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热词
    • 65. 发明公开
    • 초음파 변환기 및 그 제조 방법
    • 超声波传感器及其制造方法
    • KR1020130022083A
    • 2013-03-06
    • KR1020110084822
    • 2011-08-24
    • 삼성전자주식회사
    • 정석환
    • H04R19/02H04R31/00
    • B32B37/14B06B1/0292B32B38/10B81C1/00158H02N11/00H04R31/00Y10T156/10
    • PURPOSE: An ultrasonic transducer and a manufacturing method thereof are provided to improve the transmission power and the receiving sensitivity of the ultrasonic transducer, and provide a manufacturing method of the ultrasonic transducer by bonding a SOI wafer and a Si wafer without arranging. CONSTITUTION: An ultrasonic transducer(100) comprises a substrate(110) a supporting part(130) in which a penetration hole prepared on the substrate(110) is formed, a thin film(150) which is prepared by being separated with the substrate(110) and the supporting part(130) respectively, and a connection part(140) connecting the supporting part(130) and the thin film(150).
    • 目的:提供超声波换能器及其制造方法,以提高超声波换能器的发射功率和接收灵敏度,并且通过不排列地结合SOI晶片和Si晶片来提供超声波换能器的制造方法。 构成:超声波换能器(100)包括基板(110),其上形成有在基板(110)上制备的穿透孔的支撑部分(130),通过与基板分离而制备的薄膜(150) (110)和支撑部分(130)以及连接支撑部分(130)和薄膜(150)的连接部分(140)。
    • 67. 发明公开
    • 압력센서 제조방법 및 그 구조
    • 用于制造压力传感器的方法及其结构
    • KR1020080098990A
    • 2008-11-12
    • KR1020070044512
    • 2007-05-08
    • 안동대학교 산학협력단
    • 이영태
    • G01L9/06
    • G01L9/06B81C1/00158G01L9/0042G01L9/0052
    • A pressure sensor manufacturing method and a structure thereof are provided to integrate a pressure sensor and a signal processing circuit on one chip with a simple process, make thin and uniform diaphragm and reduce the chip size of the sensor. A pressure sensor manufacturing method comprises the following steps. An SOI semiconductor substrate in which a first silicon layer, a first insulation layer(114) and a second silicon layer(112) are successively laminated is prepared. A piezo resistance(120) is formed on a part of the second silicon layer by diffusion or ion injection process. A sensor circuit part including an electrode(130) connected to the piezo resistance is formed. A part of the lower surface of the first silicon layer which is the lower surface of the semiconductor substrate is dry-etched and a diaphragm is formed. A diaphragm(160) is formed by a recess exposing the first insulation layer through the first silicon layer.
    • 提供了一种压力传感器的制造方法及其结构,以简单的工艺将压力传感器和信号处理电路集成在一个芯片上,制成薄且均匀的膜片,并减小传感器的芯片尺寸。 压力传感器的制造方法包括以下步骤。 制备其中连续层压第一硅层,第一绝缘层(114)和第二硅层(112)的SOI半导体衬底。 通过扩散或离子注入工艺在第二硅层的一部分上形成压电电阻(120)。 形成包括连接到压电电阻的电极(130)的传感器电路部分。 作为半导体基板的下表面的第一硅层的下表面的一部分被干蚀刻并形成隔膜。 隔膜(160)由通过第一硅层暴露第一绝缘层的凹部形成。
    • 69. 发明公开
    • 선형보정 마이크로 압력센서
    • 线性补偿微型压力传感器
    • KR1020070096656A
    • 2007-10-02
    • KR1020060027537
    • 2006-03-27
    • 한국기계연구원
    • 박중호함상용윤동원조정대
    • G01L7/08G01L9/02G01L9/00
    • G01L9/0041B81C1/00158G01L19/0061G01L27/005
    • A linear-compensation micro pressure sensor is provided to make output current value linear by controlling the curvature for a curved line by compensating a partial section and keeping a thin film thickness of a resistant body constantly. A linear-compensation micro pressure sensor(100) comprises a flexible diaphragm(5), a lower end wafer(2), an upper end wafer(1), a metallic thin film(6), a reference body(8), a plurality of resistant bodies(7), a plurality of electrodes(9), and a power source unit(21). The lower end wafer includes an upper chamber positioned at one side of the diaphragm and having opened upside. The upper end wafer is formed opposite to the diaphragm and combined with an upper surface of the lower end wafer to seal the upper chamber. The metallic thin film is vacuum-plated at the upper surface of the diaphragm. The reference body is fixed to the center of the lower end surface for the upper end wafer. The plural resistant bodies are curved longitudinally to increase a section toward the reference body and fixed to the lower end surface of the upper end wafer. The plural electrodes are formed at one sides of the reference body and the resistant body. The power source unit includes a lead wire(20) connecting the electrodes electrically.
    • 提供了一种线性补偿微压力传感器,通过补偿局部截面并保持耐磨体的薄膜厚度不断地通过控制曲线的曲率来使输出电流值呈线性。 线性补偿微压力传感器(100)包括柔性隔膜(5),下端晶片(2),上端晶片(1),金属薄膜(6),参考体(8), 多个电阻体(7),多个电极(9)和电源单元(21)。 下端晶片包括位于隔膜一侧并具有向上打开的上室。 上端晶片与隔膜相对地形成,并与下端晶片的上表面组合以密封上室。 金属薄膜在隔膜的上表面被真空镀覆。 参考体固定在上端晶片的下端面的中心。 多个电阻体纵向弯曲以增加朝向基准体的截面并且固定到上端晶片的下端表面。 多个电极形成在基准体和抵抗体的一侧。 电源单元包括电连接电极的引线(20)。
    • 70. 发明公开
    • 압력센서
    • KR1020050103601A
    • 2005-11-01
    • KR1020040028819
    • 2004-04-26
    • (주)센서시스템기술
    • 김영보
    • G01L9/04
    • G01L9/02B81C1/00158G01L9/0041G01L27/005
    • 본 발명은 압력 센서에 관한 것으로서 링(ring) 형상의 베이스와, 상기 베이스의 압력이 인가되는 타측과 대응하는 일측에 원형의 가장자리 부분을 중첩되게 용접하여 형성되는 접합부에 의해 접합되는 높은 경도와 큰 탄성력을 갖는 절연물질로 이루어진 다이아프램과, 상기 다이아프램 상의 상기 베이스와 인접하는 부분 또는 중심 부분에 각각 폭과 길이를 가지되 상기 길이가 동일한 방향을 갖도록 형성된 다 수개의 저항체와, 상기 다이아프램 상의 상기 베이스와 대응하는 주변 부분에 상기 다 수개의 저항체와 휘스톤 브릿지 구성을 이루도록 형성된 다 수개의 전극과, 상기 다이아프램 상에 상기 다 수개의 저항체를 덮으며 상기 다 수개의 전극을 개구에 의해 노출시키도록 형성된 보호막을 구비한다. 따라서, 베이스와 제 1, 제 2, 제 3 및 제 4 저항체 사이에 정전 용량이 발생되지 않으므로 동작 특성을 향상시킬 수 있으며, 또한, 다이아프램의 탄성력이 크므로 저항 값의 직선성 및 재현성이 향상될 뿐만 아니라 히스테리시스 특성 및 크립(creep) 특성도 향상된다.