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31. 发明公开

KR1020130139251A 웨이퍼 스택에 있는 결함 및 층 두께를 측정하기 위한 측정 장치 및 측정 방법 无效
标题翻译：用于测量层厚度的测量装置和方法以及WAFER STCAK中的缺陷
公开(公告)号：KR1020130139251A
公开(公告)日：2013-12-20
申请号：KR1020137008189
申请日：2010-11-12
申请人： 에베 그룹 에. 탈너 게엠베하
发明人： 빔플링거,마르쿠스
IPC分类号： G01N29/04 , G01N29/265 , G01N29/27 , G01N21/95 , H01L21/66 , G01B7/06
CPC分类号： H01L22/20 , G01B7/06 , G01B11/0625 , G01B17/02 , G01B17/025 , G01N21/9501 , G01N21/9505 , G01N29/043 , G01N29/265 , G01N29/27 , G01N29/275 , G01N2291/0231 , G01N2291/02854 , G01N2291/0289 , G01N2291/044 , G01N2291/2697 , H01L21/67253 , H01L21/67288 , H01L22/12
摘要： 본 발명은 웨이퍼 스택 위에 분포된 복수의 측정점들에서 웨이퍼 스택의 하나 또는 그 이상의 층의 결함 및/또는 층 두께를 탐지하거나 및/또는 측정하기 위한 측정 장치 및 방법, 그리고 이에 상응하는 웨이퍼 처리 장치에 관한 것이다.

32. 发明授权

KR101316255B1 증기 발생기 매핑 시스템 有权
标题翻译：蒸汽发生器映射系统
公开(公告)号：KR101316255B1
公开(公告)日：2013-10-08
申请号：KR1020087031417
申请日：2007-06-04
申请人： 아레바 인코포레이티드
发明人： 와이어트조셉알 , 그리피스존캐롤 , 뉴만빅토르 , 플렉제프레이엠
IPC分类号： G01B7/06 , G06F17/00 , G21C17/032 , G21C19/20
CPC分类号： G01B7/06 , G01B7/105 , G01B21/042 , G01N17/008
摘要： 2 이상의 침전 물질 링들을 갖는 캘리브레이션 표준을 생성하는 단계와, 에디 전류 신호에 캘리브레이션 표준을 적용시키는 단계 - 캘리브레이션 표준으로부터의 반사된 신호의 진폭은 링들의 실제 두께에 대한 반사된 에디 전류 신호들의 다항식 피트를 구하는데 이용됨 - 와, 배관들을 가진 증기 발생기를 구하는 단계와, 증기 발생기의 배관들 내에 에디 전류 신호를 전달하는 단계와, 증기 발생기의 배관들 내에 전달된 에디 전류 신호의 반사성을 검출하고 기록하는 단계와, 다항식을 이용하여 에디 전류 신호의 기록된 반사성들로부터 증기 발생기에서의 침전물들의 두께를 판단하는 단계를 포함하는 증기 발생기에서의 침전물 판단 방법이 개시된다.

33. 发明公开

KR1020090024072A 연마 완료 시점의 예측 방법과 그 장치 有权
标题翻译：用于预测抛光端点的方法和装置
公开(公告)号：KR1020090024072A
公开(公告)日：2009-03-06
申请号：KR1020080083970
申请日：2008-08-27
申请人： 가부시키가이샤 토쿄 세이미쯔
发明人： 후지타타카시
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： G01B7/06 , B24B37/013 , B24B49/105
摘要： A method and device for forecasting the polishing end point is provided to perform the polishing for the polishing time which is calculated after detecting the critical change and to polish the conductive film. The polishing device(1) is comprised of the platen(2) and polishing head(3). The axis of rotation(4) is connected to the center of lower face of platen. The polishing pad(6) is adhered in the upper side of platen. The device(33) for forecasting the polishing end point is formed on the top of platen. The slip ring(32) outputs the detection signal of the critical change from the device for forecasting the polishing end point to outside. The inductor(36) is comprised of the meander type.
摘要翻译：提供了一种用于预测抛光终点的方法和装置，用于对在检测到临界变化后计算的抛光时间进行抛光，并抛光导电膜。抛光装置（1）由压板（2）和抛光头（3）构成。旋转轴（4）连接到压板下表面的中心。抛光垫（6）粘附在台板的上侧。用于预测抛光终点的装置（33）形成在压板的顶部。滑环（32）将用于预测抛光终点的装置的临界变化的检测信号输出到外部。电感器（36）由曲折型构成。

34. 发明公开

KR1020080079050A 시편 두께측정장치 및 이를 갖는 시편 그라인딩 설비,시편의 그라인딩방법 无效
标题翻译：用于测量样品厚度的装置和具有该样品的样品研磨装置和研磨样品的方法
公开(公告)号：KR1020080079050A
公开(公告)日：2008-08-29
申请号：KR1020070019084
申请日：2007-02-26
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 박복경 , 김승범
IPC分类号： G01B21/08 , B24B1/00
CPC分类号： G01B17/02 , B24B1/00 , G01B7/06 , G01B11/0616
摘要： An apparatus for measuring thickness of a sample, sample grinding equipment therewith and a grinding method of the sample are provided to reduce the time for a grinding process by grinding the sample until the sample has a predetermined thickness. Sample grinding equipment with an apparatus for measuring thickness of a sample(91) includes a hole(110), a holder(100), a mount(90), a wheel(200), and a thickness measurement unit(400). The holder has the hole in center thereof and an elastic member(120). The mount is inserted in the hole, is supported by the elastic member, and mounts the sample thereon. The wheel is arranged below the mount and grinds the sample. The thickness measurement unit includes a first sensor(410), a motor(220), and a controller(440). The first sensor measures the thickness of the sample. The motor is connected to the wheel and provides the wheel with torque. The controller is electrically connected to the first sensor and the motor, determines a reference thickness of the sample, and controls the motor for realizing the reference thickness of the sample.
摘要翻译：提供了用于测量样品厚度的装置，其中的样品研磨设备和样品的研磨方法，以通过研磨样品来减少研磨过程的时间，直到样品具有预定厚度。具有用于测量样品（91）的厚度的装置的样品研磨设备包括孔（110），保持器（100），安装件（90），轮（200）和厚度测量单元（400）。保持器在其中心具有孔和弹性构件（120）。安装件插入孔中，由弹性构件支撑，并将样品安装在其上。车轮布置在安装座下面并研磨样品。厚度测量单元包括第一传感器（410），电机（220）和控制器（440）。第一个传感器测量样品的厚度。电机连接到车轮上，为车轮提供扭矩。控制器电连接到第一传感器和电动机，确定样品的参考厚度，并控制电动机以实现样品的参考厚度。

35. 发明公开

KR1020060007020A 유전체 두께 결정 방법 및 장치와 전기 소자 제조 방법 无效
标题翻译：用于确定介质层厚度的方法和装置
公开(公告)号：KR1020060007020A
公开(公告)日：2006-01-23
申请号：KR1020057019552
申请日：2004-04-14
申请人： 엔엑스피 비 브이
发明人： 마즈히프라샨트
IPC分类号： H01L21/66
CPC分类号： G01B7/06
摘要： The method for determining the thickness of a dielectric layer according to the invention comprises the step of providing an electrically conductive body (11) having a dielectric layer (13) which is separated from the electrically conductive body (11) by at least a further dielectric layer (3) and a surface (15) of which is exposed. Onto the exposed surface (15) an electric charge is deposited, thereby inducing an electric potential difference between the exposed surface (15) and the electrically conductive body (11). An electrical parameter relating to the electric potential difference is determined and a measurement is performed to obtain additional measurement data relating to the thickness of the dielectric layer (13) and/or to the thickness of the further dielectric layer (3). In this way the thickness of the dielectric layer (13) and/or of the further dielectric layer (3) is determined. The method of manufacturing an electric device (100) comprises this method for determining the thickness of a dielectric layer. The apparatus (10) for determining the thickness of a dielectric layer is arranged to execute this method.
摘要翻译：根据本发明的用于确定电介质层的厚度的方法包括提供具有电介质层（13）的导电体（11）的步骤，所述电介质层通过至少另外的电介质（13）与导电体（11）分离，层（3）和其表面（15）暴露。在暴露表面（15）上沉积电荷，从而在暴露表面（15）和导电体（11）之间产生电位差。确定与电位差有关的电参数，并进行测量以获得与介电层（13）的厚度和/或另外的电介质层（3）的厚度有关的附加测量数据。以这种方式确定电介质层（13）和/或另外的电介质层（3）的厚度。制造电气设备（100）的方法包括用于确定电介质层的厚度的方法。用于确定电介质层的厚度的装置（10）被布置成执行该方法。

36. 发明授权

KR100209042B1 막 두께 변화를 인-시투 모니터링하는 장치 및 방법 失效
标题翻译：现场监测薄膜厚度变化
公开(公告)号：KR100209042B1
公开(公告)日：1999-07-15
申请号：KR1019960010746
申请日：1996-04-10
申请人： 인터내셔널 비지네스 머신즈 코포레이션
发明人： 레핑리 , 스티븐조지바비 , 아놀드핼페린 , 토니프레드릭헤인즈
IPC分类号： H01L21/66
CPC分类号： G01B7/06 , G01B7/10
摘要： 반도체 기판과 같은 하부 본체상의 막 두께 변화는 막내에 전류를 유도하므로써 인-시투 모니터되며, 막 두께가 변할 때(증가 또는 감소), 전류 변화가 검출된다. 도전막으로 인해, 에디 전류는 캐패시터 및 인덕터를 포함하는 센서를 이용하여 교번 전자계를 발생하므로써 막내에 유도된다.

37. 发明授权

KR1019950000785B1 각도검출장치 失效
标题翻译：角度检测装置
公开(公告)号：KR1019950000785B1
公开(公告)日：1995-02-02
申请号：KR1019910006396
申请日：1991-04-22
申请人： 미쓰비시덴키 가부시키가이샤
发明人： 무라다시게미 , 이께우찌마사유끼
IPC分类号： G01B7/30
CPC分类号： G01B7/06
摘要： 내용 없음.

38. 发明公开

KR20180043657A 액막 두께 측정 기판, 액막 두께 측정 장치 및 액막 두께 측정 방법 有权
公开(公告)号：KR20180043657A
公开(公告)日：2018-04-30
申请号：KR20160136645
申请日：2016-10-20
申请人： 서울대학교산학협력단 , 한국원자력연구원
发明人： LEE KYU BYOUNG , CHO HYOUNG KYU , EUH DONG JIN , KIM JONG ROK
IPC分类号： G01B7/06 , G01R1/04 , G01R19/10
CPC分类号： G01B7/06 , G01R1/0416 , G01R19/10
摘要： 본발명은액막두께측정기판, 액막두께측정장치및 액막두께측정방법으로서, 본발명의일 실시예에따른액막두께측정기판은, 액막(50)의두께를측정하기위한액막두께측정기판으로서, 기재(101) 상에인가용전극인제1 전극(110)과, 측정용전극인제2 전극(160) 및제3 전극(170)이형성되고, 제1 전극(110)은원 형상을가지며, 제2 전극(160)은제1 전극(110)과동심(同心)이고제1 전극(110)의반경보다큰 반경을가지는링(Ring) 형상으로, 제1 전극(110)과이격배치되고, 제3 전극(170)은제1 전극(110)과동심(同心)이고제2 전극(160)의반경보다큰 반경을가지는링(Ring) 형상으로, 제2 전극(160)과이격배치되는것을특징으로한다.

39. 发明公开

KR1020160107530A 변위 검출 장치 및 방법 有权
标题翻译：位移检测装置和方法
公开(公告)号：KR1020160107530A
公开(公告)日：2016-09-19
申请号：KR1020150030386
申请日：2015-03-04
申请人： 알엠에스테크놀러지(주)
发明人： 이홍기
IPC分类号： G01B7/00 , G01B7/16 , G01B7/02 , G01B7/06
CPC分类号： G01B7/16 , G01B7/023 , G01B7/06
摘要： 본발명은변위검출장치및 방법에관한것으로, 보다상세하게는, 와전류(Eddy Current) 방식의센서를이용하여임피던스변화를내장회로에의해주파수변화로변환하여검출하는변위검출장치및 방법에관한것이다. 본발명에따른변위검출장치및 방법은, 환경노이즈에도강하고, 변위검출의정밀도를확보하므로사용자가원하는요구성능에부합하는제품을제공할수 있으며, 아날로그신호보정시부담되는비용도절감되므로경제성을확보하는데도효과가있다.
摘要翻译：位移检测装置和方法技术领域本发明涉及一种位移检测装置和方法，更具体地涉及一种位移检测装置和方法，其中通过具有传感器的嵌入式电路转换为频率变化来检测阻抗的变化，所述传感器具有涡流法。根据本发明，位移检测装置和方法对于环境噪声是强大的，并且可以确保位移检测的精度，以提供适合用户想要的所需性能的产品。此外，当校正模拟信号时，可以降低费用以确保经济可行性。

40. 发明公开

KR1020160053615A 코팅 두께 측정 장치 및 방법 有权
标题翻译：用于涂层厚度测量的设备及其方法
公开(公告)号：KR1020160053615A
公开(公告)日：2016-05-13
申请号：KR1020140152909
申请日：2014-11-05
申请人： 한국표준과학연구원
发明人： 김영주 , 윤동진
IPC分类号： G01B7/06 , G01N27/02
CPC分类号： G01B7/06 , G01N27/00 , G01N27/02
摘要： 코팅두께측정장치및 방법이개시된다. 상기코팅두께측정장치는금속체의코팅층상부와접촉하며외부로부터전력을공급받는제1전극과, 상기제1전극과일정간격이격되어상기코팅층상부와접촉하는제2전극을포함하는센서전극; 및상기제2전극에흐르는전류를측정하는전류센서; 및상기전류센서에서측정한전류값을이용하여상기코팅층의두께를산출하는 MCU를포함한다.
摘要翻译：公开了一种用于测量涂层厚度的装置和方法，其可以精确地测量涂层的厚度，而不管基材的种类如何。用于测量涂层厚度的装置包括：传感器电极，包括与金属体的涂层的上部接触并从外部接收电力的第一电极和以预定间隔隔开的第二电极所述第一电极与所述涂层的上部接触; 测量在所述第二电极中流动的电流的电流传感器; 以及使用由电流传感器测量的电流值来计算涂层的厚度的MCU。

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