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    • 4. 发明授权
    • 반도체 장치
    • 半导体器件
    • KR101383618B1
    • 2014-04-10
    • KR1020107020831
    • 2008-03-31
    • 후지쯔 세미컨덕터 가부시키가이샤
    • 도리이사토시
    • H01L21/8247H01L27/115
    • H01L27/11568G11C16/0433H01L27/0207H01L27/11519H01L27/11521H01L27/11524H01L27/11565H01L29/7881
    • 애벌란시 기입이 가능한 메모리 셀 어레이를 구비한 반도체 장치를 제공한다. 제 1 메모리 트랜지스터(MT)와 제 1 선택 트랜지스터(ST)를 갖는 제 1 메모리 셀(MC)과, 제 2 메모리 트랜지스터(MT)와 제 2 선택 트랜지스터(ST)를 갖는 제 2 메모리 셀(MC)과, 제 1 메모리 트랜지스터(MT)의 게이트 전극과 제 2 선택 트랜지스터(MT)의 게이트 전극에 전기적으로 접속된 제 1 워드선(WL1)과, 제 2 메모리 트랜지스터(MT)의 게이트 전극과 제 1 선택 트랜지스터(ST)의 게이트 전극에 전기적으로 접속된 제 2 워드선(WL2)과, 제 1 메모리 트랜지스터(MT)의 소스 영역과 제 2 메모리 트랜지스터(MT)의 소스 영역에 전기적으로 접속된 소스선(SL)을 가진다.
    • 提供了具有能够以雪崩写入的存储单元阵列的半导体器件。 具有第一存储器晶体管MT和第一选择晶体管ST的第一存储器单元MC以及具有第二存储器晶体管MT和第二选择晶体管ST的第二存储器单元MC, 和存储晶体管(MT)的栅电极和第二选择晶体管(MT)的第一字线(WL1)和第二存储晶体管(MT)和电连接到所述第一栅极电极的第一栅极电极 电连接到选择晶体管ST的栅极的第二字线WL2和电连接到第一存储晶体管MT的源极区域和第二存储晶体管MT的源极区域的源电极, 它具有(SL)。
    • 7. 发明公开
    • 반도체 장치의 제조 방법
    • 制造半导体器件的方法
    • KR1020130064009A
    • 2013-06-17
    • KR1020120129202
    • 2012-11-15
    • 후지쯔 세미컨덕터 가부시키가이샤
    • 왕웬셍
    • H01L21/8246H01L27/105
    • H01L27/11507H01L21/02197H01L21/02356H01L21/28568H01L21/3213H01L28/55H01L28/56H01L28/65H01L28/75
    • PURPOSE: A method for manufacturing a semiconductor device is provided to form a first conductive metal oxide layer on a transition metal oxide material layer without expositing the transition metal oxide material layer to the atmosphere. CONSTITUTION: A conductive layer is formed on a semiconductor substrate(S1). A first ferroelectric layer is formed on the conductive layer(S2). The first ferroelectric layer is annealed(S3). A second ferroelectric layer is formed on the first ferroelectric layer(S4). A transition metal oxide material layer is formed on the second ferroelectric layer(S5). A first conductive metal oxide layer is formed on the transition metal oxide material layer(S6). The second ferroelectric layer is annealed(S7). A second conductive metal oxide layer is formed on the first conductive metal oxide layer(S8). [Reference numerals] (AA) Start; (BB) End; (S1) Form a conductive layer(31); (S2) Form a first ferroelectric layer(32); (S3,S7) Crystallization annealing; (S4) Form a second ferroelectric layer(33); (S5) Form a transition metal oxide material layer(35); (S6) Form a first conductive metal oxide layer(35); (S8) Form a second conductive metal oxide layer(36)
    • 目的:提供一种用于制造半导体器件的方法,以在过渡金属氧化物材料层上形成第一导电金属氧化物层,而不将过渡金属氧化物材料层显露在大气中。 构成:在半导体衬底上形成导电层(S1)。 在导电层(S2)上形成第一铁电层。 第一铁电层退火(S3)。 在第一铁电层上形成第二铁电层(S4)。 在第二铁电体层上形成过渡金属氧化物材料层(S5)。 在过渡金属氧化物材料层上形成第一导电金属氧化物层(S6)。 对第二铁电层退火(S7)。 在第一导电金属氧化物层上形成第二导电金属氧化物层(S8)。 (附图标记)(AA)开始; (BB)结束; (S1)形成导电层(31); (S2)形成第一铁电层(32); (S3,S7)结晶退火; (S4)形成第二铁电层(33); (S5)形成过渡金属氧化物材料层(35); (S6)形成第一导电性金属氧化物层(35); (S8)形成第二导电金属氧化物层(36)
    • 8. 发明公开
    • 출력 회로
    • 输出电路
    • KR1020130019353A
    • 2013-02-26
    • KR1020120087625
    • 2012-08-10
    • 후지쯔 세미컨덕터 가부시키가이샤
    • 마츠다아키요시스즈키아키히로
    • H03K19/0175H03F3/45
    • H03K19/018528H03F1/0272H03F3/45179H03F3/45183H03F2200/411H03F2200/555H03F2203/45352H03F2203/45394H03F2203/45644H03F2203/45702H03K3/35613
    • PURPOSE: An output circuit capable of suppressing a timing shift between two output signals is provided to avoid voltage difference among nodes due to factors such as temperature change, thereby suppressing a timing shift among output signals due to factors such as temperature change. CONSTITUTION: A differential amplifier(30) includes an input unit(31) and a differential unit(32). The input unit generates a complementary inner signal based on a complementary input signal supplied to an input port. An input signal is supplied to the gate of a first transistor. An inverse input signal is supplied to the gate of a second transistor. The source of the first transistor is connected to wiring to which low voltage is supplied. The first transistor and a third transistor operate as a first inverter(33) receiving the input signal. The second transistor and a fourth transistor operate as a second inverter(34) receiving the inverse input signal. The input unit includes a sixth transistor, a seventh transistor, and an OR-gate(35).
    • 目的:提供一种能够抑制两个输出信号之间的定时偏移的输出电路,以避免因温度变化等因素导致的节点之间的电压差,由此抑制由温度变化等因素引起的输出信号之间的定时偏移。 构成:差分放大器(30)包括输入单元(31)和差分单元(32)。 输入单元基于提供给输入端口的互补输入信号产生互补的内部信号。 输入信号被提供给第一晶体管的栅极。 反向输入信号被提供给第二晶体管的栅极。 第一晶体管的源极连接到供应低电压的布线。 第一晶体管和第三晶体管作为接收输入信号的第一反相器(33)工作。 第二晶体管和第四晶体管用作接收反相输入信号的第二反相器(34)。 输入单元包括第六晶体管,第七晶体管和或门(35)。