专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

11. 发明公开

KR1020010061607A 반도체 장비 세정 장치 및 방법 有权
标题翻译：装置和清洁半导体设备的方法
公开(公告)号：KR1020010061607A
公开(公告)日：2001-07-07
申请号：KR1019990064103
申请日：1999-12-28
申请人： 주식회사 케이씨
发明人： 윤철남
IPC分类号： H01L21/00
摘要： PURPOSE: An apparatus and a method of cleaning a semiconductor equipment are to form a cleaning medium with a composite particle and to decrease the natural evaporation of a liquified nitrogen. CONSTITUTION: A cleaning chamber(1) comprises an infrared lamp(11) and a filter(13). Particles of an ultra pure water are generated by an ultrasonic wave generator. The particle of the ultra pure water, carbon dioxide and cold nitrogen are mixed. A solidified cleaning medium is injected through an injection nozzle(17). Cleaning process is effected by the cleaning medium which is impacted with an object to be cleaned. Factor to determine the ability of the cleaning comprises a size of the particle to be solidified. A heater(5) heats a substrate(3) to a predetermined temperature. By this heating, pollutants are not adhered to the object to be cleaned. By a flow regulator(35,37), the discharge amount of the nitrogen and the carbon dioxide is controlled.
摘要翻译：目的：清洁半导体设备的装置和方法是形成具有复合颗粒的清洁介质，并减少液化氮的自然蒸发。构成：清洁室（1）包括红外灯（11）和过滤器（13）。超纯水的颗粒由超声波发生器产生。混合超纯水，二氧化碳和冷氮的颗粒。固化的清洁介质通过注射喷嘴（17）注入。清洁过程由与待清洁物体冲击的清洁介质进行。确定清洁能力的因素包括要固化的颗粒的尺寸。加热器（5）将基板（3）加热到预定温度。通过这种加热，污染物质不会粘附到要清洁的物体上。通过流量调节器（35,37），控制氮气和二氧化碳的排放量。

12. 实用新型

KR2020110004561U 대면적 기판의 건식 세정장치 无效
标题翻译：用于大面积基材的干式清洁剂
公开(公告)号：KR2020110004561U
公开(公告)日：2011-05-09
申请号：KR2020090014189
申请日：2009-10-30
申请人： 주식회사 케이씨
发明人： 윤철남
IPC分类号： H01L21/302
摘要： 본 고안은 대면적 기판의 건식 세정장치에 관한 것으로, 액체 이산화탄소를 공급하는 제1공급관과, 캐리어가스를 공급하는 제2공급관을 포함하는 공급부와, 상기 공급부의 저면에 등간격으로 이격되어 설치되며, 상기 제1공급관과 상기 제2공급관으로부터 액체 이산화탄소와 캐리어가스를 공급받아 단열팽창시켜 고체 이산화탄소를 방사형으로 분사하는 다수의 분사노즐을 포함한다. 이와 같이 구성되는 본 고안은 내측에 액체 이산화탄소와 캐리어가스를 각각 공급하는 공급관과, 그 공급관으로 부터 액체 이산화탄소와 캐리어가스를 공급받아 드라이아이스를 분사하는 다수의 노즐을 하나의 모듈로 하고, 특히 그 노즐의 팁의 형상을 세정에 적합한 노즐맵이 형성되도록 변경하여, 대면적 기판을 용이하게 세정할 수 있는 효과가 있다.
드라이아이스, 건식, 세정

13. 发明授权

KR100940371B1 포토마스크 세정장치 有权
标题翻译：光掩模清洗装置
公开(公告)号：KR100940371B1
公开(公告)日：2010-02-02
申请号：KR1020070137534
申请日：2007-12-26
申请人： 주식회사 케이씨
发明人： 박종수 , 윤철남
IPC分类号： H01L21/304
摘要： 본 발명은 반도체 웨이퍼 또는 디스플레이 기판 등에 박막 패턴을 형성하는 데에 사용되는 포토마스크를 세정하는 포토마스크 세정장치에 관한 것이다.
본 발명의 구성은, 포토마스크의 로딩/언로딩과 로딩된 포토마스크에 대한 세정처리가 이루어지는 세정 챔버와, 이 세정 챔버 내에서 상기 포토마스크의 로딩/언로딩을 수행하는 로딩/언로딩장치부와, 로딩된 포토마스크를 고정시키는 그립장치부 및, 상기 그립장치부에 의해 고정된 포토마스크에 승화성 고체 입자를 분사하여 펠리클 탈거 후의 포토마스크에 부착된 접착제를 제거하되 접착제를 1차 제거하는 제1분사부와 1차 제거후 잔류하는 접착제를 2차 제거하는 제2분사부를 구비한 세정처리부를 포함하여 이루어진다.
상기와 같은 구성을 가진 본 발명은 세정 효과가 우수하고, 세정 공정의 비용을 크게 절감할 수 있는 효과가 있다.
포토마스크, 펠리클, 접착제, 성장성 이물질, 세정, 승화성 고체 입자, 노즐

14. 发明授权

KR100650131B1 건식세정장치 有权
公开(公告)号：KR100650131B1
公开(公告)日：2006-11-27
申请号：KR1020050125548
申请日：2005-12-19
申请人： 주식회사 케이씨
发明人： 박종수 , 윤철남 , 김세호
IPC分类号： B08B7/00 , B08B7/02
摘要： A dry cleaning device is provided to regulate diameter of inputted sublimated solid particles, to always mix a certain amount of sublimated solid particles to pressed air, and to reduce consumption of the pressed air and the sublimated solid particles. A dry cleaning device comprises a selecting unit(300) for choosing an inputting path of sublimated solid particles stored at a hopper; a crushing unit(400) breaking the sublimated solid particles inputted through the selecting unit; and a cleaning medium producing unit(500) mixing the sublimated solid particles broken through the crushing unit or the sublimated solid particles stored at the hopper and inputted by the selecting unit continuously to a certain amount with pressed air and then injecting out.
摘要翻译：提供干洗装置以调节输入的升华固体颗粒的直径，总是将一定量的升华固体颗粒混合到压缩空气中，并减少压缩空气和升华固体颗粒的消耗。一种干洗装置包括选择单元（300），用于选择存储在料斗中的升华固体颗粒的输入路径; 破碎单元（400），其破坏通过选择单元输入的升华固体颗粒; 以及清洁介质制造单元（500），将通过破碎单元破碎的升华固体颗粒或贮存在料斗中并由选择单元输入的升华固体颗粒与压缩空气连续混合一定量，然后注出。

15. 实用新型

KR200345140Y1 반도체 패키징 공정의 극저온 에어로졸을 이용한 반도체패키지 아웃리드 세정장치 失效
标题翻译：半导体封装轮廓清洗装置在半导体封装过程中使用低温气溶胶
公开(公告)号：KR200345140Y1
公开(公告)日：2004-03-18
申请号：KR2020030033041
申请日：2003-10-22
申请人： 주식회사 케이씨
发明人： 윤철남 , 김세호
IPC分类号： H01L23/50
摘要： 본 고안은 반도체 제조공정에 의해 생산된 칩이 보관되는 로딩 매거진과, 세정이 최종적으로 완료된 칩이 보관되는 언로딩 매거진으로 이루어진 매거진 유닛; 상기 매거진 유닛의 상측에 설치되어 상기 매거진 유닛 내의 칩을 XZ축 방향으로 이동시키면서 로딩/언로딩하는 픽 앤 플레이스와, 상기 픽 앤 플레이스에 의해 픽업된 칩이 놓여진 트래이를 Y축 방향으로 운반하는 한쌍의 트래이 트래버서와, 상기 트래이 트래버서에 의해 운반된 트래이에 놓여진 칩을 XZ축 방향으로 이동시키면서 로딩/언로딩하는 한쌍의 디바이스 트래버서로 이루어진 로봇유닛; 및 상기 로봇유닛에 의해 운반된 칩을 안착시키기 위한 세정지그와, 상기 세정지그에 고정된 칩의 리드부 주변에 설치되어 상기 칩리드부에 극저온 에어로졸을 분사하는 다수의 분사노즐로 이루어진 세정유닛을 포함하는 반도체 패키징 공정의 극저온 에어로졸을 이용한 칩리드부 세정장치를 제공한다.

16. 发明公开

KR1020030063932A 평판표시장치용 셀세정장치 有权
标题翻译：用于清洁平板显示器的装置的装置
公开(公告)号：KR1020030063932A
公开(公告)日：2003-07-31
申请号：KR1020020004294
申请日：2002-01-24
申请人： 삼성에스디아이 주식회사 , 주식회사 케이씨
发明人： 현인걸 , 김광일 , 정석헌 , 남명우 , 윤철남 , 김형일
IPC分类号： G02F1/13
摘要： PURPOSE: An apparatus for cleaning cells for a flat panel display is provided to prevent inferiority due to moisture, restrict industrial wastewater from generating, and minimize an installation space. CONSTITUTION: A tray(10) is provided for mounting a cassette(20) loaded with a plurality of cells arranged at certain intervals. A transferring device(80) transfers the tray at a predetermined speed. A cleaning chamber(30) includes a first nozzle(32) spraying gas for cleaning to the cells loaded in the tray, and second nozzles(34) spraying gas maintaining an inside atmosphere at a low humidity. A pair of auxiliary chambers(50) are installed on both sides of the cleaning chamber and include auxiliary nozzles(54) for maintaining inside atmospheres to be similar to the atmosphere of the cleaning chamber. An exhaust port(40) is installed at a lower part of the cleaning chamber for exhausting the gas for cleaning.
摘要翻译：目的：提供一种用于清洁平板显示器的电池的设备，以防止由于潮气导致的劣化，限制工业废水的产生，并使安装空间最小化。构成：托盘（10）用于安装装载有以一定间隔布置的多个单元的盒（20）。传送装置（80）以预定速度传送托盘。清洁室（30）包括：喷射用于清洁的气体的第一喷嘴（32）到装载在托盘中的单元;以及第二喷嘴（34）喷射保持低湿度的内部气氛的气体。一对辅助室（50）安装在清洁室的两侧，并且包括用于将内部气氛保持与清洁室的气氛相似的辅助喷嘴（54）。排气口（40）安装在清洁室的下部以排出用于清洁的气体。

17. 发明授权

KR100361669B1 반도체 장비 부품 세정을 위한 노즐 有权
标题翻译：用于清洁半导体设备零件的喷嘴
公开(公告)号：KR100361669B1
公开(公告)日：2002-11-21
申请号：KR1020000008560
申请日：2000-02-22
申请人： 주식회사 케이씨
发明人： 윤철남
IPC分类号： H01L21/00
摘要： 반도체 장비 부품 세정을 위한 노즐에 관한 것으로, 비교적 저압으로 세정매체를 감압하여 스노우 입자로 형성시키는 레귤레이터와, 상기 레귤레이터를 통하여 공급되는 세정매체를 베이스 블록의 공간으로 공급하기 위한 세정매체 인입부와, 캐리어 가스를 상기 베이스 블록의 공간으로 공급하기 위한 캐리어 가스 인입부와, 상기 베이스 블록의 공간으로 인입된 세정매체 및 스노우 입자를 1, 2차에 걸쳐 단열 팽창시키기 위하여 또 다른 공간 및 2개의 오리피스를 구비한 제1, 2 오리피스 블록을 포함하는 노즐을 제공한다.
이와 같은 노즐은, 비교적 저압으로 설정되어 있는 레귤레이터를 통과하면서 세정매체의 일부가 스노우 입자로 고화되고, 제1, 2 오리피스 블록의 오리피스 및 공간을 통과하면서 단열 팽창 과정을 거쳐 응축 및 고화가 반복적으로 이루어져 고화율을 증대시키고, 저압으로 세정매체의 분사가 이루어짐으로서 미세 입자(submicron 정도의 크기)를 효율적으로 제거할 수 있으며, 또한, 세정력 향상 및 세정시간이 단축되어 생산성을 향상시키는 효과가 있다.

18. 发明公开

KR1020020046782A 기판 가장자리를 세정하기 위한 장치 有权
标题翻译：用于清洁基板边缘部分的装置
公开(公告)号：KR1020020046782A
公开(公告)日：2002-06-21
申请号：KR1020000077114
申请日：2000-12-15
申请人： 주식회사 케이씨
发明人： 고세종 , 김중관 , 윤철남 , 이정호
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： H01L21/02052 , B08B7/0092 , B24C1/003 , B24C3/02 , B24C3/22 , H01L21/67051 , Y10S134/902
摘要： PURPOSE: A cleaning apparatus is provided to prevent a physical damage due to contacts and a recontamination due to a contaminated cleaning solution by improving a structure and using a dry ice instead of the cleaning solution. CONSTITUTION: A cleaning apparatus comprises a nozzle part(1) for spraying a solid body made of CO2, such as a dry ice, and a nozzle moving part(2) for moving the nozzle part(1) from/to a cleaning position to/from a stand-by position. The nozzle part(1) further includes a wafer accommodating part(3) having a first nozzle installed in the wafer accommodating part(3) for spraying CO2 particles at the edge portions of a wafer, a second nozzle installed on the upper part of the wafer accommodating part(3) for spraying the CO2 particles to the upper surface of the wafer, and a third nozzle installed on the lower part of the wafer accommodating part(3) for cleaning the rear surface of the wafer.
摘要翻译：目的：提供一种清洁装置，以防止由于接触而导致的物理损坏，以及通过改进结构并使用干冰代替清洁溶液而被污染的清洁溶液进行的再污染。构成：清洁装置包括用于喷射由CO 2制成的实心体的喷嘴部分（1），例如干冰，以及用于将喷嘴部分（1）从清洁位置移动到清洁位置的喷嘴移动部分（2） /从待机位置。喷嘴部分（1）还包括晶片容纳部分（3），其具有安装在晶片容纳部分（3）中的第一喷嘴，用于在晶片的边缘部分喷射二氧化碳颗粒，第二喷嘴安装在晶片的上部用于将CO 2颗粒喷射到晶片的上表面的晶片容纳部分（3）和安装在晶片容纳部分（3）的下部上以清洁晶片后表面的第三喷嘴。

19. 发明公开

KR1020020022221A 표면 세정용 에어로졸 생성 시스템 有权
标题翻译：用于产生表面清洁剂的系统
公开(公告)号：KR1020020022221A
公开(公告)日：2002-03-27
申请号：KR1020000054909
申请日：2000-09-19
申请人： 주식회사 케이씨
发明人： 윤철남 , 김세호
IPC分类号： H01L21/304
摘要： PURPOSE: A system for generating surface cleaning aerosol is provided to prevent a venturi nozzle from being stopped up and to eliminate fine contaminant of a sub micron size, by using an atomized high-purity solid-type material. CONSTITUTION: A cleaning medium supplying source(10) supplies a gas-type cleaning medium. A carrier supplying source(20) supplies a carrier capable of being mixed with the gas-type cleaning medium and transferring the gas-type cleaning medium. Cryogenic liquefied nitrogen is stored in a low-temperature storage receptacle(32). A cooling pipe(38) induces the carrier exhausted from the carrier supplying source so that the carrier passes through the low-temperature storage receptacle. A heater(37) irradiates heat to the cooling pipe to make the carrier of the cooling pipe not over-cooled. A heat exchanger(30) includes the low-temperature storage receptacle, the cooling pipe and the heater. A mixer(40) uniformly mixes the carrier exhausted from the heat exchanger with the gas-type cleaning medium exhausted form the cleaning medium supplying source. The venturi nozzle(60) adiabatically expands the cleaning medium exhausted from the mixer at a low pressure, and generate aerosol of high speed and high pressure. A moisture coagulation preventing unit prevents moisture from being coagulated on the outer surface of the venturi nozzle.
摘要翻译：目的：提供一种用于产生表面清洁气溶胶的系统，以通过使用雾化的高纯度固体型材料来防止文丘里喷嘴被阻塞并消除亚微米尺寸的细微污染物。构成：供给源（10）的清洁介质供应气体型清洁介质。载体供应源（20）提供能够与气体型清洁介质混合并传送气体型清洁介质的载体。低温液化氮储存在低温储存容器（32）中。冷却管（38）引起从载体供给源排出的载体，使得载体通过低温储存容器。加热器（37）向冷却管照射热量，使得冷却管的载体不会过冷却。热交换器（30）包括低温储存容器，冷却管和加热器。混合器（40）将从热交换器排出的载体与从清洁介质供应源排出的气体型清洁介质均匀混合。文丘里喷嘴（60）在低压下绝热地膨胀从混合器排出的清洁介质，并产生高速高压气溶胶。水分凝固防止单元防止湿气在文氏管喷嘴的外表面上凝结。

20. 发明公开

KR1020160150369A 기판 처리 장치 有权
标题翻译：基板处理装置和混合气体喷嘴
公开(公告)号：KR1020160150369A
公开(公告)日：2016-12-30
申请号：KR1020150088251
申请日：2015-06-22
申请人： 주식회사 케이씨
发明人： 윤철남
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/67
摘要： 본발명은기판처리장치및 이에사용되는혼합노즐에관한것으로, 기체의유동방향을따라단면이점진적으로감소하는단면감소영역과, 상기단면감소영역으로부터토출구까지연장된배출영역으로이루어진기체공급통로와; 상기기체공급통로와제1위치에서연통되어드라이아이스를공급하는분기통로를; 포함하여구성되어, 상기단면감소영역에서가속된기체유동이고체상태의드라이아이스와함께상기토출구를통해배출됨으로써, 기판의표면을손상시키지않으면서표면의경계층아래에낮게고착된이물질을효과적으로제거할수 있는기판처리장치및 이에사용되는혼합노즐을제공한다.
摘要翻译：本实用新型涉及一种基板加工装置，用于其混合喷嘴，提供基板加工装置，并用于其混合喷嘴，其包括：供气的气体通道，其排放区域为包括横截面减小，横截面沿着气流方向减小区域，横截面逐渐减小，排放区域依次为横截面减小区域并延伸到排放口，叉通道（分开的通道），其与提供通信（连接）的气体通道和供应干冰的主要重要性，从而交叉的干冰减少区域加速的气体流动，固态通过排出口可以共同通过从此排出，在不损坏基板的表面上，可以有效地摆脱边界下地面的异物l ayer在表面以下。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式