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1. 发明公开

KR1020120047871A 플라즈마 챔버의 검정을 위한 에칭 레이트 균일성을 예측하는 방법 및 장치 有权
标题翻译：预测等离子体室质量的方法和装置预测
公开(公告)号：KR1020120047871A
公开(公告)日：2012-05-14
申请号：KR1020117031573
申请日：2010-06-29
申请人： 램 리써치 코포레이션
发明人： 최브라이언디 , 윤건수 , 베누고팔비자야쿠마르씨
IPC分类号： H05H1/24 , G06F17/40 , H01J37/32
CPC分类号： H01J37/3299 , H01J37/32935 , H05H1/24
摘要： 기판들의 기판 프로세싱 동안 프로세싱 챔버의 건전성 상태에 자격을 부여하기 위해 에칭 레이트 균일성을 예측하는 방법이 제공된다. 방법은 레시피를 실행하는 것과 제 1 세트의 센서들로부터 프로세싱 데이터를 수신하는 것을 포함한다. 방법은 서브시스템 건전성 확인 예측 모델을 사용하여 프로세싱 데이터를 분석하여 계산된 데이터를 결정하는 것을 더 포함하며, 계산된 데이터는 에칭 레이트 데이터와 균일성 데이터 중 적어도 하나를 포함한다. 서브시스템 건전성 확인 예측 모델은 일 세트의 넌-필름 기판들의 유사한 프로세싱 동안 수집된 프로세싱 데이터와 일 세트의 필름 기판들로부터의 측정 데이터를 상관시킴으로써 구성된다. 방법은 또한 서브시스템 건전성 확인 예측 모델에 의해 정의된 일 세트의 제어 한계들에 대한 계산된 데이터의 비교를 수행하는 것을 포함한다. 방법은 또한 계산된 데이터가 상기 일 세트의 제어 한계들 밖에 있는 경우 경고를 발생하는 것을 더 포함한다.
摘要翻译：提供了一种用于在衬底处理期间检测处理室内的原位快速瞬变事件的方法。该方法包括将数据集与一组标准（原位快速瞬变事件）进行比较的一组传感器，以确定第一数据集是否包括潜在的原位快速瞬变事件。如果第一数据集包括潜在的原位快速瞬变事件，则该方法还包括保存在潜在的原位快速瞬变事件发生的时间段内发生的电特征。该方法还包括将电特征与一组存储的电弧特征进行比较。如果确定匹配，则该方法还包括将电特征分类为第一原位快速瞬时事件，并且基于预定义的阈值范围集来确定第一原位快速瞬变事件的严重性级别。

2. 发明授权

KR101741271B1 최적 종말점 알고리즘 구성 방법 有权
公开(公告)号：KR101741271B1
公开(公告)日：2017-05-29
申请号：KR1020117031561
申请日：2010-06-29
申请人： 램 리써치 코포레이션
发明人： 왕지앙신 , 페리앤드류제임스 , 베누고팔비자야쿠마르씨
IPC分类号： H01L21/3065 , H01L21/66
CPC分类号： H01J37/3299 , H01J37/32935
摘要： 플라즈마프로세싱시스템내에서의기판프로세싱동안프로세스종말점을검정 (qualifying) 하기위해최적종말점알고리즘을자동으로식별하는방법이제공된다. 방법은플라즈마프로세싱시스템내에서적어도하나의기판을프로세싱하는동안복수의센서들로부터데이터를수신하는것을포함하며, 센서데이터는복수의센서채널들로부터의복수의신호스트림들을포함한다. 또한, 방법은종말점도메인을식별하는것을포함하며, 종말점도메인은프로세스종말점발생이예상되는근사주기이다.

3. 发明授权

KR101738182B1 프로세스 모듈 레벨에서 제어되지 않은 이벤트들을 식별하는 장치 및 그 방법 有权
公开(公告)号：KR101738182B1
公开(公告)日：2017-05-29
申请号：KR1020117031593
申请日：2010-07-22
申请人： 램 리써치 코포레이션
发明人： 황충호 , 베누고팔비자야쿠마르씨 , 램코니 , 포드레스닉드라간
IPC分类号： H01L21/67 , G05B19/418 , G06F9/50 , G06F11/20
CPC分类号： G06F9/5027 , G05B19/4184 , G05B2219/31202 , G05B2219/31293 , G05B2219/31318 , G05B2219/31481 , G05B2219/32209 , G05B2219/45031 , G06F11/2035 , G06F11/2043 , Y02P90/14 , Y02P90/18
摘要： 플라즈마프로세싱시스템내의기판프로세싱을용이하게하도록구성된 PLTA (process-level troubleshooting architecture) 가제공된다. 이아키텍쳐는프로세스모듈제어기를포함한다. 이아키텍쳐는또한, 복수의센서를포함하며, 복수의센서들의각각의센서는하나이상의프로세스파라미터에대한센싱된데이터를수집하도록프로세스모듈제어기와통신한다. 이아키텍쳐는프로세스모듈레벨분석서버를더 포함하며, 이프로세스모듈레벨분석서버는복수의센서및 프로세스모듈제어기와직접통신한다. 프로세스모듈레벨분석서버는데이터를수신하도록구성되며, 이데이터는복수의센서로부터의센싱된데이터및 프로세스모듈제어기로부터의프로세스모듈및 챔버데이터중 적어도하나를포함한다. 프로세스모듈레벨분석서버는또한, 기판프로세싱동안에문제를식별한경우, 데이터를분석하고금지데이터 (interdiction data) 를프로세스모듈제어기에직접전송하도록구성된다.

4. 发明授权

KR101708078B1 플라즈마 챔버의 검정을 위한 에칭 레이트 균일성을 예측하는 방법 및 장치 有权
标题翻译：预测等离子体室质量的方法和装置预测
公开(公告)号：KR101708078B1
公开(公告)日：2017-02-17
申请号：KR1020117031573
申请日：2010-06-29
申请人： 램 리써치 코포레이션
发明人： 최브라이언디 , 윤건수 , 베누고팔비자야쿠마르씨
IPC分类号： H05H1/24 , G06F17/40 , H01J37/32
CPC分类号： H01J37/3299 , H01J37/32935
摘要： 기판들의기판프로세싱동안프로세싱챔버의건전성상태를검정하기위해에칭레이트균일성을예측하는방법이제공된다. 방법은레시피를실행하는것과제 1 세트의센서들로부터프로세싱데이터를수신하는것을포함한다. 방법은서브시스템건전성확인예측모델을사용하여프로세싱데이터를분석하여계산된데이터를결정하는것을더 포함하며, 계산된데이터는에칭레이트데이터와균일성데이터중 적어도하나를포함한다. 서브시스템건전성확인예측모델은일 세트의비-필름기판들의유사한프로세싱동안수집된프로세싱데이터와일 세트의필름기판들로부터의측정데이터를상관시킴으로써구성된다. 방법은또한서브시스템건전성확인예측모델에의해정의된일 세트의제어한계들에대한계산된데이터의비교를수행하는것을포함한다. 방법은또한계산된데이터가상기일 세트의제어한계들밖에있는경우경고를발생하는것을더 포함한다.
摘要翻译：提供了一种用于在衬底处理期间检测处理室内的原位快速瞬变事件的方法。该方法包括将数据集与一组标准（原位快速瞬变事件）进行比较的一组传感器，以确定第一数据集是否包括潜在的原位快速瞬变事件。如果第一数据集包括潜在的原位快速瞬变事件，则该方法还包括保存在潜在的原位快速瞬变事件发生的时间段内发生的电特征。该方法还包括将电特征与一组存储的电弧特征进行比较。如果确定匹配，则该方法还包括将电特征分类为第一原位快速瞬时事件，并且基于预定义的阈值范围集来确定第一原位快速瞬变事件的严重性级别。

5. 发明公开

KR1020120101293A 프로세싱 챔버의 예측 예방 보전을 위한 방법 및 장치 有权
标题翻译：预处理炉预防性维护方法与装置
公开(公告)号：KR1020120101293A
公开(公告)日：2012-09-13
申请号：KR1020117031499
申请日：2010-06-29
申请人： 램 리써치 코포레이션
发明人： 알바르드뤽 , 페이프에릭 , 베누고팔비자야쿠마르씨 , 최브라이언디
IPC分类号： H05H1/24 , G06F17/40
CPC分类号： H01J37/3299 , H01J37/32935 , H05H1/24
摘要： 프로세싱 챔버의 양호 상태를 평가하는 방법이 제공된다. 방법은 레시피를 실행하는 단계를 포함한다. 또한, 방법은 레시피의 실행 동안 센서들의 세트로부터 프로세싱 데이터를 수신하는 단계를 포함한다. 방법은 다변량 예측 모델들을 사용하여 프로세싱 데이터를 분석하는 단계를 더 포함한다. 또한, 방법은 컴포넌트 마모 데이터 값들의 세트를 생성하는 단계를 더 포함한다. 또한, 방법은 유효 수명 임계치 범위들의 세트에 대해 컴포넌트 마모 데이터 값들의 세트를 비교하는 단계를 더 포함한다. 게다가, 방법은 컴포넌트 마모 데이터 값들의 세트가 유효 수명 임계치 범위들의 세트 밖에 있는 경우 경고를 발생하는 단계를 포함한다.
摘要翻译：提供了一种用于在衬底处理期间检测处理室内的原位快速瞬变事件的方法。该方法包括将数据集与一组标准（原位快速瞬变事件）进行比较的一组传感器，以确定第一数据集是否包括潜在的原位快速瞬变事件。如果第一数据集包括潜在的原位快速瞬变事件，则该方法还包括保存在潜在的原位快速瞬变事件发生的时间段内发生的电特征。该方法还包括将电特征与一组存储的电弧特征进行比较。如果确定匹配，则该方法还包括将电特征分类为第一原位快速瞬时事件，并且基于预定义的阈值范围集来确定第一原位快速瞬变事件的严重性级别。

6. 发明授权

KR101629253B1 광방출 스펙트럼의 정규화 방법 및 장치 有权
标题翻译：用于正常化光学发射光谱的方法和装置
公开(公告)号：KR101629253B1
公开(公告)日：2016-06-21
申请号：KR1020107021829
申请日：2009-04-03
申请人： 램 리써치 코포레이션
发明人： 베누고팔비자야쿠마르씨 , 페이프에릭 , 부스진-폴
IPC分类号： H01L21/66 , H01L21/3065
CPC分类号： G01N21/274 , G01J3/02 , G01J3/0205 , G01J3/0218 , G01J3/0294 , G01J3/443 , G01N21/68
摘要： 플라즈마챔버내의정규화된광방출스펙트럼을정량적으로측정하도록플라즈마방출의인시츄광학적검사를위한장치가제공된다. 상기장치는플래시램프및 일세트의석영창들을포함한다. 또한, 상기장치는상기세트의석영창들에광학적으로결합된복수의시준 (視準) 된광학조립체들을포함한다. 또한, 상기장치는적어도조사광섬유번들, 집광광섬유번들, 및기준광섬유번들을포함하는복수의광섬유번들들을포함한다. 게다가, 상기장치는적어도신호채널과기준채널에의해구성되는다중채널분광계를포함한다. 상기신호채널은적어도상기플래시램프, 상기세트의석영창들, 상기세트의시준된광학조립체들, 상기조사광섬유번들, 및상기집광광섬유번들에광학적으로결합되어제 1 신호를측정한다.

7. 发明授权

KR101475975B1 고 시준된 집광 배열을 위한 방법 및 장치 有权
标题翻译：用于高收缩光收集装置的方法和装置
公开(公告)号：KR101475975B1
公开(公告)日：2014-12-23
申请号：KR1020107002040
申请日：2008-06-12
申请人： 램 리써치 코포레이션
发明人： 베누고팔비자야쿠마르씨 , 파프에릭에이
IPC分类号： H01L21/3065 , H01J37/32
CPC分类号： H05H1/0025 , G02B27/30
摘要： 플라즈마프로세싱챔버에서플라즈마프로세싱동안의플라즈마의광학인터로게이션을위한방법이제공된다. 방법은광학뷰포트를제공하는단계를포함한다. 또한, 방법은시준기배열을제공하는단계를포함한다. 시준기배열은복수의시준기들을갖도록구성되며, 복수의시준기들중 제 1 시준기는접속구역에의해복수의시준기들내의제 2 시준기로부터분리된다. 방법은, 기판이프로세싱되는동안, 플라즈마프로세싱챔버내의플라즈마로부터시준기배열을통해광학신호들을수집하여, 고시준된광학신호들을생성하는단계를더 포함한다.

8. 发明公开

KR1020120037419A 최적 종말점 알고리즘 구성 방법 有权
标题翻译：用于构建最优端点算法的方法
公开(公告)号：KR1020120037419A
公开(公告)日：2012-04-19
申请号：KR1020117031561
申请日：2010-06-29
申请人： 램 리써치 코포레이션
发明人： 왕지앙신 , 페리앤드류제임스 , 베누고팔비자야쿠마르씨
IPC分类号： H01L21/3065 , H01L21/66
CPC分类号： H01J37/3299 , H01J37/32935
摘要： 플라즈마 프로세싱 시스템 내에서의 기판 프로세싱 동안 프로세스 종말점을 검정 (qualifying) 하기 위해 최적 종말점 알고리즘을 자동으로 식별하는 방법이 제공된다. 방법은 플라즈마 프로세싱 시스템 내에서 적어도 하나의 기판을 프로세싱하는 동안 복수의 센서들로부터 데이터를 수신하는 것을 포함하며, 센서 데이터는 복수의 센서 채널들로부터의 복수의 신호 스트림들을 포함한다. 또한, 방법은 종말점 도메인을 식별하는 것을 포함하며, 종말점 도메인은 프로세스 종말점 발생이 예상되는 근사 주기이다.

9. 发明授权

KR101116589B1 에칭 깊이 제어용 장치 및 방법 有权
标题翻译：控制蚀刻深度的装置和方法
公开(公告)号：KR101116589B1
公开(公告)日：2012-03-15
申请号：KR1020057005131
申请日：2003-09-18
申请人： 램 리써치 코포레이션
发明人： 캠프톰에이 , 밀러앨런제이 , 베누고팔비자야쿠마르씨
IPC分类号： H01L21/3065
CPC分类号： H01L21/67253 , H01J37/321 , H01J37/32963 , H01L21/3065 , H01L21/67069
摘要： 개선된 깊이 제어와 재현성을 가진 웨이퍼 내의 피쳐를 에칭하기 위한 장치 및 방법이 설명된다. 피쳐는 제 1 에칭 속도로 에칭되며, 그 후 제 1 에칭 속도보다 더 느린 제 2 에칭 속도로 피쳐를 에칭한다. 광학 종점 디바이스는 에칭 깊이를 결정하는데 사용되고, 에칭은 피쳐가 요구하는 깊이를 가지도록 정지된다. 2 개의 상이한 에칭 속도가 우수한 깊이 제어와 재현성과 함께 높은 스루풋을 제공한다. 본 장치는 에칭될 웨이퍼를 홀딩하기 위한 척을 구비하는 에칭 기구를 포함한다. 광학 종점 디바이스는 피쳐 에칭 깊이를 측정하도록 위치한다. 전자 제어기는 광학 종점 디바이스 및 에칭 기구와 통신하며, 그 기구를 제어하여 피쳐를 에칭함을 통해 에칭 속도를 도중에 줄이고 에칭 기구를 정지하여, 피쳐가 요구되는 깊이까지 에칭되게 한다.
에칭, 깊이, 제어

10. 发明授权

KR101708077B1 프로세싱 챔버의 예측 예방 보전을 위한 방법 및 장치 有权
标题翻译：预处理炉预防性维护方法与装置
公开(公告)号：KR101708077B1
公开(公告)日：2017-02-17
申请号：KR1020117031499
申请日：2010-06-29
申请人： 램 리써치 코포레이션
发明人： 알바르드뤽 , 페이프에릭 , 베누고팔비자야쿠마르씨 , 최브라이언디
IPC分类号： H05H1/24 , G06F17/40
CPC分类号： H01J37/3299 , H01J37/32935
摘要： 프로세싱챔버의양호상태를평가하는방법이제공된다. 방법은레시피를실행하는단계를포함한다. 또한, 방법은레시피의실행동안센서들의세트로부터프로세싱데이터를수신하는단계를포함한다. 방법은다변량예측모델들을사용하여프로세싱데이터를분석하는단계를더 포함한다. 또한, 방법은컴포넌트마모데이터값들의세트를생성하는단계를더 포함한다. 또한, 방법은유효수명임계치범위들의세트에대해컴포넌트마모데이터값들의세트를비교하는단계를더 포함한다. 게다가, 방법은컴포넌트마모데이터값들의세트가유효수명임계치범위들의세트밖에있는경우경고를발생하는단계를포함한다.
摘要翻译：提供了一种用于在衬底处理期间检测处理室内的原位快速瞬变事件的方法。该方法包括将数据集与一组标准（原位快速瞬变事件）进行比较的一组传感器，以确定第一数据集是否包括潜在的原位快速瞬变事件。如果第一数据集包括潜在的原位快速瞬变事件，则该方法还包括保存在潜在的原位快速瞬变事件发生的时间段内发生的电特征。该方法还包括将电特征与一组存储的电弧特征进行比较。如果确定匹配，则该方法还包括将电特征分类为第一原位快速瞬时事件，并且基于预定义的阈值范围集来确定第一原位快速瞬变事件的严重性级别。

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