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热词
    • 4. 发明公开
    • 진공 처리실의 덮개 개폐 기구 및 덮개 개폐 방법
    • 用于打开和切割真空处理室中的盖子的机构及其方法
    • KR1020060025214A
    • 2006-03-20
    • KR1020060015256
    • 2006-02-16
    • 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
    • 나카야마히데키
    • G02F1/13H01L21/02
    • H01L21/67772G02F1/1303H01L21/67742H01L21/68
    • 복수의 진공 처리실(진공 처리 장치)에 공용의 덮개 개폐 기구를 제공한다. 덮개 개폐 기구(220)는, 차륜(201a)을 구비해서 자주(自走)함으로써 복수의 진공 처리 장치(100) 사이를 이동 가능한 대차(201)와, 대차(201)상에 설치되고, 수직 상태와 수평 상태 사이에서 굴곡 가능한 가동 레일(202a)을 구비한 한 쌍의 레일(202)과, 이 레일(202)상을 이동하는 가동 베어링부(203)를 구비하고 있고, 한 쌍의 가동 베어링부(203)를 덮개(15)의 한 쌍의 지지 축(16)에 끼워넣어, 덮개(15)를 연직 상방으로 부상시켜 기체부(14)로부터 이간시키고, 다음으로, 덮개(15)를 지지한 가동 베어링부(203)를 대차(201)상으로 이동시키는 것에 의해 기체부(14)의 상부를 개방시킨다.
    • 目的:提供一种转印基板和真空处理装置的装置和方法,以便不增加真空处理室的高度而传送大尺寸基板,从而防止基板处理的生产量降低 以增加房间的体积。 构成:用于转移衬底的装置包括能够滑动下一个上面的板的衬底支撑板(74)和多个臂板(72,73,74)。 臂板层压在基板支撑板下方以具有多级型。 每个臂板在上部具有开口,并且用于滑动滑板的驱动单元安装在开口中。 驱动单元具有一组滑轮和皮带,其中皮带的一部分连接到下一个上面的平板。 支撑板和臂板通过每个驱动单元的运动在水平方向上从真空处理室延伸到基板处理室。
    • 5. 发明公开
    • 기판 처리 장치 및 기판 반송 장치
    • 基板工艺装置和基板传送装置
    • KR1020080112986A
    • 2008-12-26
    • KR1020080058429
    • 2008-06-20
    • 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
    • 나카야마히데키야마다요우헤이
    • H01L21/677H01L21/00
    • H01L21/67069B25J11/0095H01L21/67742H01L21/68707Y10S414/141
    • A substrate processing apparatus and a substrate transfer device are provided to lengthen a supporting member of a peak in return of a substrate so that machinery operating a peak is not need to be inserted within a process chamber. A substrate processing apparatus comprises a process chamber, a substrate transfer device, and a transfer room. The process chamber performs predetermined processing to the substrate of a substrate mounting table. The substrate transfer device returns the substrate in the substrate mounting table. The transfer room accommodates the substrate transfer device and is connected to the process chamber. The substrate transfer device has a peak(52) and a main drive machinery(60). The peak enters into the process chamber with supporting substrate and returns the substrate in the substrate mounting table. The main drive machinery operates the peak. The peak has a base portion(56b), a plurality of supporting members, and a drive machinery. The supporting member is extended as a fork shape from the base portion and supports the substrate. The sub drive mactlhinery operates the supporting member flexibly. The substrate is returned with lengthening the supporting member.
    • 提供基板处理装置和基板转印装置以延长基板的返回的峰值的支撑构件,使得操作峰值的机器不需要插入处理室中。 基板处理装置包括处理室,基板输送装置和转移室。 处理室对基板安装台的基板执行预定的处理。 基板传送装置将基板返回到基板安装台。 转移室容纳衬底转移装置并连接到处理室。 基板转印装置具有峰(52)和主驱动机构(60)。 峰进入具有支撑衬底的处理室,并将衬底返回到衬底安装台中。 主要驱动机械运行高峰。 峰具有基部(56b),多个支撑构件和驱动机构。 支撑构件从基部延伸为叉状并支撑基板。 副驱动装置灵活地操作支撑构件。 通过延长支撑构件返回衬底。
    • 9. 发明公开
    • 기판 처리 장치, 로드록실 유닛, 및 반송 장치의 반출 방법
    • 基板加工装置,装载机单元及其传送装置的方法
    • KR1020070026220A
    • 2007-03-08
    • KR1020060083861
    • 2006-08-31
    • 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
    • 나카고미요이치나카야마히데키
    • H01L21/02
    • H01L21/67201H01L21/67196H01L21/67739H01L21/67742
    • A substrate processing apparatus, a loadlock chamber unit, and a transfer apparatus unloading method are provided to unload easily a transfer apparatus from the substrate processing apparatus itself regardless of the height of an installation place by dividing the transfer apparatus into an upper structure and a lower structure and unloading the upper structure through an upper portion of a transfer chamber and the lower structure through a lower space of the loadlock chamber. A substrate processing apparatus includes process chambers, a transfer chamber(20) with a transfer apparatus for transferring substrates to the process chambers, and a loadlock chamber(30) between the transfer chamber and a substrate cassette. A predetermined space exists under the loadlock chamber. The transfer apparatus is capable of being divided into an upper structure and a lower structure. The upper structure of the transfer apparatus is unloaded through an upper portion of the transfer chamber. The lower structure of the transfer apparatus is unloaded through the predetermined space under the loadlock chamber.
    • 提供了基板处理装置,负载锁定室单元和传送装置卸载方法,以便通过将传送装置分割成上部结构和下部结构来轻松地从基板处理装置自身卸载传送装置,而不管安装位置的高度如何 结构并通过传送室的上部和下部结构通过负载锁定室的下部空间卸载上部结构。 基板处理装置包括处理室,具有用于将基板传送到处理室的传送装置的传送室(20)和传送室与基板盒之间的负载锁定室(30)。 在负载锁定室下面存在预定的空间。 传送装置能够被分成上部结构和下部结构。 传送装置的上部结构通过传送室的上部被卸载。 传送装置的下部结构通过负载锁定室下面的预定空间被卸载。