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1. 发明公开

KR1020030007457A 소재의 플라즈마 세정장치 및 방법 有权
标题翻译： 소재의플라즈마세정장치및방법
公开(公告)号：KR1020030007457A
公开(公告)日：2003-01-23
申请号：KR1020027011906
申请日：2001-04-23
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 리우리안준
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： H01L21/02046 , B08B7/00 , C23C14/022 , C23C16/0245 , H01J37/321 , H01J37/32733 , H01L21/67028 , H01L21/67069
摘要： 내부영역(30)을 가지는 플라즈마세정 챔버(20)에서 소재를 플라즈마세정하는 방법 및 장치에 관한 것이다. 그 방법은, 플라즈마 세정챔버 내부 영역으로 소재를 적재하는 제 1 단계를 포함하여 구성된다. 다음 단계는, 주변 기체를 수소로 하여 플라즈마 세정챔버 내부영역을 소정의 압력까지 펌핑하여 내리는 단계이다. 그 다음 단계는, 10
10 내지 10
13 ㎝
-3 의 범위, 바람직하게는 10
12 ㎝
-3 이상인 이온 밀도와, 30eV 미만, 바람직하게는 10 내지 15eV의 범위인 이온 에너지를 가지는 플라즈마(36)를 수소가스로부터 형성하는 단계이다. 마지막 단계는 소정의 시간동안 소재를 플라즈마에 노출하는 단계이다. 본 발명의 장치는, 바람직하게는 제 1 및 제 2 진공처리챔버(20 및 120)을 포함하며, 제 1 챔버는 본 발명의 방법에 따라 소재의 플라즈마세정을 실행하며, 제 2 챔버는, 예를 들면 금속을 증착하는 등 추가적인 처리단계를 실행한다.
摘要翻译：一种用于在具有内部区域（30）的等离子体清洁室（20）中等离子体清洁工件（W）的方法和设备。该方法包括以下步骤：首先将工件装载到等离子体清洁腔室内部区域中。下一步是将等离子体清洁室内部区域向下泵送至预定压力，氢气作为环境气体。接下来的步骤是从氢气形成具有在10 10至10 13 cm -3范围内的离子密度和低于30 eV的离子能量的等离子体（36）。最后一步将工件暴露于等离子体预定时间。本发明的设备优选包括第一和第二真空处理室（20和120），其中第一室根据本发明的方法执行工件的等离子体清洁，并且第二室执行另外的处理步骤，例如，存放金属。

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