专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

61. 发明授权

KR101378447B1 ＭＲＩ 기반 ＬＩＮＡＣ 시스템을 위한 자기장 차폐 구조 有权
标题翻译：基于MRI的LINAC系统的磁场屏蔽结构
公开(公告)号：KR101378447B1
公开(公告)日：2014-03-26
申请号：KR1020120130836
申请日：2012-11-19
申请人： 한국전기연구원
发明人： 김근주 , 김관호 , 김정일 , 전석기 , 최재구 , 김재홍 , 신동원
IPC分类号： A61B5/055 , A61N5/10
摘要： The present invention relates to a non-invasive medical instrument including an MRI device and a LINAC system, capable of minimizing impacts of a LINAC system or surrounding metal materials on a magnetic field for MRI and minimizing impacts on the generation of electronic beams in the LINAC system while maintaining uniform distribution of the magnetic field for MRI whilst acquiring images from an MRI device and enabling local X-ray generation of the LINAC system at various angles, by installing the LINAC system to be rotatable and movable through a rail or a rotation gantry inside a circular- or disk-shaped outer box having a magnetic field shielding structure among magnetic field generation devices for MRI. [Reference numerals] (AA) X-ray
摘要翻译：本发明涉及一种包括MRI装置和LINAC系统的非侵入性医疗器械，其能够最小化LINAC系统或周围金属材料对MRI磁场的影响并最小化对LINAC中电子束产生的影响系统，同时保持用于MRI的磁场的均匀分布，同时从MRI装置获取图像，并且通过将LINAC系统安装成可旋转并可通过轨道或旋转机架移动，从而实现各种角度的LINAC系统的局部X射线产生在用于MRI的磁场产生装置中具有磁场屏蔽结构的圆形或圆盘形外箱内。（附图标记）（AA）X射线

62. 发明授权

KR101339647B1 습식 식각 공정을 이용하는 광 결정 밴드갭 소자의 제조방법 失效
标题翻译：使用湿蚀刻工艺制造光子晶体带隙器件的方法
公开(公告)号：KR101339647B1
公开(公告)日：2013-12-09
申请号：KR1020110144056
申请日：2011-12-28
申请人： 한국전기연구원
发明人： 김재홍 , 김근주 , 김정일 , 전석기 , 허두창
IPC分类号： H01L21/306 , H01L33/00
摘要： 다수의 단위 광결정 패턴들이 주기적으로 격자(grid) 형태로 배치되는 광결정 회로를 포함하는 광 결정 밴드갭 소자의 제조방법이 제공된다. 광 결정 밴드갭 소자의 제조방법은, (a) 금속층을 이용하여 두 개의 웨이퍼들을 본딩(bonding)하는 단계와, (b) 광결정 회로 제작을 위해 본딩된 웨이퍼들 중 상판 웨이퍼에 대해 CMP(Chemical Mechanical Polishing) 공정을 수행하여 상판 웨이퍼의 두께를 조절하는 단계와, (c) 상판 웨이퍼의 두께를 조절하는 것에 의해 광결정 회로의 주파수 대역이 결정된 후 감광성 에칭 마스크(photosensitive etching mask)를 이용하여 광결정 회로 제작을 위한 마스크 패턴을 형성하는 단계와, (d) 상기 마스크 패턴에 대해 습식 식각 공정을 적용하여 광 결정 밴드갭 소자를 제조하는 단계를 포함한다.

63. 发明授权

KR101338010B1 ＭＥＭＳ 공정을 이용한 진공전자소자의 ２단계 격자회로 제작 방법 失效
标题翻译：使用MEMS（微电子机械系统）技术制造真空微电子器件的两阶段光栅的方法
公开(公告)号：KR101338010B1
公开(公告)日：2013-12-09
申请号：KR1020120085895
申请日：2012-08-06
申请人： 한국전기연구원
发明人： 김재홍 , 김정일 , 김근주 , 전석기
IPC分类号： H01J25/34 , H01J23/24 , B81C1/00
摘要： The present invention relates to a method for manufacturing the two stage grating circuit (or low speed wave circuit) of vacuum microelectronic device. A silicon wafer used as the engraved frame of the grating circuit is manufactured by a Cu-Cu wafer bonding technology or a single wafer. The pattern of the grating circuit is manufactured by a photolithography process. The height of the grating circuit is manufactured by using a chemical mechanical polishing process for the two stage grating circuit. Therefore, high manufacture accuracy, high productivity, and low manufacture costs are realized. [Reference numerals] (AA,BB) Metal lattice
摘要翻译：本发明涉及真空微电子器件的二级光栅电路（或低速波电路）的制造方法。用作光栅电路的雕刻框架的硅晶片由Cu-Cu晶片接合技术或单个晶片制造。光栅电路的图案通过光刻工艺制造。通过使用用于两级光栅电路的化学机械抛光工艺来制造光栅电路的高度。因此，实现了高制造精度，高生产率和低制造成本。（附图标记）（AA，BB）金属晶格

64. 发明授权

KR101296748B1 광 기반의 전자기파를 이용한 고속／고분해능 분광／영상 측정 시스템 失效
标题翻译：基于OPTICS的电磁波高速高分辨光谱和成像系统
公开(公告)号：KR101296748B1
公开(公告)日：2013-08-20
申请号：KR1020120030411
申请日：2012-03-26
申请人： 한국전기연구원
发明人： 김근주 , 김재홍 , 김정일 , 전석기
IPC分类号： G01N21/27 , G01J3/02
摘要： PURPOSE: A high speed/high resolution spectral/image measurement system using an electromagnetic wave of an optical based are provided to obtain a high spatial resolution, and to obtain a high signal to noise ratio without a loss of a light source. CONSTITUTION: A high speed/high resolution spectral/image measurement system using an electromagnetic wave of an optical based comprise an optical system (110), a reflector (120), a scanning mirror (121), a THz wave generator (130), and an optical detector (190). The optical system focuses a laser generated in a laser unit, and makes an incident to a measurement object sample of a lower part of the THz wave generator and the reflector. The reflector is formed in a form of a pellicle or a form of a reflecting surface having a hole. The scanning mirror scans an incoming laser. The THz wave generator comprises an optical crystal, a support layer, a non-reflective coating layer, and a functional layer. The optical crystal generates a Thz wave, and the support layer protects an optical crystal, and the non-reflective coating layer reduces a loss of a laser light. The functional layer protects the measurement object sample, and passes the THz wave of a specific frequency. The optical detector generates an electric signal about a focused THz wave in the optical system. [Reference numerals] (AA) Scanning; (BB) Optical crystal; (CC) Sample
摘要翻译：目的：提供使用基于光学的电磁波的高速/高分辨率光谱/图像测量系统以获得高空间分辨率，并且获得高的信噪比而不损失光源。构成：使用光学电磁波的高速/高分辨率光谱/图像测量系统包括光学系统（110），反射器（120），扫描反射镜（121），太赫兹波发生器（130）和光学检测器（190）。光学系统聚焦在激光单元中产生的激光，并且对THz波发生器和反射器的下部的测量对象样本进行入射。反射器形成为防护薄膜或具有孔的反射表面的形式。扫描镜扫描传入的激光。太赫兹波发生器包括光学晶体，支撑层，非反射涂层和功能层。光学晶体产生Thz波，并且支撑层保护光学晶体，并且非反射涂层减少了激光的损失。功能层保护测量对象样本，并通过特定频率的THz波。光学检测器在光学系统中产生关于聚焦的THz波的电信号。（附图标记）（AA）扫描; （BB）光学晶体; （CC）样品

65. 发明公开

KR1020130029208A 마이크로 그리드 구조체 제조방법 失效
标题翻译：制造微结构的方法
公开(公告)号：KR1020130029208A
公开(公告)日：2013-03-22
申请号：KR1020110092464
申请日：2011-09-14
申请人： 한국전기연구원
发明人： 김재홍 , 전석기 , 김정일 , 김근주 , 허두창
IPC分类号： H01L21/306 , H01L21/3065
CPC分类号： H01J37/32422
摘要： PURPOSE: A method for manufacturing a micro grid structure is provided to easily form grid patterns of various shapes by using a silicon plate. CONSTITUTION: Grid grooves are formed in a first surface of a silicon plate(S10). A first silicon oxide film is formed in both surfaces of the silicon plate through a thermal oxidation process(S20). A groove and a grid hole are formed in a second surface of the silicon plate(S30). A second silicon oxide film is formed in both surfaces of the silicon plate through a thermal oxidation process(S40). A metal layer is formed on the second silicon oxide film(S50). [Reference numerals] (S10) Forming grid grooves in a first surface; (S20) Forming a first silicon oxide film through a thermal oxidation process; (S30) Forming a groove and a grid hole in a second surface; (S40) Forming a second silicon oxide film through a thermal oxidation process; (S50) Forming a metal layer on the first surface
摘要翻译：目的：提供一种用于制造微格栅结构的方法，以通过使用硅板容易地形成各种形状的网格图案。构成：在硅板的第一表面中形成网格槽（S10）。通过热氧化处理在硅板的两个表面上形成第一氧化硅膜（S20）。在硅板的第二表面中形成有槽和栅格孔（S30）。通过热氧化工艺在硅板的两个表面上形成第二氧化硅膜（S40）。在第二氧化硅膜上形成金属层（S50）。（附图标记）（S10）在第一面中形成网格槽; （S20）通过热氧化法形成第一氧化硅膜; （S30）在第二表面形成槽和栅格孔; （S40）通过热氧化工序形成第二氧化硅膜; （S50）在第一表面上形成金属层

66. 发明授权

KR101174368B1 평면 반사체 회전을 이용한 광 지연기 失效
标题翻译：光延迟线使用旋转平面反射器
公开(公告)号：KR101174368B1
公开(公告)日：2012-08-16
申请号：KR1020080114486
申请日：2008-11-18
申请人： 한국전기연구원
发明人： 김근주 , 진윤식 , 전석기 , 김정일
IPC分类号： G02B27/00
摘要： 또한, 간단한평판형구조로이루어져, 가공이간단하고설계하기가용이하여고속회전상황에서도재연성높은안정된운동이가능하게된다.

67. 发明授权

KR101092217B1 광결정 바이어스－티 失效
标题翻译：光子晶体偏置三通
公开(公告)号：KR101092217B1
公开(公告)日：2011-12-12
申请号：KR1020090112989
申请日：2009-11-23
申请人： 한국전기연구원
发明人： 한성태 , 김정일 , 전석기 , 김근주
IPC分类号： G02B6/12
摘要： 본발명은광결정도파관구조를활용하여직류전압으로편향된초고주파(RF) 신호를발생시키거나직류전압으로편향된초고주파신호에서직류전압편향을제거하기위한바이어스-티 (bias-Tee)에관한것이다. 본발명의일면에따른광결정바이어스-티는, 선결함이포함된복수의유전체막대로이루어지는이차원광결정, 및상기이차원광결정을덮는상측금속판과하측금속판을포함하고, 상기상측금속판은전기적으로분리절연을위한절연구간을사이에두고형성된제1 상측금속판및 제2 상측금속판을포함한다.

68. 发明公开

KR1020110060236A 전자 방출 장치의 음극부 구조 有权
标题翻译：电子发射装置的阴极结构
公开(公告)号：KR1020110060236A
公开(公告)日：2011-06-08
申请号：KR1020090116765
申请日：2009-11-30
申请人： 한국전기연구원 , 세종대학교산학협력단
发明人： 김정일 , 최해영 , 조은주 , 한성태 , 김종욱 , 이한성 , 이내성
IPC分类号： H01J35/06 , H01J1/304
摘要： PURPOSE: A cathode structure of an electron emission device is provided to simplify a manufacturing process by performing a laser process or a mechanical process for forming a substrate having a concavo-convex part. CONSTITUTION: A cathode(200) emits electronics. An anode(100) is arranged on an upper part of the cathode. The cathode part includes a substrate(210) having a concavo-convex part formed on a surface thereof. The cathode part includes an emitter(230) which is formed on the upper surface of the substrate. The concavo-convex part includes a protrusive part and a concave part.
摘要翻译：目的：提供一种电子发射器件的阴极结构，以通过执行用于形成具有凹凸部分的衬底的激光工艺或机械工艺来简化制造工艺。构成：阴极（200）发射电子。阳极（100）布置在阴极的上部。阴极部包括在其表面上形成有凹凸部的基板（210）。阴极部分包括形成在基板的上表面上的发射极（230）。凹凸部包括突出部和凹部。

69. 发明授权

KR101011681B1 습식공정을 이용한 광결정 수동소자의 제조방법 有权
标题翻译：使用湿蚀刻的光子晶体被动元件的制造方法
公开(公告)号：KR101011681B1
公开(公告)日：2011-01-31
申请号：KR1020080071466
申请日：2008-07-23
申请人： 한국전기연구원
发明人： 김정일 , 전석기 , 진윤식 , 김근주 , 손채화 , 박시현
IPC分类号： H01L27/04 , H01L21/3063
摘要： 본 발명은 실리콘 웨이퍼의 결정 방향 (100)으로의 비등방적 습식공정과 반도체 공정기술을 적용하여 원하는 전자기파 대역에서 이용할 수 있는 광도파로, 공진기, 필터, 안테나 등의 광결정 수동소자에 사용될 수 있는 광결정 구조를 제조할 수 있고, 일정 반지름과 높이를 갖는 실리콘 결정이 주기적 배열로 구성된 부분과 광도파로, 공진기 등으로 사용하기 위해 축 방향으로의 광 손실을 줄이기 위한 덮개부분으로 이루어지도록 하여 원하는 전자기파 대역에 적용될 수 있는 수동소자로 사용할 수 있으며, 실리콘 결정을 도전성이 있는 물질로 코팅을 하지 않고 사용한 유전체 광결정 특성과 실리콘 결정을 도전성이 있는 물질로 코팅하여 금속 광결정 특성을 모두 이용할 수 있도록 한 광결정 구조를 갖는 광결정 수동소자의 제조 방법에 관한 것이다. 이를 이용하여 상대적으로 가격이 저렴하며, 높이가 큰 광결정 구조를 빠른 시간 안에 대량으로 제작할 수 있다.
광결정, 수동소자, 실리콘, 웨이퍼, 결정방향 (100), 비등방성, 습식공정, 테라헤르츠

70. 发明授权

KR100994146B1 외부에서 인가된 전압으로 편향된 광결정 공진기 失效
标题翻译：光电晶体谐振器偏置于外部施加的电压
公开(公告)号：KR100994146B1
公开(公告)日：2010-11-15
申请号：KR1020080118274
申请日：2008-11-26
申请人： 한국전기연구원
发明人： 전석기 , 김정일 , 정순신 , 한성태
IPC分类号： G02B6/10
摘要： 본 발명에 따른 광결정(photonic crystal) 공진기는 공진기 내부의 공동이 공기(진공)인 공동(cavity) 공진기이다. 광결정은 이차원 광결정으로서 유전체 막대를 주기적으로 배열함으로써 만들어진다. 유전체 막대의 주기적인 배열은 다양하게 형성될 수 있고, 광결정의 광 밴드갭(photonic band gap)이 원하는 주파수 대역에서 원활히 형성되도록 구성된다. 유전체 막대로 구성된 이차원 광결정에서 하나 이상의 막대를 제거한 결함(defect)을 만든다. 이 점(local) 결함은 공동 형태의 공진기가 되고 외부 전자기파 소스와 결합된다. 외부 전자기파 소스와 공진기의 결합을 위하여 선(line)결함이 추가된다. 이 선결함은 선 형태로 막대를 제거해서 만들게 되는데 전자기파가 이 선결함을 따라서 이동할 수 있기 때문에 도파관 역할을 하게 된다. 선결함은 공진기와 외부 전자기파 소스를 결합한다. 유전체 막대의 양쪽 끝은 위아래의 금속판으로 덮는다. 위아래 두 개의 금속판 중에서 하나 이상의 금속판에 절연 구간을 두어 두 개 이상의 금속판으로 분리 절연한다. 절연시키는 부위는 선결함과 교차하도록 한다. 절연 구간의 폭이 전자기파의 파장보다 충분히 작도록 만들어야 전자기파가 선결함을 통해 원활히 진행하게 된다. 공진기를 외부 전자기파 소스에 결합하면 공동 공진기를 막고 있는 두 금속판 사이에 전자기파의 주파수를 가지는 AC전압이 형성된다. 추가로 같은 금속판에 DC전압, 펄스 전압 등을 인가하면 변형된 AC전압을 얻게 된다. DC전압을 인가하면DC전압만큼 편향된 AC전압을 얻게 된다.
광결정, 공진기, 편향

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式