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51. 发明授权

KR101262872B1 리플렉터 제작 방법 失效
标题翻译：制造反射器的方法
公开(公告)号：KR101262872B1
公开(公告)日：2013-05-09
申请号：KR1020120039648
申请日：2012-04-17
申请人： 주식회사 알토 , (주)알텍테크놀로지스
发明人： 허승효 , 허윤수
IPC分类号： F21V7/22
CPC分类号： F21V7/22 , B29C2045/0079 , C23C14/022 , C23C14/20
摘要： PURPOSE: A method for manufacturing a reflector is provided to simplify a process for preventing glariness and for improving reflectivity, and to reduce manufacturing costs. CONSTITUTION: A plastic injection material is injected from a mold(S21). An ultrasonic cleaning process is performed on the surface of the plastic injection material to remove a foreign substance of less than 10 micrometer(S22). A plasma process is performed on the surface of the plastic injection material to remove a foreign substance of less than 1 micrometer(S23). An aluminum thin film is deposited on the surface of the plastic injection material(S24). An UV coating process is performed on the surface of the plastic injection material(S25). [Reference numerals] (AA) Start; (BB) End; (S21) Plastic injection material manufacturing; (S22) Ultrasonic cleaning; (S23) Plasma surface treatment; (S24) Aluminum deposition; (S25) UV coating
摘要翻译：目的：提供一种制造反射器的方法，以简化防止光泽和提高反射率的过程，并降低制造成本。构成：从模具注入塑料注射材料（S21）。在塑料注射材料的表面上进行超声波清洗处理以去除小于10微米的异物（S22）。在塑料注射材料的表面上进行等离子体处理以除去小于1微米的异物（S23）。在塑料注射材料的表面上沉积铝薄膜（S24）。在塑料注射材料的表面上进行UV涂覆处理（S25）。（附图标记）（AA）开始; （BB）结束; （S21）注塑材料制造; （S22）超声波清洗; （S23）等离子体表面处理; （S24）铝沉积; （S25）UV涂层

52. 发明授权

KR101192099B1 ＦＥＯＬ 제조를 위한 인시튜 세정 챔버 有权
公开(公告)号：KR101192099B1
公开(公告)日：2012-10-17
申请号：KR1020110090787
申请日：2011-09-07
申请人： 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
发明人： 치엔테흐,카오 , 치우킨,스티브라이 , 요엘엠.,휴스톤 , 메이,창 , 유,창 , 위더블유.,왕 , 징페이,콘니초우 , 살,우모토이 , 손,트린흐 , 쟈오지옹,잔유안 , 징리앙,루 , 씨잉,판
IPC分类号： H01L21/205
CPC分类号： H01L21/02104 , C23C14/022 , C23C14/50 , C23C14/541 , H01J37/32082 , H01J37/32357 , H01J37/3244 , H01J37/32522 , H01J37/32541 , H01J37/32568 , H01J37/32862 , H01J2237/2001 , H01L21/67069 , H01L21/67109 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要： 본 발명은 기판 표면으로부터 자연 산화물을 제거하는 방법 및 장치에 관한 것이다. 본 발명의 일 양상에서, 챔버는 챔버 몸체부, 및 챔버 몸체부에 적어도 일부에 배치되고 기판을 지지하는데 적용되는 지지 어셈블리를 포함한다. 지지 어셈블리는 내부에 적어도 부분적으로 형성되고 기판을 냉각시킬 수 있는 하나 이상의 유체 채널을 포함한다. 채널은 챔버 몸체부의 상부면에 배치된 리드 어셈블리를 더 포함한다. 리드 어셈블리는 제 1 전극 및 제 2 전극을 포함하며, 이들 두 전극 사이에 플라즈마 캐비티가 한정되며, 제 2 전극은 기판과 접속하여 가열하도록 적용된다.

53. 发明公开

KR1020120068982A 수소-함유 라디칼을 이용한 자연 산화물 세정 有权
标题翻译：含氢含量的氧化物清洗
公开(公告)号：KR1020120068982A
公开(公告)日：2012-06-27
申请号：KR1020127012438
申请日：2004-02-12
申请人： 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
发明人： 우드,빙시,선 , 가와구치,마크,엔. , 파파뉴,제임스,에스. , 모셀리,로더릭,씨. , 라이,치우쿤,스티븐 , 카오,치엔-테흐 , 알,후아 , 왕,웨이,더블유.
IPC分类号： H01L21/302
CPC分类号： H01L21/67069 , C23C14/022 , H01J37/32357 , H01J37/3244 , H01J37/32871 , H01J37/34 , H01L21/02046 , H01L21/02063 , H01L21/31116 , H01L21/32136 , H01L21/67028 , H01L21/76814 , H01L21/76838
摘要： 기판 세정 장치는 이온의 수소-함유 종 대 라디칼의 수소-함유 종의 제 1 비율을 가지는 에너지화된 가스를 형성하기 위해 수소-함유 가스를 원격적으로 에너지화시키는 원격 소스를 포함한다. 상기 장치는 기판 지지체를 갖는 프로세스 챔버, 제 1 비율과 상이한 이온의 수소-함유 종 대 라디칼의 수소-함유 종의 제 2 비율을 가지는 필터링되고 에너지화된 가스를 형성하기 위해 원격적으로 에너지화된 가스를 필터링하는 이온 필터, 및 상기 챔버 속으로 필터링되고 에너지화된 가스를 주입하는 가스 주입기를 포함한다.

54. 发明授权

KR101127294B1 수소-함유 라디칼을 이용한 자연 산화물 세정 有权
标题翻译：使用含氢自由基的天然氧化物清洁
公开(公告)号：KR101127294B1
公开(公告)日：2012-03-30
申请号：KR1020057014932
申请日：2004-02-12
申请人： 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
发明人： 우드,빙시,선 , 가와구치,마크,엔. , 파파뉴,제임스,에스. , 모셀리,로더릭,씨. , 라이,치우쿤,스티븐 , 카오,치엔-테흐 , 알,후아 , 왕,웨이,더블유.
IPC分类号： H01L21/306 , H01L21/302 , H01L21/311 , H01L21/00
CPC分类号： H01L21/67069 , C23C14/022 , H01J37/32357 , H01J37/3244 , H01J37/32871 , H01J37/34 , H01L21/02046 , H01L21/02063 , H01L21/31116 , H01L21/32136 , H01L21/67028 , H01L21/76814 , H01L21/76838
摘要： 기판 세정 장치는 이온의 수소-함유 종 대 라디칼의 수소-함유 종의 제 1 비율을 가지는 에너지 공급된 가스를 형성하기 위해 수소-함유 가스를 원격적으로 에너지 공급하는 원격 소스를 포함한다. 상기 장치는 기판 지지체를 갖는 프로세스 챔버, 제 1 비율과 상이한 이온의 수소-함유 종 대 라디칼의 수소-함유 종의 제 2 비율을 가지는 필터링되고 에너지 공급된 가스를 형성하기 위해 원격적으로 에너지 공급된 가스를 필터링하는 이온 필터, 및 상기 챔버 속으로 필터링되고 에너지 공급된 가스를 주입하는 가스 주입기를 포함한다.
摘要翻译：该基板清洁设备包括远程源，该远程源远程激励含氢气体以形成具有第一比率的离子的含氢物质与该基团的含氢物质的第一比例的激励气体。该设备包括具有衬底支撑件的处理室，具有衬底支撑件的处理室，远程通电以形成具有不同离子的含氢物种与含氢物质的第二比率的经过滤的通电气体，用于过滤气体的离子过滤器和用于将能量供给的气体注入腔室的气体注射器。

55. 发明授权

KR100909905B1 코팅된 물체 有权
标题翻译：涂层物体
公开(公告)号：KR100909905B1
公开(公告)日：2009-07-30
申请号：KR1020077018171
申请日：2003-09-13
申请人： 쇼오트 아게
发明人： 묄레크리스토프 , 베비크라르스 , 코페프랑크 , 퀴퍼토마스 , 가이슬러슈테판 , 바우어슈테판 , 치크위르겐
IPC分类号： C03C17/34 , C03C17/36 , C23C14/00 , C23C16/00
CPC分类号： G02B5/285 , C03C17/3417 , C03C2217/734 , C03C2218/156 , C03C2218/322 , C23C14/0078 , C23C14/022 , C23C14/34 , C23C14/56 , C23C28/042 , C23C28/42 , G02B1/105 , G02B1/14 , Y10T428/12576 , Y10T428/12611
摘要： 본 발명은, 350℃를 상회하는 작업 온도에서도 코팅층이 일정하고 변성되지 않으며 품질이 우수한 코팅된 물체에 관한 것이다. 코팅층의 형태는 중간층에 의하여 의도적으로 차단되어 코팅층의 형태가 안정화된다.
코팅된 물체, 기능층, 중간층, 부분층, 굴절률, 광학 부재
摘要翻译：本发明涉及一种即使在350℃以上的工作温度下也具有恒定且未改性的均匀涂层的涂层物体。涂层的形状有意地被中间层阻挡，使得涂层的形状稳定。

56. 发明授权

KR100890258B1 코팅된 물체 有权
标题翻译：涂层物体
公开(公告)号：KR100890258B1
公开(公告)日：2009-03-24
申请号：KR1020057004377
申请日：2003-09-13
申请人： 쇼오트 아게
发明人： 묄레크리스토프 , 베비크라르스 , 코페프랑크 , 퀴퍼토마스 , 가이슬러슈테판 , 바우어슈테판 , 치크위르겐
IPC分类号： C03C17/34 , C03C17/36 , C23C14/00 , C23C16/00
CPC分类号： G02B5/285 , C03C17/3417 , C03C2217/734 , C03C2218/156 , C03C2218/322 , C23C14/0078 , C23C14/022 , C23C14/34 , C23C14/56 , C23C28/042 , C23C28/42 , G02B1/105 , G02B1/14 , Y10T428/12576 , Y10T428/12611
摘要： 본 발명은, 350℃를 상회하는 작업 온도에서도 코팅층이 일정하고 변성되지 않으며 품질이 우수한 코팅된 물체에 관한 것이다. 코팅층의 형태는 중간층에 의하여 의도적으로 차단되어 코팅층의 형태가 안정화된다.
코팅된 물체, 기능층, 중간층, 부분층, 굴절률, 광학 부재

57. 发明公开

KR1020080111424A ＲＦ 전극 有权
标题翻译：射频电极
公开(公告)号：KR1020080111424A
公开(公告)日：2008-12-23
申请号：KR1020080113999
申请日：2008-11-17
申请人： 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
发明人： 치엔테흐,카오 , 치우킨,스티브라이 , 요엘엠.,휴스톤 , 메이,창 , 유,창 , 위더블유.,왕 , 징페이,콘니초우 , 살,우모토이 , 손,트린흐 , 쟈오지옹,잔유안 , 징리앙,루 , 씨-잉,판
IPC分类号： H05H1/34 , H01L21/205
CPC分类号： H01L21/02104 , C23C14/022 , C23C14/50 , C23C14/541 , H01J37/32082 , H01J37/32357 , H01J37/3244 , H01J37/32522 , H01J37/32541 , H01J37/32568 , H01J37/32862 , H01J2237/2001 , H01L21/67069 , H01L21/67109 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要： An RF(Radio Frequency) electrode used in insitu dry cleaning method using CVD(Chemical Vapor Deposition) system is provided to improve an electric property of a semiconductor device by preventing a generation of a natural oxide film on a substrate. An RF(Radio Frequency) electrode used in insitu dry cleaning method using CVD(Chemical Vapor Deposition) system includes a Ni plating body(112) having a gas injection entrance. The body includes an upper part and an extension part. The upper part includes a lower disk surface, an upper disk surface, and an external disk diameter. The extension part is extended from the lower disk surface to a lower body surface, and includes an external body diameter having a diameter smaller than the external disk diameter and a cone type internal diameter wall extending from the lower disk surface to the extension part. The internal diameter wall is taped forward the upper part. The gas injection entrance is opened in a cavity defined by the internal diameter wall.
摘要翻译：提供了使用CVD（化学气相沉积）系统的基础干法清洗方法中使用的RF（射频）电极，以通过防止在基板上产生自然氧化膜来改善半导体器件的电性能。使用CVD（化学气相沉积）系统的本体干洗方法中使用的RF（射频）电极包括具有气体注入口的Ni电镀体（112）。主体包括上部和延伸部。上部包括下盘表面，上盘表面和外盘直径。延伸部分从下盘表面延伸到下体表面，并且包括具有小于外盘直径的直径的外体直径和从下盘表面延伸到延伸部的锥形内径壁。内径壁向上粘贴在上部。气体注入口在由内径壁限定的空腔中打开。

58. 发明授权

KR100856451B1 소재의 플라즈마 세정장치 및 방법 有权
标题翻译：等离子清洁剂的工作方法和装置
公开(公告)号：KR100856451B1
公开(公告)日：2008-09-04
申请号：KR1020027011906
申请日：2001-04-23
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 리우리안준
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： H01L21/02046 , B08B7/00 , C23C14/022 , C23C16/0245 , H01J37/321 , H01J37/32733 , H01L21/67028 , H01L21/67069
摘要： A method and apparatus for plasma cleaning a workpiece (W) in a plasma-cleaning chamber (20) having an interior region (30). The method comprises the steps of first, loading the workpiece into the plasma cleaning chamber interior region. The next step is pumping down the plasma cleaning chamber interior region down to a pre-determined pressure, with hydrogen as the ambient gas. The next step is forming from the hydrogen gas a plasma (36) having an ion density in the range between 10 and 10 cm and an ion energy lower than 30 eV The last step is exposing the workpiece to the plasma for a predetermined time. The apparatus of the present invention preferably includes first and second vacuum processing chambers (20 and 120), wherein the first chamber performs the plasma cleaning of the workpiece according to the method of the invention, and the second chamber performs an additional process step, e.g., depositing a metal.

59. 发明公开

KR1020070114712A 고반사경과 그 제조 방법 无效
标题翻译：高反射镜及其制造方法
公开(公告)号：KR1020070114712A
公开(公告)日：2007-12-04
申请号：KR1020077017284
申请日：2006-02-02
申请人： 아사히 가라스 가부시키가이샤
发明人： 모리모토다모츠 , 신나오코 , 가와사키마사토 , 미야자와히데아키
IPC分类号： G02B5/08 , G02B1/10
CPC分类号： G02B5/0808 , C23C14/022 , C23C14/024 , C23C14/0605 , C23C14/083 , C23C28/321 , C23C28/322 , C23C28/34 , C23C28/345 , C23C28/3455 , F21V7/22 , G02B1/105 , G02B1/14 , G02B5/0866 , G02F1/133605
摘要： A high reflection mirror that exhibits high reflectance in visible light region and that has moisture resistance, in particular, being capable of retaining high reflectance and high resistance to hydrogen sulfide even after exposure to high-temperature and high-humidity conditions. There is provided a high reflection mirror comprising a substrate and, superimposed thereon, a silver film, characterized in that the topmost surface of the high reflection mirror is furnished with a protective film, the protective film having an extinction coefficient of
摘要翻译：在可见光区域呈现高反射率且具有耐湿性的高反射镜，特别是即使在暴露于高温高湿条件之后也能够保持高反射率和高耐硫化氢性。提供了一种高反射镜，其包括基板并叠加在其上的银膜，其特征在于，高反射镜的最上表面配备有保护膜，该保护膜具有<= 0.1的消光系数并且包括的碳膜。优选在其基板侧的银膜配备有基础膜。基底膜优选由氧化钛膜构成，氧化钛膜优选由缺氧靶形成。

60. 发明公开

KR1020070087259A 코팅된 물체 有权
标题翻译：涂层物体
公开(公告)号：KR1020070087259A
公开(公告)日：2007-08-27
申请号：KR1020077018171
申请日：2003-09-13
申请人： 쇼오트 아게
发明人： 묄레크리스토프 , 베비크라르스 , 코페프랑크 , 퀴퍼토마스 , 가이슬러슈테판 , 바우어슈테판 , 치크위르겐
IPC分类号： C03C17/34 , C03C17/36 , C23C14/00 , C23C16/00
CPC分类号： G02B5/285 , C03C17/3417 , C03C2217/734 , C03C2218/156 , C03C2218/322 , C23C14/0078 , C23C14/022 , C23C14/34 , C23C14/56 , C23C28/042 , C23C28/42 , G02B1/105 , G02B1/14 , Y10T428/12576 , Y10T428/12611
摘要： The invention relates to a coated object whereon coatings remain constant and unmodified and have a superior quality despite operational temperatures of more than 350 °C. The morphology of the coating is interrupted in a specific manner and stabilisation occurs by means of intermediate layers.
摘要翻译：本发明涉及涂层物体，其中涂层保持恒定和未改性，并且尽管操作温度高于350℃，但其具有优异的品质。涂层的形态以特定方式中断，并通过中间层进行稳定化。

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