专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

JP2020095958A 粒子ビーム系及び粒子ビーム系を操作する方法审中-公开
公开(公告)号：JP2020095958A
公开(公告)日：2020-06-18
申请号：JP2019222416
申请日：2019-12-09
申请人：カールツァイスマイクロスコーピーゲーエムベーハー , Carl Zeiss Microscopy GmbH
发明人：ビョーンギャム , マルコマティアヴィッチ
IPC分类号： H01J37/317 , H01J37/28 , H01J37/145
摘要：【課題】第1の粒子ビーム列で生成された静電界によって、第2の粒子ビーム列の粒子ビーム精度が低下することを防止する方法を提供する。【解決手段】粒子ビーム系1は第1の粒子ビーム列3(例えば電子ビーム列)及び第2の粒子ビーム列5(例えばイオンビーム列)を含む。粒子ビーム系の第1の動作モード中、開口63が配置されたエンドキャップ61が第1の粒子ビーム21(例えば電子ビーム)のビーム経路22の外に配置され、エンドキャップは、粒子ビーム系の第2の動作モード中、第1の粒子ビームのビーム経路がエンドキャップの開口を通過し得るように、そして作業領域53から来る二次粒子がエンドキャップの開口を通過して第1の粒子ビーム列の内部の検出器39に達するように配置される。【選択図】図2

2. 发明专利

JP2020074329A 電子ビーム画像化装置及び方法审中-公开
公开(公告)号：JP2020074329A
公开(公告)日：2020-05-14
申请号：JP2020017725
申请日：2020-02-05
申请人：ケーエルエーコーポレイション
发明人：ジアンシンロン , ハンリクン
IPC分类号： H01J37/28 , H01J37/147 , H01J37/244 , H01J37/145 , H01J37/29 , H01J37/09 , H01J37/05
摘要：【課題】入射ビームの1次電子から2次電子を分離するウィーンフィルタでのエネルギー分散効果に起因した分解能低下を克服する。【解決手段】第1のウィーンフィルタWF1は、電子ビームを第1の面内で集束させ、一方で、電子ビームを第2の面内で平行のままにする。スリット孔Slitは、あるエネルギー範囲内のエネルギーを有する電子ビームの電子を通過させ、一方で、エネルギー範囲外のエネルギーを有する電子ビームの電子を阻止する。第2のウィーンフィルタWF2は、電子ビームを第1の面内で平行になるように集束させ、一方で、電子ビームを第2の面内で平行のままにする。【選択図】図1

3. 发明专利

JP6318157B2 荷電粒子線レンズモジュール及びそれを備えた荷電粒子線装置有权
公开(公告)号：JP6318157B2
公开(公告)日：2018-04-25
申请号：JP2015533878
申请日：2013-08-30
申请人：株式会社日立製作所
发明人：玉置央和 , 原田研
IPC分类号： H01J37/145 , H01J37/26 , H01J37/12 , H01J37/153 , H01J37/147 , H01J37/15 , H01J37/22 , H01J37/21
CPC分类号： H01J37/21 , H01J2237/12 , H01J2237/15

5. 发明专利

JPWO2015166849A1 電子線装置有权
公开(公告)号：JPWO2015166849A1
公开(公告)日：2017-04-20
申请号：JP2016516331
申请日：2015-04-22
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人：恒典野間口 , 恒典野間口 , 寿英揚村 , 寿英揚村
IPC分类号： H01J37/28 , H01J37/09 , H01J37/141 , H01J37/145 , H01J37/244
CPC分类号： H01J37/04 , H01J37/065 , H01J37/09 , H01J37/12 , H01J37/14 , H01J37/141 , H01J37/145 , H01J37/244 , H01J37/28 , H01J2237/04756 , H01J2237/14
摘要：電子線装置において、外乱による影響を受けにくくし、かつ、高空間分解能と高輝度を両立する。電子線装置において、例えば、電子線を発生する電子源(101)と、電子線を試料(114)上に集束する対物レンズとの間に、高電圧のビーム管(110)を電子源(101)側に、低電圧のビーム管(112)を対物レンズ側に配置することに関する。これにより、例え試料に積極的に磁場を漏らすタイプの対物レンズを備えたSEMであっても、空間分解能を維持しつつ、高輝度化を図ることができる。

6. 发明专利

JP2015032360A 電子ビーム装置有权
标题翻译：电子束装置
公开(公告)号：JP2015032360A
公开(公告)日：2015-02-16
申请号：JP2013158902
申请日：2013-07-31
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ , Hitachi High-Technologies Corp
发明人： HAYATA YASUNARI , OHASHI KENYOSHI , MIWA TAKAFUMI , KAWANO HAJIME
IPC分类号： H01J37/05 , H01J37/04 , H01J37/09 , H01J37/145 , H01J37/153 , H01J37/28
CPC分类号： G21K1/093 , H01J37/28 , H01J2237/12 , H01J2237/14 , H01J2237/1534
摘要：【課題】エネルギー分散低減のためのエネルギーフィルターの色収差発生効率を向上させることができる電子ビーム装置を提供する。【解決手段】重なり合った電磁偏向器151と静電偏向器150の組と、ビームスリット170と、からなる1次電子のエネルギーフィルターを搭載し、ビームスリット170と、電磁偏向器151と静電偏向器150との組との間に、電子レンズ(第1コンデンサレンズ103)を配置する。また、ビームスリット170の下部にも、重なり合った電磁偏向器161と静電偏向器160の組と、ビームスリット170と、からなる1次電子のエネルギーフィルターを搭載し、ビームスリット170と、電磁偏向器161と静電偏向器160との組との間に、電子レンズ(第2コンデンサレンズ105)を配置する。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够提高用于降低能量分散的能量过滤器的色差产生效率的电子束装置。解决方案：由一组重叠的电磁偏转器151和静电偏转器组成的一次电子的能量过滤器 150，并且安装光束狭缝170，并且在光束狭缝170和电磁偏转器151和静电偏转器150组之间布置电子透镜（第一聚光透镜103）。此外，由一一组叠置的电磁偏转器161和静电偏转器160，并且光束狭缝170安装在光束狭缝170的下方，并且电子透镜（第二聚光透镜105）布置在光束狭缝170和电磁偏转器组161之间，静电偏转器160。

7. 发明专利

JP2015023030A 荷電粒子ビームを集束させる磁気レンズ有权
标题翻译：用于聚焦充电颗粒光束的磁性镜头
公开(公告)号：JP2015023030A
公开(公告)日：2015-02-02
申请号：JP2014146608
申请日：2014-07-17
申请人：エフイーアイカンパニFei Company , Fei Co , エフイーアイカンパニFei Company
发明人： ONDREJ SHANEL
IPC分类号： H01J37/141 , H01J37/145 , H01J37/28
CPC分类号： G21K1/093 , H01F2003/106 , H01J37/141 , H01J37/26 , H01J2237/1415 , H01J2237/26 , Y10T29/4978
摘要：【課題】荷電粒子線の電磁レンズ部品の加工を容易にし正確な位置合わせを可能とする技術を提供する。【解決手段】光軸2に沿って進行する荷電粒子ビーム1を集束させる磁気レンズ10は、光軸の周りに設けられる軸ボア11、磁場発生手段12および外側の第1部分13と内側の第2部分16による複合構造の磁気ヨークより構成される。第2部分16は、第1部分13内にモノリシック挿入体として集束領域14の周りに載置され、磁気圧縮として機能するウエスト領域15を有し集束磁場を形成する。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种便于加工带电粒子束的电磁透镜部件并允许其精确对准的技术。解决方案：用于聚焦沿着光轴2行进的带电粒子束1的磁性透镜10包括：轴向孔11 围绕光轴布置; 磁场产生装置12; 以及具有复合结构的磁轭，其包括外部主要部分13和内部副部分16.次级部分16作为整体式插入体安装在主要部分13内的聚焦区域14周围，具有腰部区域 15作为磁收缩，形成聚焦磁场。

8. 发明专利

JP5601838B2 Particle-optical apparatus 有权
公开(公告)号：JP5601838B2
公开(公告)日：2014-10-08
申请号：JP2009540623
申请日：2007-11-23
申请人：カールツァイスマイクロスコーピーゲーエムベーハーCarl Zeiss Microscopy GmbH
发明人：プライクスツァーズディルク
IPC分类号： H01J37/12 , H01J37/145 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/09 , H01J37/145 , H01J37/3056 , H01J2237/31745 , H01J2237/31749

9. 发明专利

JP5227643B2 High resolution and high-contrast observation is possible electron beam application apparatus 有权
公开(公告)号：JP5227643B2
公开(公告)日：2013-07-03
申请号：JP2008104232
申请日：2008-04-14
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人：宗行福田 , 直正鈴木 , 智康猩々 , 範次高橋
IPC分类号： H01J37/145 , H01J37/28
CPC分类号： H01J37/28 , G01N23/225 , H01J37/145 , H01J2237/21 , H01J2237/28

10. 发明专利

JP2013511820A Multi-charged particle beam device having a multi-axis magnetic lens 有权
公开(公告)号：JP2013511820A
公开(公告)日：2013-04-04
申请号：JP2012549164
申请日：2011-02-16
申请人：エルメス−マイクロビジョン,インコーポレーテッド
发明人：チェン，ゾンウェイ , レン，ウェイミン , 健一金井 , リュウ，シュエドン
IPC分类号： H01J37/145 , H01J37/141 , H01L21/66
CPC分类号： H01J37/141 , H01J37/28 , H01J2237/1035 , H01J2237/1415 , H01J2237/1534
摘要： An apparatus basically uses a simple and compact multi-axis magnetic lens to focus each of a plurality of charged particle beams on sample surface at the same time. In each sub-lens module of the multi-axis magnetic lens, two magnetic rings are respectively inserted into upper and lower holes with non-magnetic radial gap. Each gap size is small enough to keep a sufficient magnetic coupling and large enough to get a sufficient axial symmetry of magnetic scale potential distribution in the space near to its optical axis. This method eliminates the non-axisymmetric transverse field in each sub-lens and the round lens field difference among all sub-lenses at the same time; both exist inherently in a conventional multi-axis magnetic lens. In the apparatus, some additional magnetic shielding measures such as magnetic shielding tubes, plates and house are used to eliminate the non-axisymmetric transverse field on the charged particle path from each charged particle source to the entrance of each sub-lens and from the exit of each sub-lens to the sample surface.

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式