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1. 发明授权

KR100908146B1 시일 부재, 감압 용기, 감압 처리 장치, 감압 용기의 시일기구, 및 감압 용기의 제조 방법 有权
标题翻译： 시일부재，감압용기，감압처리장，감압용기의시기기구，및감압용기의제조방
公开(公告)号：KR100908146B1
公开(公告)日：2009-07-16
申请号：KR1020070041047
申请日：2007-04-27
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 야마다요우헤이
IPC分类号： C23C16/00
CPC分类号： H01L21/67196 , Y10T29/54 , Y10T137/9682
摘要： 복수의 판재를 접합하여 구성되는 진공 용기에 있어서, 모퉁이부의 기밀성을 충분히 확보할 수 있는 시일 기구를 제공한다.
하우징(70)의 모퉁이부에 있어서는, 루프 형상부(80b)에 의해서, 접합부(JC)의 기밀성이 확보된다. 루프 형상부(80b)를 고정하기 위한 보조 기구로서, 하우징(70)의 모퉁이부에 고정되고, 루프 형상부(80b)를 지지하는 지지 블록(91)과, 이 지지 블록(91)과 면접촉하여 이것을 고정하는 접촉면(92a)을 갖는 모퉁이부 누름 도구(92)를 사용한다.
摘要翻译：密封构件内部密封通过接合多个板而构造的减压室。密封构件包括用于密封减压室的直线接头的直线部分和用于通过压靠形成角的板的内壁而围绕减压室的角部进行密封的环部。环部分布置成封闭减压室的拐角。通过使用保持在拐角处的支撑块和连接到形成拐角的板的拐角按压构件来固定环部分。环部分固定在支撑块的支撑表面和角部挤压构件之间。

2. 发明公开

KR1020070111382A 감압 용기, 감압 처리 장치 및 감압 용기의 제조 방법 失效
标题翻译：降低压载体的压力减少处理装置及制造减压容器的方法
公开(公告)号：KR1020070111382A
公开(公告)日：2007-11-21
申请号：KR1020070047694
申请日：2007-05-16
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 야마다요우헤이
IPC分类号： G02F1/13 , G02F1/1339
CPC分类号： H01L21/67126 , C23C14/56 , G02F1/1303 , H01L21/67196 , H01L21/67248
摘要： A pressure reduction vessel, a pressure reduction processing apparatus and a method for manufacturing a pressure reduction vessel are provided to form joint parts between members in a location deviated from a corner of the pressure reduction vessel, thereby avoiding sealing-up at the corner of the pressure reduction vessel where it is difficult to ensure sealing-up by a sealing-up member. A pressure reduction vessel is configured by jointing plural members. A joint between the members is formed at a location deviated from a corner of the pressure reduction vessel. The joint part is sealed up by a sealing-up member(80) from the inside of the pressure reduction vessel. In all joint parts joining the members, inner wall surfaces(73,73a,74c) of both sides are evenly formed with the joint among the wall surfaces.
摘要翻译：提供减压容器，减压处理装置和制造减压容器的方法，以在与减压容器的角落偏离的位置处的构件之间形成接合部，从而避免在减压容器，其难以确保密封构件的密封。减压容器通过连接多个构件构成。构件之间的接合部形成在偏离减压容器的角部的位置处。接头部分由密封构件（80）从减压容器的内部密封。在连接构件的所有接合部分中，两侧的内壁面（73,73a，74c）均匀地形成有壁面之间的接头。

3. 发明授权

KR102136925B1 유도 결합 플라스마 처리 장치 有权
公开(公告)号：KR102136925B1
公开(公告)日：2020-07-22
申请号：KR1020180068049
申请日：2018-06-14
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 가사하라도시히로 , 야마다요우헤이 , 사사키가즈오
IPC分类号： H05H1/46 , H01L21/3065 , C23C16/505 , H01J37/32

4. 发明授权

KR101867147B1 플라즈마 처리 장치 有权
公开(公告)号：KR101867147B1
公开(公告)日：2018-06-12
申请号：KR1020160009236
申请日：2016-01-26
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 데구치신고 , 야마다요우헤이
IPC分类号： H01L21/02 , H01J49/10 , H05H1/46 , H01L21/3065
摘要： 기계적강도를유지하면서, 비교적경량인기구를이용하여금속창을설치한플라즈마처리장치를제공한다. 진공배기된처리공간(100) 내에서피처리기판(G)에대해서플라즈마처리를실행하는플라즈마처리장치(1)에있어서, 금속제처리용기(10)는피처리기판(G)의탑재대를구비하고, 그상면에형성된개구를폐색하는위치에, 절연부재(31)를통해전도성금속창(3)이설치된다. 상기금속창(3)은, 플라즈마발생용의플라즈마안테나(5)의상방측에배치된천정판부(61)에매달려지지된다. 더욱이, 이천정판부(61)는, 횡가부(71, 711)와그 각주부(72)를구비한골조구조의천정판지지기구(7)에의해매달려지지된다.

5. 发明授权

KR100993453B1 기판 처리 장치 및 기판 반송 장치 有权
标题翻译：基板工艺装置和基板传送装置
公开(公告)号：KR100993453B1
公开(公告)日：2010-11-09
申请号：KR1020080058429
申请日：2008-06-20
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 나카야마히데키 , 야마다요우헤이
IPC分类号： H01L21/677 , H01L21/00
摘要： 본 발명은 반송실의 대형화를 회피할 수 있고, 게다가 처리 챔버의 기판 반송을 위한 개구를 넓게 하지 않으며, 기구부에 과도한 부담을 주지 않는 기판 반송 장치 및 그와 같은 기판 반송 장치를 탑재한 기판 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. 기판 반송 장치는 유리 기판을 지지한 상태에서 처리 챔버(10) 내로 반송하는 피크(52)와, 피크(52)를 구동하는 메인 구동 기구(60)를 갖고, 피크(52)는 베이스부(56b)와, 베이스부(56b)로부터 포크 형상으로 연장되는 복수의 제 1 지지 부재(56a)와, 제 1 지지 부재(56b)에 진출 퇴피 가능하게 접속된 제 2 지지 부재(57a)를 갖고, 이 제 1 지지 부재(56a)와 제 2 지지 부재(57b)로 신축 가능한 지지 부재를 구성하며, 지지 부재를 신장시킨 상태로 기판이 반송된다.

6. 发明授权

KR100827859B1 감압 용기 및 감압 처리 장치 失效
标题翻译：减压压缩机和减压加压装置
公开(公告)号：KR100827859B1
公开(公告)日：2008-05-07
申请号：KR1020070004440
申请日：2007-01-15
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 야마다요우헤이
IPC分类号： G02F1/13 , C23C14/56 , H01L21/02
摘要： 본 발명은 용기의 변형에 의한 파티클의 발생을 확실하게 방지하는 것이 가능한 감압 용기 및 감압 처리 장치를 제공한다. 로드록실(20)의 내부 공간을 둘러싸는 용기 본체(21)의 상단면(21a)에 형성된 홈(26) 내에는, 밀봉 부재로서의 O링(90)이 삽입되고, 그 외측에는, 대략 L자형을 한 단면 형상을 갖는 스페이서(91)가, 그 일부를 홈(26) 내에 삽입하여, L자형으로 굴곡된 내각측의 면을 홈(26)의 내벽면으로부터 용기 본체(21)의 상단면(21a)에 걸쳐 밀착시킨 상태로 배치된다. 스페이서(91)에 의해 용기 본체(21)와 천장판(22)을 이격시킴으로써, 로드록실(20) 내부가 고진공 상태로까지 감압된 상태에서 천장판(22)에 휘어짐이 발생하여도, 용기 본체(21)의 내주측의 모서리부(21b)와 천장판(22)의 접촉을 회피할 수 있다.

7. 发明公开

KR1020180000313A 보강 구조체, 진공 챔버 및 플라스마 처리 장치 审中-实审
标题翻译：加固结构，真空室和等离子处理设备
公开(公告)号：KR1020180000313A
公开(公告)日：2018-01-02
申请号：KR1020170077838
申请日：2017-06-20
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 다나카다카유키 , 가사하라도시히로 , 야마다요우헤이
IPC分类号： H01J37/32
CPC分类号： H01L21/3065 , C23C16/45563 , H01J37/321 , H01J37/32477 , H01J37/32522
摘要： 소망의경량화를도모할수 있는보강구조체, 그러한보강구조체를갖는진공챔버, 및플라스마처리장치를제공한다. 기판에소정의처리를실시하기위한진공챔버의덮개체를보강하기위해서덮개체의상면에마련된, 복수의비임부재의조합으로이루어지는보강구조체(4)로서, 덮개체의상면(천정벽(3a)의상면)의중앙부에비임부재(중앙부(41a), 중앙부(42a))가환상으로형성되어이루어지는환상부(44)와, 환상부(44)로부터비임부재(단부(41b), 단부(42b), 제 3 비임부재(43))가복수, 방사상으로연장되도록형성된방사상부(45)를갖는다.
摘要翻译：一种能够实现期望的轻量化的加强结构，具有这种加强结构的真空室以及等离子体处理装置。作为增强结构（4），包括多个在以加强真空室用于执行预定的处理，以在基板的盖体设置在盖子的上表面上光束bujaeui组合的，顶表面（上壁（3a）的服装盖体（端部41b，端部42b和端部42b）与环状部44分离。环状部44通过环状地形成中央部41a，第三非孕妇构件43）以及形成为径向延伸的径向上部45。

8. 发明授权

KR101373466B1 반송 장치, 처리 시스템, 반송 장치의 제어 방법 및 컴퓨터 판독 가능한 기억 매체 有权
标题翻译：传送装置，处理系统，传送装置的控制方法和计算机可读存储介质
公开(公告)号：KR101373466B1
公开(公告)日：2014-03-14
申请号：KR1020110093084
申请日：2011-09-15
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 야마다요우헤이
IPC分类号： H01L21/677 , B65G49/07 , B25J13/08 , G06F17/00
CPC分类号： H01L21/67259 , B25J13/081 , B25J19/063 , H01L21/67742 , H01L21/67754
摘要： 본 발명은 감압 환경 하에 있어서도 장애물과 접촉한 것을 검출하는 것이 가능한 반송 장치를 제공한다. 전진 및 후퇴가 가능한, 반송체를 지지하는 지지 부재와, 지지 부재가 전진했을 때, 지지 부재의 선단이 장애물에 접촉한 것을 검출하는 센서를 구비하고, 센서가, 지지 부재의 선단에 접지된 상태에서 마련된 가요성을 갖는 제 1 도전성 링과, 제 1 도전성 링의 내측에, 제 1 도전성 링으로부터 이격해서 마련된 제 2 도전성 링과, 제 1 도전성 링이 장애물에 접촉하여 변형되어서 제 2 도전성 링에 접촉했을 때, 제 1 도전성 링과 제 2 도전성 링이 단락한 것을 검출하는 검출기를 포함한다.

9. 发明授权

KR101257991B1 반송 장치 및 처리 시스템 失效
标题翻译：具有相同的传送装置和处理系统
公开(公告)号：KR101257991B1
公开(公告)日：2013-04-24
申请号：KR1020100073489
申请日：2010-07-29
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 야마다요우헤이
IPC分类号： H01L21/677 , B65G49/06 , G02F1/13 , H01L21/02
CPC分类号： H01L21/67742 , H01L21/67754
摘要： 본 발명은 피처리체의 처리실에 있어서의 재가열 시간의 단축이 가능한 동시에, 복수의 피처리체를 반송해도, 이들 복수의 피처리체 각각의 온도를 정밀하게 제어하는 것도 가능한 반송 장치에 대한 것이다. 본 발명에 따르면, 반송 장치는 베이스(51)와, 피처리체 G를 지지하고 베이스(51)에 대해 진출 퇴피해서 피처리체 G를 반송하는 피처리체 지지체(52)와, 피처리체 지지체(52)의 적어도 상하에 마련되고, 피처리체 지지체(52)에 지지된 피처리체 G로부터의 복사열을 반사하는 반사체(80)를 구비한다.

10. 发明公开

KR1020110013307A 반송 장치 및 처리 시스템 失效
标题翻译：具有相同的传送装置和处理系统
公开(公告)号：KR1020110013307A
公开(公告)日：2011-02-09
申请号：KR1020100073489
申请日：2010-07-29
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 야마다요우헤이
IPC分类号： H01L21/677 , B65G49/06 , G02F1/13 , H01L21/02
CPC分类号： H01L21/67742 , H01L21/67754 , H01L21/67115 , B65G49/061 , G02F1/1303 , H01L21/67248 , Y10S414/139
摘要： PURPOSE: A transfer device and a processing system are provided to precisely control the temperature of each object by surrounding an object support with a reflector with an object shape on the uppermost part and the lowermost part. CONSTITUTION: An object support(52) supports an object(G). The object support transfers an object. A reflector(80) is formed on the upper and lower sides of the object support. The reflector reflects the radiant heat from the object which is supported by the object support. The object support is formed between reflectors with multi stages.
摘要翻译：目的：提供一种传送装置和处理系统，用于通过在物体形状的最上部和最下部围绕具有反射体的物体支撑来精确地控制每个物体的温度。构成：对象支持（52）支持对象（G）。对象支持传输对象。反射器（80）形成在物体支撑体的上侧和下侧。反射镜反射来自物体的辐射热，该物体被物体支撑物支撑。物体支撑形成在多级反射器之间。

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