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81. 发明授权

KR101446910B1 도전성 유리의 투명전도 산화막 패턴 형성방법 및 이에의하여 제조되는 도전성 유리 有权
标题翻译：导电玻璃的TCO（透明导电氧化物）和制备的导电玻璃的方法
公开(公告)号：KR101446910B1
公开(公告)日：2014-10-06
申请号：KR1020070138344
申请日：2007-12-27
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김종복 , 배호기 , 문형돈 , 박태진
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/316
CPC分类号： H01L31/1884 , H01G9/2031 , H01G9/2059 , H01G9/2077 , H01G9/2081 , Y02E10/542
摘要： 본 발명은 도전성 유리의 투명전도 산화막 패턴 형성방법 및 이에 의하여 제조되는 도전성 유리에 관한 것으로, 특히 유리기판 상면에서 투명전도 산화막이 형성되지 않는 부분에 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계; 상기 유리기판의 상면에 투명전도 산화막을 형성하는 단계; 및, 상기 유리기판 상의 포토레지스트를 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 도전성 유리의 투명전도 산화막 패턴 형성방법 및 이에 의하여 제조되는 도전성 유리에 관한 것이다.
이를 통하여 도전성 유리의 제작에 있어서 보다 용이하고, 저렴한 방법으로 투명전도 산화막(TCO) 패턴을 형성할 수 있고, 특히 FTO로 이루어지는 TCO의 경우에는 고가의 레이저 장비를 사용하지 않고 FTO 패턴이 형성된 도전성 유리를 제작할 수 있으며, 이와 같은 도전성 유리는 특히 염료감응태양전지의 전극판으로 활용될 수 있다.
포토레지스트, 투명전도 산화막, 도전성 유리

82. 发明授权

KR101429454B1 옥심기를 포함하는 감광성 분자 화합물 및 이를 포함하는포토레지스트 조성물 有权
标题翻译：具有肟基的光敏分子化合物和包含它们的光致抗蚀剂组合物
公开(公告)号：KR101429454B1
公开(公告)日：2014-09-25
申请号：KR1020080009597
申请日：2008-01-30
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 이정열 , 김정식 , 장유진 , 이재우 , 김재현
IPC分类号： G03F7/004
CPC分类号： C07C251/68 , C07C2601/14 , C07C2603/74 , C07C2603/92 , C07D209/48 , C07D209/86 , C07D221/14 , G03F7/0045 , G03F7/039
摘要： 통상의 포토레지스트용 고분자 보다 작은 크기의 분자 레지스트로서, 노광에 의하여 직접 분해되는 옥심기를 포함하는, 감광성 분자 화합물 및 이를 포함하는 포토레지스트 조성물이 개시된다. 상기 감광성 분자 화합물은 하기 화학식의 구조를 가진다.

상기 화학식 1에서, R
1 은 수소 원자 또는 메틸기(CH
3 )이고; R
a 및 R
b 는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 6의 알킬기, 탄소수 2 내지 7의 알킬카보닐기, 탄소수 6 내지 10의 아릴기 또는 탄소수 7 내지 11의 아릴카보닐기이거나, R
a 및 R
b 는 일체로서 하나의 기(group)를 형성하며, 질소(N)와 이중 결합으로 연결되는 탄소수 1 내지 20의 알킬 또는 탄소수 3 내지 20의 사이클로알킬기, 또는 탄소수 7 내지 20의 아릴알킬기이다.
포토레지스트, 감광성 분자 화합물

83. 发明公开

KR1020140111510A 리소그래피용 레지스트 보호막 형성용 조성물 및 이를 이용한 반도체 소자의 패턴 형성 방법 审中-实审
标题翻译：用于光刻工艺的耐蚀保护膜组合物和形成半导体器件图案的方法
公开(公告)号：KR1020140111510A
公开(公告)日：2014-09-19
申请号：KR1020130025748
申请日：2013-03-11
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 한만호 , 박종경 , 김현진 , 김재현
IPC分类号： G03F7/11 , H01L21/027 , G03F7/26
CPC分类号： G03F7/11 , C08L2203/16 , C09D4/06 , C09D133/16 , G03F7/0045 , G03F7/168 , G03F7/2041 , G03F7/32 , G03F7/34 , G03F7/38 , G03F7/265 , H01L21/0273 , H01L21/0276
摘要： The present invention relates to a resist protective film composition for lithography comprising: a polymer with a weight average molecular weight of 2,000-100,000, including a repeating unit having functional groups containing fluorine in a side chain; and a solvent. The solvent includes a material whose solubility parameter of 10-100 parts by weight of Hildebrand is 12.5-22.0 based on 100 parts of total weight by weight of the solvent. Moreover, the present invention relates to a method for forming a pattern of a semiconductor device using the same.
摘要翻译：本发明涉及一种用于光刻的抗蚀剂保护膜组合物，其包含：重均分子量为2,000-100,000的聚合物，包括在侧链中具有含氟官能团的重复单元; 和溶剂。溶剂包括基于100重量份溶剂的总重量的100份重量的Hildebrand的溶度参数为12.5-22.0的材料。此外，本发明涉及一种使用其形成半导体器件的图案的方法。

84. 发明公开

KR1020140107815A 광학소자 봉지용 수지 조성물 审中-实审
标题翻译：用于包装光学装置的树脂组合物
公开(公告)号：KR1020140107815A
公开(公告)日：2014-09-05
申请号：KR1020130021845
申请日：2013-02-28
申请人： 주식회사 동진쎄미켐 , 숭실대학교산학협력단
发明人： 주한복 , 송선식 , 권혁용 , 박은주 , 김재현 , 곽영제 , 은희천 , 임희은
IPC分类号： C08L83/04 , C08L83/08 , C08G77/04 , H01L23/29
CPC分类号： C08L83/06 , C08G77/045 , C08G77/20 , C08G77/62 , C08G77/80 , C08K5/56 , C08L83/00 , C08L83/04 , H01L23/296 , H01L33/56
摘要： The present invention relates to a resin composition for encapsulating optical elements and, more specifically, to a resin composition for encapsulating optical elements, comprising polyhedral oligomeric silsesquioxane (POSS) which has improved compatibility with resin as capable of cross-link, and organic polysilazane compound. The resin composition for encapsulating optical elements of the present invention can be applied to an encapsulating process of various kinds of optical elements, especially an encapsulating process of thick films because it has excellent mechanical properties, improved adhesion to a substrate, and barrier properties against moisture or oxygen, resulting from excellent solubility in siloxane resin and reduced outgassing effect.
摘要翻译：本发明涉及一种用于封装光学元件的树脂组合物，更具体地，涉及一种用于封装光学元件的树脂组合物，其包含与能够交联的树脂相容性提高的多面体低聚倍半硅氧烷（POSS）和有机聚硅氮烷化合物。本发明的用于封装光学元件的树脂组合物可以应用于各种光学元件的封装工艺，特别是厚膜的封装工艺，因为它具有优异的机械性能，改进的对基材的粘附性和防潮性或氧气，由于在硅氧烷树脂中的溶解性优异，并且减少了除气效果。

85. 发明公开

KR1020140102942A 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성 방법 审中-实审
标题翻译：光敏树脂组合物及其形成图案的方法
公开(公告)号：KR1020140102942A
公开(公告)日：2014-08-25
申请号：KR1020130016479
申请日：2013-02-15
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 주진호 , 심승보 , 김준기 , 정양호 , 공향식 , 김병욱 , 김진선 , 여태훈 , 윤혁민 , 이상훈
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/022 , G03F7/26 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0233 , G03F7/0048 , G03F7/022 , G03F7/0226 , G03F7/0751 , G03F7/0755 , G03F7/322 , G03F7/38 , G03F7/0045 , G03F7/004 , G03F7/20 , G03F7/202 , G03F7/26 , H01L21/027
摘要： The present invention provides a photosensitive resin composition. The photosensitive resin composition according to an embodiment of the present invention comprises: an acrylic copolymer which is formed by copolymerizing an unsaturated carboxylic acid, an unsaturated carboxylic acid anhydride or a mixture thereof and an olefinically unsaturated compound or a mixture thereof; a photo active compound (PAC) which includes 45 AREA% of at least one among structurally asymmetric compounds based on high performance liquid chromatography (HPLC) analysis while containing a 1,2-quinonediazide-5-sulfonate ester compound represented by chemical formula 1 through chemical formula 4; a coupling agent; and a solvent.
摘要翻译：本发明提供一种感光性树脂组合物。根据本发明实施方案的感光性树脂组合物包含：通过使不饱和羧酸，不饱和羧酸酐或其混合物与烯属不饱和化合物或其混合物共聚形成的丙烯酸共聚物; 基于高效液相色谱（HPLC）分析，包含结构不对称化合物中的45个AREA％的至少一种的光活性化合物（PAC），同时含有由化学式1至化学式1所代表的1,2-醌二叠氮化物-5-磺酸酯化合物化学式4; 偶联剂; 和溶剂。

86. 发明授权

KR101431509B1 태양전지 전극형성용 페이스트 조성물 有权
标题翻译：用于形成太阳能电池电极的糊剂组合物
公开(公告)号：KR101431509B1
公开(公告)日：2014-08-22
申请号：KR1020110139024
申请日：2011-12-21
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 황건호 , 정용준 , 고민수 , 정미혜
IPC分类号： H01B1/22 , H01L31/04 , H05K3/40
CPC分类号： Y02E10/50
摘要： 본 발명은 태양전지 전극형성용 페이스트 조성물에 관한 것으로, a) 도전성 분말, b) 셀룰로오스계 바인더, c) 아크릴레이트계 모노머, d) 라디칼 중합개시제 및 e) 용매를 포함하는 본 발명의 태양전지 전극형성용 페이스트 조성물은 종래의 페이스트 조성물에 비해 저온에서 소성가능하고 우수한 경화도, 전기비저항 특성 및 안정성을 가져 태양전지의 전극 또는 배선의 형성에 유용하게 사용될 수 있다.

87. 发明公开

KR1020140094415A 투명 전도성 막 코팅 조성물, 투명 전도성 막 및 투명 전도성 막의 제조 방법 审中-实审
标题翻译：用于透明导电膜的涂层组合物，透明导电膜及其制造方法
公开(公告)号：KR1020140094415A
公开(公告)日：2014-07-30
申请号：KR1020130086072
申请日：2013-07-22
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 이성현 , 김경은 , 김성배 , 이병욱
IPC分类号： C09D5/24 , C09D1/00 , C09D201/00
CPC分类号： C09D5/24 , B05D7/00 , C08K3/08 , C08K7/00 , C08K2201/001 , C08L101/00 , C09D1/00
摘要： The present invention relates to a transparent conductive film coating composition, a transparent conductive film, and a method for producing a transparent conductive film and, more specifically, to a transparent conductive film coating composition comprising a primary conductive film coating composition including a metal nanowire and a dispersing liquid, and a protection layer coating composition including at least one kind of sol selected from the group consisting of a magnesium fluoride sol, an inorganic sol, an inorganic-inorganic composite sol, and an organic-inorganic composite sol; a method for producing a transparent conductive film by coating and drying the primary conductive film coating composition and protection layer coating composition; and a transparent conductive film produced thereby. A transparent conductive film produced using the coating composition of the present invention has superior sheet resistance, environmental resistance, electricity transmittance, and haze characteristics, is easy to etch even in a wet etching process, and allows refraction to be easily controlled, and thus can be effectively used for an electrode of a liquid crystal display device, a plasma display device, a touch panel, an electroluminescence device, a thin film solar cell, a dye-sensitized solar cell, and an inorganic crystalline solar cell.
摘要翻译：透明导电膜涂料组合物，透明导电膜及透明导电膜的制造方法技术领域本发明涉及透明导电膜涂料组合物，透明导电膜及透明导电膜的制造方法，更具体地说，涉及含有金属纳米线和分散液和保护层涂料组合物，其包含选自氟化镁溶胶，无机溶胶，无机 - 无机复合溶胶和有机 - 无机复合溶胶中的至少一种溶胶; 通过涂布干燥第一导电膜涂料组合物和保护层涂料组合物来制造透明导电膜的方法; 和由此制成的透明导电膜。使用本发明的涂料组合物制造的透明导电膜具有优异的薄层电阻，耐环境性，透光率和雾度特性，即使在湿法蚀刻工艺中也容易蚀刻，并且允许折射容易控制，因此可以有效地用于液晶显示装置的电极，等离子体显示装置，触摸屏，电致发光装置，薄膜太阳能电池，染料敏化太阳能电池和无机晶体太阳能电池。

88. 发明授权

KR101420571B1 드라이필름 레지스트 박리제 조성물 및 이를 이용한 드라이필름 레지스트의 제거방법 有权
标题翻译：用于干燥电阻的去除组合物和使用该组合物的除去方法
公开(公告)号：KR101420571B1
公开(公告)日：2014-07-16
申请号：KR1020130079083
申请日：2013-07-05
申请人： 삼성전기주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 조은인 , 오용수 , 이수흥 , 손명찬 , 지영식 , 이태곤 , 이경상 , 정세환 , 김병욱 , 윤석일 , 정종현 , 허순범 , 황종원
IPC分类号： G03F7/42 , G03F7/34
CPC分类号： G03F7/425 , C11D3/046 , C11D7/32 , G03F7/027 , G03F7/038 , G03F7/0955 , G03F7/32
摘要： The present invention relates to a remover composition for a dry film resist comprising a hydroxide-based compound, a chain type amine compound, a triazole compound, and pure water in a certain mixture ratio, and to a method for removing a dry film resist using the same, which completely removes the dry film resist, prevents the corrosion of a metal layer, and is capable of reusing a remover.
摘要翻译：本发明涉及一种干膜抗蚀剂的去除剂组合物，其含有一定混合比例的氢氧化物基化合物，链型胺化合物，三唑化合物和纯水，以及使用以下方法除去干膜抗蚀剂的方法：完全去除干膜抗蚀剂，防止金属层的腐蚀，并且能够重新使用去除剂。

89. 发明公开

KR1020140084512A 전력 변환 장치 审中-实审
标题翻译：电源转换装置
公开(公告)号：KR1020140084512A
公开(公告)日：2014-07-07
申请号：KR1020120154035
申请日：2012-12-27
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 이주철 , 배호기
IPC分类号： G05F1/67
摘要： A power converting apparatus includes a power converting unit for converting power which is output from a solar cell into power required in a power system; and a maximum power point tracking control unit which is electrically connected to the power converting unit and generates a maximum power point tracking voltage to control the output power of the power converting unit for outputting the maximum power when a maximum power point tracking operation is performed, wherein the maximum power point tracking control unit controls the output power of the power converting unit by generating the maximum power point tracking voltage while a voltage variable quantity is changed to reduce a voltage when the maximum power point tracking operation is performed.
摘要翻译：电力转换装置包括用于将从太阳能电池输出的电力转换成电力系统所需的电力的电力转换单元; 以及最大功率点跟踪控制单元，其电连接到所述功率转换单元，并且产生最大功率点跟踪电压，以在执行最大功率点跟踪操作时控制所述功率转换单元的输出功率以输出最大功率; 其中最大功率点跟踪控制单元通过在电压可变量改变时产生最大功率点跟踪电压来控制功率转换单元的输出功率，以在执行最大功率点跟踪操作时降低电压。

90. 发明授权

KR101414450B1 염료감응 태양전지의 제조방법 有权
标题翻译：制备染料敏化太阳能电池的方法
公开(公告)号：KR101414450B1
公开(公告)日：2014-07-04
申请号：KR1020080077734
申请日：2008-08-08
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 배호기 , 박태진 , 문형돈
IPC分类号： H01L31/04 , H01L31/18
CPC分类号： H01G9/2031 , H01G9/2059 , Y02E10/542 , Y02P70/521
摘要： 본 발명은 염료감응 태양전지의 제조방법에 관한 것으로, 광전극층을 형성하고, 상기 광전극층에 염료를 흡착하는 공정을 포함하는 염료감응 태양전지의 제조방법에 있어서, 상기 염료를 흡착하는 공정이전에 상기 광전극층에 자외선을 조사하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지의 제조방법에 관한 것이다.
이를 통하여 자외선의 조사에 따른 광전극층에 잔류하는 유기물 및 오염물이 분해, 제거될 뿐만 아니라, 상기 광전극층을 이루는 물질 자체가 광촉매 역할을 하므로, 자외선의 조사에 의해 스스로 전자를 여기시켜 활성화 되면, 주변의 H
2 O나 O
2 가 이 전자를 가져가서 주변의 유기물을 분해하여, 염료 흡착이전에 광전극층의 표면을 세정하게 되어 흡착효율을 개선하며, 자외선 조사에 따라 광전극층이 활성화되어 흡착이 더욱 용이하게 되어 또한 염료 흡착효율이 증대되어 염료 흡착효율을 두 가지 측면에서 크게 개선하며, 이에 따라 태양전지의 광전변환효율을 개선하는 효과를 얻을 수 있다.
염료감응, 태양전지, 자외선

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