会员体验
专利管家(专利管理)
工作空间(专利管理)
风险监控(情报监控)
数据分析(专利分析)
侵权分析(诉讼无效)
联系我们
交流群
官方交流:
QQ群: 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
热词
    • 51. 发明授权
    • 셀프-리프레쉬 가능한 듀얼포트 동적 캠셀 및 리프레쉬장치
    • 双端口动态CAM单元和刷新电路
    • KR100135699B1
    • 1998-04-24
    • KR1019940016657
    • 1994-07-11
    • 에스케이하이닉스 주식회사
    • 장현식
    • G11C11/401
    • G11C8/16G11C11/406G11C15/043
    • 셀프-리프레쉬 가능한 듀얼포트 동적 캠셀은 판독동작에 영향을 미치지 않고 성능의 저하시키지 않으면서 데이타를 셀프-리프레쉬 할 수 있다. 이를 위하여, 상기 셀프-리프레쉬 가능한 듀얼포트 동적 캠셀은 제1 진위의 비트데이타를 저장하기 위한 제1 모스 트랜지스터와, 제1 보수의 비트데이타를 저장하기 위한 제2 모스 트랜지스터와, 제1 진위의 비트라인으로 부터의 데이타에 의하여 상기 제1 모스 트랜지스터에 저장된 데이타를 매치라인쪽으로 전송하는 제3 모스 트랜지스터와, 제1 보수의 비트라인으로 부터의 데이타에 의하여 상기 제2 모스 트랜지스터에 저장된 데이타를 매치라인쪽으로 전송하는 제4 모스 트랜지스터와, 제1 워드라인으로 부터의 신호에 따라 상기 제1 진위의 비트라인으로부터의 데이타를 상기 제1 모스 트랜지스터에 저장하기 위한 제5 모스 트랜지스터와, 상기 제1 워드라인으로 부터의 신호에 따라 상기 제1 보수의 비트라인으로 부터의 데이타를 상기 제2 모스 트랜� �스터에 저장하기 위한 제6 모스 트랜지스터와, 제2 워드라인으로 부터의 신호에 따라 제2 진위의 비트라인으로 부터의 데이타로 상기 제1 모스 트랜지스터에 저장된 데이타를 리프레쉬하는 제7 모스 트랜지스터와, 상기 제2 워드라인으로 부터의 신호에 따라 제2 보수의 비트라인으로 부터의 데이타로 상기 제2 모스 트랜지스터에 저장된 데이타를 리프레쉬하는 제8 모스 트랜지스터를 구비한다.
    • 57. 发明公开
    • 2 포트 SRAM 구조물
    • 2端口SRAM结构
    • KR1020170090986A
    • 2017-08-08
    • KR1020160136545
    • 2016-10-20
    • 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드
    • 리우존쟈이
    • H01L27/11G11C11/417
    • H01L27/1104G11C8/16G11C11/419H01L23/528H01L27/1116
    • 집적회로구조물은스태틱랜덤액세스메모리(SRAM) 셀을포함하고, 상기 SRAM 셀은판독포트및 기록포트를포함한다. 기록포트는제 1 풀업금속산화물반도체(MOS) 디바이스및 제 2 풀업 MOS 디바이스, 및상기제 1 풀업 MOS 디바이스및 상기제 2 풀업 MOS 디바이스와교차래치된인버터를형성하는제 1 풀다운 MOS 디바이스및 제 2 풀다운 MOS 디바이스를포함한다. 집적회로구조물은제 1 금속층 - 상기제 1 금속층내에비트라인, CVdd 라인, 및제 1 CVss 라인이있음 - , 제 1 금속층위의제 2 금속층, 및제 2 금속층위의제 3 금속층을더 포함한다. 기록워드라인이제 2 금속층에있다. 판독워드라인이제 3 금속층에있다.
    • 集成电路结构包括静态随机存取存储器(SRAM)单元,其中SRAM单元包括读取端口和写入端口。 写端口包括第一上拉金属氧化物半导体(MOS)器件和第二上拉MOS器件以及形成与第一上拉MOS器件和第二上拉MOS器件交叉锁存的反相器的第一下拉MOS器件, 下拉MOS器件。 集成电路结构还包括第一金属层中的第一金属层,位线,CVdd线和第一CVss线,第一金属层上的第二金属层以及第二金属层上的第三金属层。 写字线现在在两个金属层中。 读字线现在在三层金属层中。
    • 59. 发明公开
    • 듀얼 포트 SRAM 셀
    • 双端口SRAM单元
    • KR1020170045716A
    • 2017-04-27
    • KR1020160129683
    • 2016-10-07
    • 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드
    • 리아우존자이
    • G11C11/417H01L27/11
    • G11C11/412G11C8/16G11C11/417
    • SRAM 셀은, 상보성인제 1 및제 2 데이터저장노드를확립하기위해서로교차결합되는제 1 및제 2 인버터를포함한다. 제 1 액세스트랜지스터가, 제 1 데이터저장노드에결합된제 1 소스/드레인영역, 제 1 비트라인에결합된제 1 드레인/소스영역, 및워드라인에결합된제 1 게이트영역을포함한다. 제 2 액세스트랜지스터가, 제 2 상보성데이터저장노드에결합된제 2 소스/드레인영역, 제 2 비트라인에결합된제 2 드레인/소스영역, 및워드라인에결합된제 2 게이트영역을포함한다. 제 1 더미트랜지스터가, 제 1 액세스트랜지스터의제 1 소스/드레인영역에결합된제 1 더미소스/드레인영역을갖는다. 제 2 더미트랜지스터가제 2 액세스트랜지스터의제 2 소스/드레인영역에결합된제 2 더미소스/드레인영역을갖는다.
    • SRAM单元包括交叉耦合到互补的第一和第二数据存储节点中的第一和第二反相器。 第一存取晶体管包括耦合到第一数据存储节点的第一源极/漏极区域,耦合到第一位线的第一漏极/源极区域以及耦合到字线的第一栅极区域。 第二存取晶体管包括耦合到第二互补数据存储节点的第二源极/漏极区域,耦合到第二位线的第二漏极/源极区域和耦合到字线的第二栅极区域。 第一虚拟晶体管具有耦合到第一存取晶体管的第一源极/漏极区的第一虚拟源极/漏极区。 并且第二虚拟晶体管具有耦合到第二存取晶体管的第二源极/漏极区的第二虚拟源极/漏极区。