开(公告)日：2012-09-12
申请号：KR1020127012114
申请日：2009-10-29
申请人： 브이 테크놀로지 씨오. 엘티디
发明人： 하타나카마코토
IPC分类号： G03F7/20 , G03F1/38
CPC分类号： G03F7/7035 , G03F7/70275 , G03F7/20 , G03F1/38 , H01L21/027
摘要： 본 발명은 투명 기판(9)의 한쪽 면에 설치한 차광막(10)에 소정 형상의 복수의 개구(11)를 형성한 포토 마스크(4)를 피노광체(6)에 근접 대향하여 설치하고, 이 포토 마스크(4)에 대하여 광원 광(L1)을 조사하여 상기 피노광체(6) 위에 상기 개구(11)에 대응한 패턴을 노광하는 노광 장치로서, 상기 포토 마스크(4)의 각 개구(11)에 각각 대응하여 상기 피노광체(6)측에, 상기 각 개구(11)의 상을 상기 피노광체(6) 위에 결상시키는 복수의 마이크로 렌즈(12)를 설치한 것이다. 이로써 근접 노광에 있어서, 노광 패턴의 해상도를 향상시켜 미세한 패턴의 노광을 가능하게 한다.

3. 发明公开

KR1020110120872A 레이저 노광 장치 有权
标题翻译：激光曝光装置
公开(公告)号：KR1020110120872A
公开(公告)日：2011-11-04
申请号：KR1020117016451
申请日：2010-02-02
申请人： 브이 테크놀로지 씨오. 엘티디
发明人： 다나다유지 , 이시이다이수케 , 가지야마고이치 , 미즈무라미시노브 , 하타나카마코토 , 마쓰이고헤이 , 이케다다케시
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G02B27/0927 , G02B19/0014 , G02B19/0052 , G02B27/0961 , G03F7/70083 , G03F7/70191 , G03F7/70583 , H01L21/0275
摘要： 본 발명은 레이저 광의 단면 형상을 확대하는 제1 플라이아이렌즈(2)와, 제1 플라이아이렌즈(2)의 레이저 광의 입사측에 배치되고 제1 플라이아이렌즈(2)의 각 집광 렌즈(2a)에 각각 입사하는 레이저 광에 위상 차를 생기게 하는 제1 위상 차 발생 수단(3)과, 제1 플라이아이렌즈(3)에서 조사된 레이저 광을 평행 광으로 하는 콘덴서 렌즈(4)와, 레이저 광에 의한 포토마스크의 조명 영역 내의 광 강도 분포를 균일하게 하는 제2 플라이아이렌즈(6)와, 제2 플라이아이렌즈(6)의 레이저 광의 입사측에 배치되고 제2 플라이아이렌즈(6)의 각 집광 렌즈(6a)에 각각 입사하는 레이저 광에 위상 차를 생기게 하는 제2 위상 차 발생 수단(7)을 구비한 것이다. 이에 따라, 플라이아이렌즈에 의하여 발생하는 레이저 광의 간섭 무늬를 평균화하는 동시에, 레이저 광의 조도 불균일을 저감시킨다.

4. 发明授权

KR101634329B1 레이저 노광 장치 有权
标题翻译：激光曝光装置
公开(公告)号：KR101634329B1
公开(公告)日：2016-07-08
申请号：KR1020117016451
申请日：2010-02-02
申请人： 브이 테크놀로지 씨오. 엘티디
发明人： 다나다유지 , 이시이다이수케 , 가지야마고이치 , 미즈무라미시노브 , 하타나카마코토 , 마쓰이고헤이 , 이케다다케시
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G02B27/0927 , G02B19/0014 , G02B19/0052 , G02B27/0961 , G03F7/70083 , G03F7/70191 , G03F7/70583
摘要： 본발명은레이저광의단면형상을확대하는제1 플라이아이렌즈(2)와, 제1 플라이아이렌즈(2)의레이저광의입사측에배치되고제1 플라이아이렌즈(2)의각 집광렌즈(2a)에각각입사하는레이저광에위상차를생기게하는제1 위상차 발생수단(3)과, 제1 플라이아이렌즈(3)에서조사된레이저광을평행광으로하는콘덴서렌즈(4)와, 레이저광에의한포토마스크의조명영역내의광 강도분포를균일하게하는제2 플라이아이렌즈(6)와, 제2 플라이아이렌즈(6)의레이저광의입사측에배치되고제2 플라이아이렌즈(6)의각 집광렌즈(6a)에각각입사하는레이저광에위상차를생기게하는제2 위상차 발생수단(7)을구비한것이다. 이에따라, 플라이아이렌즈에의하여발생하는레이저광의간섭무늬를평균화하는동시에, 레이저광의조도불균일을저감시킨다.

5. 发明公开

KR1020140050610A 렌즈 및 그 렌즈를 탑재한 레이저 가공장치 审中-实审
标题翻译：镜头和激光加工装置配备
公开(公告)号：KR1020140050610A
公开(公告)日：2014-04-29
申请号：KR1020137032665
申请日：2012-05-09
申请人： 브이 테크놀로지 씨오. 엘티디
发明人： 가지야마코이치 , 하타나카마코토
IPC分类号： B23K26/06 , B23K26/38 , G02B3/06 , C03B33/04
CPC分类号： G02B3/06 , B23K26/0648 , B23K26/0665 , B23K26/0734 , B23K26/388 , B23K26/389 , C03B33/04 , C03B33/093 , G02B27/0927 , G02B27/0966 , G02B2003/0093
摘要： 본 발명의 렌즈 및 그 렌즈를 탑재한 레이저 가공장치는，피절단재에 대하여，폐곡선으로 이루어진 임의 형상의 부재를 절단하기 위한 것으로，볼록형 원통형 렌즈의 원통면의 정점을 연결한 선이，상기 폐곡선으로 이루어진 임의 형상과 동일한 형태가 되도록，볼록형 원통형 렌즈를 폐로 형성되도록 성형된 것으로 이루어 진다.

6. 发明授权

KR101780368B1 포토마스크 및 그것을 사용하는 레이저 어닐링 장치 및 노광 장치 有权
公开(公告)号：KR101780368B1
公开(公告)日：2017-09-21
申请号：KR1020127034458
申请日：2011-05-26
申请人： 브이 테크놀로지 씨오. 엘티디
发明人： 하타나카마코토 , 이와모토다카미츠 , 하시모토가츠시게
IPC分类号： G03F1/38 , G03F1/42 , H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F1/42 , G03F1/50 , H01L21/0268
摘要： 본발명은기판의반송방향과교차하는방향에일정한배열피치로형성되어광을통과시키는복수의마스크패턴(2)과, 기판위에형성된복수의패턴의기판반송방향과교차방향의배열피치의정수배와동일한간격을가지고기판반송방향에평행하게형성된한 쌍의세선(4a, 4b)을구비한구조를이루며, 복수의마스크패턴(2)에대하여기판반송방향과반대쪽의위치에기판반송방향으로서로일정거리떨어져서배치되는동시에, 한쌍의세선(4a, 4b) 사이에미리설정된기준위치가기판반송방향과교차하는방향에미리정해진거리만큼서로어긋난상태로형성된복수의얼라이먼트마크(4)를구비한것이다. 이에의하여, 동종의기판의기판반송방향과교차방향으로오프셋한위치에광을조사하는경우에도, 이동중인기판에대한추종성을양호하게한다.

7. 发明授权

KR101674133B1 포토마스크 有权
标题翻译：光掩模
公开(公告)号：KR101674133B1
公开(公告)日：2016-11-08
申请号：KR1020127012116
申请日：2010-12-13
申请人： 브이 테크놀로지 씨오. 엘티디
发明人： 미주무라미치노부 , 하타나카마코토
IPC分类号： G03F1/38 , G03F7/20 , H01L21/027 , G03F7/22
CPC分类号： G03F7/70283 , G03F1/38 , G03F1/50
摘要： 본발명은투명기판(4)의아랫면(4a)에소정형상의복수의마스크패턴(5)을형성한마스크기판(2)과, 다른투명기판(9)의아랫면(9a)에, 대향배치된피노광체위에상기복수의마스크패턴(5)의상을축소투영하는복수의투영렌즈(10)를형성하고, 윗면(9b)에입사광을투영렌즈(10)에집광하는복수의필드렌즈(11)를투영렌즈(10)의광축과광축을합치시켜형성한마이크로렌즈어레이(3)를구비하고, 마스크패턴(5)과필드렌즈(11)를소정의간극을두고근접대향시킨상태에서마스크기판(2)과마이크로렌즈어레이(3)를접합한것이다. 이에의하여피노광체에조사하는광의이용효율을향상시킬수 있다.
摘要翻译：光掩模设置有：掩模基板（2），包括具有形成在下表面（4a）上的多个具有规定形状的掩模图案（5）的透明基板（4）; 以及包括不同透明基板（9）的微透镜阵列（3），将所述多个掩模图案（5）的缩小投影图像投影到相对布置的待曝光物体上的多个投影透镜（10），以及形成在下表面（9a）上的多个场透镜（11），其将入射光聚焦到投影透镜（10）上并形成在上表面（9b）上，使得其光轴与光学投影透镜（10）的轴线。通过在掩模图案（5）和场透镜（11）彼此靠近并且彼此相对的状态下以预定的间隙连接掩模基板（2）和微透镜阵列（3）而形成光掩模其间。以这种方式，光掩模提高了照射到待曝光物体上的光的使用效率。

8. 发明授权

KR101660918B1 노광 장치 및 포토 마스크 有权
标题翻译：曝光装置和照片遮罩
公开(公告)号：KR101660918B1
公开(公告)日：2016-09-28
申请号：KR1020127012114
申请日：2009-10-29
申请人： 브이 테크놀로지 씨오. 엘티디
发明人： 하타나카마코토
IPC分类号： G03F7/20 , G03F1/38
CPC分类号： G03F7/7035 , G03F7/70275
摘要： 본발명은투명기판(9)의한쪽면에설치한차광막(10)에소정형상의복수의개구(11)를형성한포토마스크(4)를피노광체(6)에근접대향하여설치하고, 이포토마스크(4)에대하여광원광(L1)을조사하여상기피노광체(6) 위에상기개구(11)에대응한패턴을노광하는노광장치로서, 상기포토마스크(4)의각 개구(11)에각각대응하여상기피노광체(6)측에, 상기각 개구(11)의상을상기피노광체(6) 위에결상시키는복수의마이크로렌즈(12)를설치한것이다. 이로써근접노광에있어서, 노광패턴의해상도를향상시켜미세한패턴의노광을가능하게한다.

9. 发明授权

KR101993128B1 렌즈 및 그 렌즈를 탑재한 레이저 가공장치 有权
公开(公告)号：KR101993128B1
公开(公告)日：2019-06-26
申请号：KR1020137032665
申请日：2012-05-09
申请人： 브이 테크놀로지 씨오. 엘티디
发明人： 가지야마코이치 , 하타나카마코토
IPC分类号： B23K26/06 , B23K26/073 , B23K26/382 , C03B33/04 , C03B33/09 , G02B3/06 , G02B27/09 , G02B3/00

10. 发明公开

KR1020170086505A 박막 트랜지스터, 박막 트랜지스터의 제조 방법 및 레이저 어닐링 장치 审中-实审
标题翻译：薄膜晶体管，薄膜晶体管的制造方法以及激光退火装置
公开(公告)号：KR1020170086505A
公开(公告)日：2017-07-26
申请号：KR1020177013227
申请日：2015-11-19
申请人： 브이 테크놀로지 씨오. 엘티디
发明人： 미주무라미치노부 , 하타나카마코토 , 기구치데츠야
IPC分类号： H01L29/786 , H01L29/66 , H01L21/324 , H01L21/268
CPC分类号： H01L29/78678 , H01L21/02675 , H01L21/20 , H01L21/67115 , H01L27/1281 , H01L29/04 , H01L29/66765 , H01L29/78618 , H01L29/78621 , H01L29/786 , H01L21/268 , H01L21/324 , H01L29/6675
摘要： 본발명은기판(5) 위에게이트전극(1), 소스전극(3), 드레인전극(4) 및반도체층(2)를적층하여구비한박막트랜지스터로서, 상기반도체층(2)은폴리실리콘박막(8)이며, 상기소스전극(3) 및상기드레인전극(4)에각각대응하는영역의상기폴리실리콘박막(8)의결정립경이상기소스전극(3)과상기드레인전극(4) 사이의채널영역(10)의상기폴리실리콘박막(8)의결정립경에비해작은구조로하였다.
摘要翻译：本发明是一种薄膜晶体管，其具有层叠在衬底（5）上的栅电极（1），源电极（3），漏电极（4）和半导体层（2）（8）形成在源电极（3）和漏电极（4）之间的区域中，并且多晶硅薄膜（8）的结晶楔在对应于源电极（10）具有比多晶硅薄膜（8）小的结构。

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