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    • 1. 发明专利
    • シリコン粉回収方法及びシリコン粉回収装置
    • 硅粉回收方法和硅粉回收系统
    • JP2016049506A
    • 2016-04-11
    • JP2014177131
    • 2014-09-01
    • 株式会社ディスコ
    • 藤田 敦史吉田 幹内田 正喜
    • B03C5/02B03C5/00
    • 【課題】水分が除去されたシリコン粉を効率的に回収すること。 【解決手段】シリコンウエーハ(S)に砥石(103d)を当接させ加工する加工装置(100)から排出されるシリコン粉(P)を含む廃液(L)にシリコン吸着板(32)とシリコン通過規制板(33d)とを着水させ、これらに通電させプラスに帯電したシリコン吸着板にシリコン粉を付着させる。次に、シリコン吸着板を廃液から引き上げシリコン吸着板に付着したシリコン粉と廃液とを含むシリコン溶液(SF)をシリコン吸着板から削ぎ取り回収する。次に、シリコン吸着板から削ぎ取られたシリコン溶液の水分を乾燥手段(6)で乾燥させる。 【選択図】図3
    • 要解决的问题:有效回收除去水分的硅粉末。解决方案:硅吸盘(32)和硅通过调节板(33d)落在含有硅粉(P)的废液(L)上, 从将研磨石(103d)与硅晶片(S)接触的处理装置(100)排出并处理硅晶片,并且硅功率粘附到通过导电而被带正电的硅吸附板上 。 接下来,从废液中拉出硅吸附板,从硅吸附板除去含有附着在硅吸附板上的硅粉末和废液的硅溶液(SF)。 然后,通过干燥装置(6)干燥从硅吸附板去除的硅溶液的水分。选择的图:图3
    • 4. 发明专利
    • マイクロ流体デバイス及び誘電泳動装置
    • 微流体装置和介电电泳装置
    • JP5628971B1
    • 2014-11-19
    • JP2013124624
    • 2013-06-13
    • 日本写真印刷株式会社
    • 麻子 阪下麻子 阪下鉄矢 中山鉄矢 中山
    • B01J19/00B03C5/02B81B1/00G01N27/00
    • G01N27/447B01L3/502707B01L3/502761B01L2200/0668B01L2300/0832B01L2400/0424B03C5/026G01N30/6095
    • 【課題】大量の粒子を精度よく分離するのに適したマイクロ流体デバイス及び誘電泳動装置を提供する。【解決手段】マイクロ流体デバイス10は、絶縁性の透明フィルム12とスペーサ18と第1電極、第2電極及び接地電極を備えている。透明フィルム12は、導体軸11、つまり中心軸の周りに巻回され、中心軸に垂直な断面における形状が渦巻状である。スペーサ18によって、透明フィルム12の所定の周とその外側の周との間に配置されて所定の周と外側の周にある透明フィルム12の間に隙間が設けられる。スペーサ18による隙間で、中心軸に垂直な断面における形状が渦巻状であって中心軸に沿って延びる流路2が形成される。第1電極、第2電極及び接地電極は透明フィルム12上に形成されており、これら電極に高周波電圧が印加されることによって流路2を流れる流体内で誘電泳動が生じる。【選択図】図11
    • 提供一种微流体装置,适用于精确地分离颗粒的大量介电电泳装置。 一种微流体装置10包括绝缘透明膜12和间隔件18和第一电极,第二电极和接地电极。 透明膜12,导体轴11,即绕中心轴卷绕,在一横截面垂直于中心轴的形状是螺旋形的。 通过间隔件18,在透明薄膜12之间设置有介于所述外侧的一个预定的圆周和圆周上的预定圆周和外圆周上的透明膜12之间的间隙。 在由间隔件18中的间隙,形状的横截面垂直于沿中心轴形成有螺旋形延伸的中心轴线流动路径2。 在透明膜12上形成第一电极,第二电极和接地电极,介电电泳发生在流过流路2由高频电压的流体被施加到电极上。 .The 11
    • 6. 发明专利
    • Waste liquid treatment apparatus
    • 废液处理设备
    • JP2013119050A
    • 2013-06-17
    • JP2011267358
    • 2011-12-06
    • Disco Corp株式会社ディスコ
    • ISHIGURO HIROTAKAYOSHIDA MIKIFUJITA ATSUSHI
    • B03C5/02B01D57/02B03C5/00C25B9/00
    • PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a waste liquid treatment apparatus capable of efficiently separating a waste liquid containing silicon refuse into silicon refuse and purified water (water) in a state easy to reutilize.SOLUTION: The waste liquid treatment apparatus 1 includes a separation treatment means 20 and a recovery means 50. The separation treatment means 20 is equipped with a waste liquid storage liquid tank 21, a plurality of silicon adsorbing plates 23 arranged at equal intervals, a silicon passing control part 24 including a plurality of silicon passing control plates arranged in opposed relation to the silicon adsorbing plates 23 and an electric field forming part. The silicon passing control plates permit only the liquid of the waste liquid to pass and control the passage of silicon refuse. The silicon passing control part 24 is equipped with a discharge part 31 for discharging the purified water in a housing 30 demarcating a region where the purified water passed through the silicon passing control plates is present. In the electric field forming part, a silicon adsorbing plate 23 is used as an anode and the silicon passing control plate is used as a cathode. A recovery means 50 separates the silicon refuse from the silicon adsorbing plate 23.
    • 解决的问题:提供一种能够以容易再利用的状态将含有硅垃圾的废液和净化水(水)有效分离的废液处理装置。 解决方案:废液处理装置1包括分离处理装置20和回收装置50.分离处理装置20装备有废液储存液罐21,以等间隔布置的多个硅吸附板23 包括与硅吸附板23相对设置的多个硅通过控制板的硅通过控制部24和电场形成部。 硅通过控制板仅允许废液的液体通过并控制硅垃圾的通过。 硅通过控制部24配备有排出部31,用于在净化水通过硅通过控制板的区域分界的壳体30内排出净化水。 在电场形成部中,使用硅吸附板23作为阳极,将硅通过控制板用作阴极。 回收装置50将硅垃圾与硅吸附板23分开。版权所有(C)2013,JPO&INPIT