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1. 发明专利

JPWO2017141996A1 圧電素子の製造方法及び圧電素子审中-公开
公开(公告)号：JPWO2017141996A1
公开(公告)日：2018-12-06
申请号：JP2017005599
申请日：2017-02-15
申请人：コニカミノルタ株式会社
发明人：多田一成 , 清水直紀
IPC分类号： H01L41/04 , H01L41/113 , H01L41/187 , H01L41/338 , H01L41/337 , H01L41/332
CPC分类号： H01L41/09 , H01L41/23 , H01L41/332 , H01L41/338 , H04R31/00
摘要：幅が小さくアスペクト比が大きい柱状微細構造体を形成することができる圧電素子の製造方法を提供する。幅30μm以下で高さ80μm以上の板状又は柱状に形成された複数の立体構造21,321を有してなる立体構造群20を備える圧電素子102の製造方法である。この製造方法は、Pb系圧電材料で形成されたバルク材81に板状又は柱状の複数の前駆形状82aを加工する第1工程と、エッチング液を用いて前駆形状82aの幅を所定量まで減少させる第2工程とを備える。

2. 发明专利

JP2018186287A ニオブ酸系強誘電体薄膜素子の製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2018186287A
公开(公告)日：2018-11-22
申请号：JP2018127471
申请日：2018-07-04
申请人：住友化学株式会社
发明人：堀切文正 , 柴田憲治 , 渡辺和俊 , 末永和史 , 野口将希
IPC分类号： H01L27/11507 , H01L41/187 , H01L41/316 , H01L21/306 , H01L21/308 , H01L41/332
CPC分类号： H01L41/1873 , H01L41/332
摘要：【課題】鉛を含まないニオブ酸系強誘電体を用いた薄膜素子を寸法精度よくかつ従来よりも低コストで微細加工できる製造方法を提供する。【解決手段】本発明に係るニオブ酸系強誘電体薄膜素子の製造方法は、基板上に下部電極膜を形成する下部電極膜形成工程と、前記下部電極膜上にニオブ酸系強誘電体(ニオブ酸カリウムナトリウムまたはニオブ酸リチウム)の薄膜を形成する強誘電体薄膜形成工程と、前記ニオブ酸系強誘電体薄膜上に酸化シリコン膜のエッチングマスクを所望のパターンとなるように形成するエッチングマスクパターン形成工程と、前記ニオブ酸系強誘電体薄膜に対してキレート剤(エチレンジアミン四酢酸類またはジエチレントリアミン五酢酸)のアルカリ水溶液と過酸化水素水とを含むエッチング液を用いたウェットエッチングを行うことによって、前記ニオブ酸系強誘電体薄膜に所望パターンの微細加工を行う圧電体薄膜エッチング工程とを有することを特徴とする。【選択図】図3

3. 发明专利

JP2018160535A 圧電素子、及び圧電素子応用デバイス审中-公开
公开(公告)号：JP2018160535A
公开(公告)日：2018-10-11
申请号：JP2017056483
申请日：2017-03-22
申请人：セイコーエプソン株式会社
发明人：北田和也
IPC分类号： H01L41/09 , H01L41/047 , B41J2/14 , H01L41/187
CPC分类号： H01L41/1871 , B41J2/14233 , B41J2/161 , B41J2/1623 , B41J2/1628 , B41J2/1629 , B41J2/1646 , B41J2002/14241 , B41J2002/14419 , B41J2202/03 , H01L41/0477 , H01L41/0805 , H01L41/09 , H01L41/0973 , H01L41/1873 , H01L41/318 , H01L41/332
摘要：【課題】異相がなく、絶縁性に優れたKNN系圧電体層を有する圧電素子及び圧電素子応用デバイスを提供する。【解決手段】第1電極60と、第2電極80と、第1電極60と第2電極80との間に設けられたカリウムと、ナトリウムと、ニオブと、マンガンとを含むペロブスカイト型酸化物からなる圧電体層70と、を備えた圧電素子300であって、圧電体層70は、ペロブスカイト型酸化物のAサイト構成元素の割合がBサイト構成元素の割合よりも少なく、当該圧電体層のXRD測定において、44° 【選択図】図4

4. 发明专利

JP2018122550A 液体噴射ヘッドチップ、液体噴射ヘッドおよび液体噴射装置审中-公开
公开(公告)号：JP2018122550A
公开(公告)日：2018-08-09
申请号：JP2017018234
申请日：2017-02-03
申请人：エスアイアイ・プリンテック株式会社
发明人：久保田禅 , 西川大地
IPC分类号： B41J2/18 , B41J2/14
CPC分类号： B41J2/14201 , B41J2/14209 , B41J2/145 , B41J2/155 , B41J2/1609 , B41J2/1623 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1632 , B41J2/1634 , B41J2/1643 , B41J2002/14491 , B41J2202/18 , H01L41/0475 , H01L41/0973 , H01L41/1876 , H01L41/29 , H01L41/332 , H01L41/338
摘要：【課題】各種配線の接続部分の強度を確保しつつ各種配線のレイアウトの自由度を向上し所望の配線パターンを構成することができる液体噴射ヘッドチップ、液体噴射ヘッドおよび液体噴射装置を提供する。【解決手段】実施形態の液体噴射ヘッドチップ40A,40Bは、Z方向に沿って延在する複数の吐出チャネル54及び複数の非吐出チャネル55がX方向に間隔をあけて交互に並設されたアクチュエータプレート51と、AP側Y方向内側面51f1に積層されて複数の吐出チャネル54及び複数の非吐出チャネル55を閉塞するカバープレート52と、吐出チャネル54の内面に形成された共通電極61と、カバープレート52においてX方向に少なくとも3以上の複数個所に分割して形成されるとともに、共通電極61とフレキシブル基板45とを接続する接続配線60と、を備える。【選択図】図4

5. 发明专利

JP2018020509A 圧電素子利用装置およびその製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2018020509A
公开(公告)日：2018-02-08
申请号：JP2016153901
申请日：2016-08-04
申请人：ローム株式会社
发明人：飯田城士
IPC分类号： B41J2/16 , B81B3/00 , B81C1/00 , H01L41/09 , H01L41/047 , H01L41/29 , H01L41/23 , H01L41/187 , H01L41/053 , H01L41/332 , B41J2/14
CPC分类号： B41J2/14233 , B41J2/161 , B41J2/1628 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1632 , B41J2/1642 , B41J2/1646 , B41J2002/14241 , B41J2002/14491 , H01L41/047 , H01L41/0475 , H01L41/0973 , H01L41/332
摘要：【課題】パッシベーション膜を形成する際に、圧電体膜が水素還元されるのを防止できる圧電素子利用装置を提供する。【解決手段】インクジェットプリントヘッド1は、圧力室(キャビティ)7と、圧力室7上に配置されかつ圧力室7の天面部を区画する可動膜10Aを含む可動膜形成層10と、可動膜10A上に形成され、下部電極11と下部電極11上に形成された圧電体膜12と圧電体膜12上に形成された上部電極13とを含む圧電素子9と、第1上部配線16とを含む。上部電極13は、圧電素子9を構成する主電極部13Aと、主電極部13Aから引き出され、第1上部配線16に接続された第2上部配線としての延長部13Bとを含む。第1上部配線16は、延長部13Bと可動膜形成層10との間に配置された部分を有しており、この部分内において延長部13Bが第1上部配線16に接続されている。【選択図】図3

6. 发明专利

JP6178172B2 ニオブ酸アルカリ系圧電体薄膜素子の製造方法有权
公开(公告)号：JP6178172B2
公开(公告)日：2017-08-09
申请号：JP2013178025
申请日：2013-08-29
申请人：住友化学株式会社
发明人：末永和史 , 柴田憲治 , 渡辺和俊 , 堀切文正 , 野口将希
IPC分类号： H01L41/187 , H01L41/047 , H01L41/29 , H01L21/3065 , H01L41/332
CPC分类号： H01L41/297 , H01L41/0471 , H01L41/1873 , H01L41/29 , H01L41/332

7. 发明专利

JP2017093194A 圧電アクチュエーター、積層アクチュエーター、圧電モーター、ロボット、ハンド及び送液ポンプ审中-公开
公开(公告)号：JP2017093194A
公开(公告)日：2017-05-25
申请号：JP2015222564
申请日：2015-11-13
申请人：セイコーエプソン株式会社 , Seiko Epson Corp
发明人： ARAKAWA YUTAKA
IPC分类号： H02N2/00 , H01L41/09 , H01L41/187 , H01L41/193 , H01L41/23 , H01L41/29 , H01L41/318 , H01L41/332
CPC分类号： H01L41/083 , B25J9/12 , B25J9/123 , B25J15/0293 , F04B43/095 , H01L41/047 , H01L41/0471 , H01L41/09 , H01L41/0913 , H01L41/1871 , H01L41/273 , H01L41/29 , H01L41/312 , H01L41/319 , H01L41/332 , H02N2/004
摘要：【課題】圧電素子が外傷により機能が損なわれることから保護された圧電アクチュエーターを提供する。【解決手段】圧電アクチュエーター10は、平面視で少なくとも一部が重なって配置されている2つの基板200と、前記平面視で前記2つの基板が重なっている領域において、前記2つの基板が互いに向かい合う側の面上にそれぞれ配置されている圧電素子110c,110dと、前記2つの圧電素子のそれぞれ少なくとも一部を覆っている被覆部260と、を備える。【選択図】図1B

8. 发明专利

JP2016201544A 高周波用圧電性結晶複合体、装置、及びそれらの製造方法审中-公开
标题翻译：压电晶体复合高频装置，以及它们的制备方法
公开(公告)号：JP2016201544A
公开(公告)日：2016-12-01
申请号：JP2016101910
申请日：2016-04-28
申请人：エイチシーマテリアルズコーポレーション
发明人：ペングディハン , ジアンティアン , ケビンメネオウ , ブランドンストーン
IPC分类号： C01G33/00 , H01L41/113 , H01L41/257 , H01L41/332 , H02N2/00 , H01L41/187
CPC分类号： H01L41/332 , A61B8/00 , C01G33/006 , C30B29/30 , C30B29/32 , G03H3/00 , H01L41/18 , H01L41/183 , H01L41/338 , C01P2002/50 , C01P2004/03 , H01L41/1875 , Y10T29/42
摘要：【課題】改良された撮像装置、特に、高周波(>20MHz)用途における医療用撮像装置又は距離撮像装置用の高周波用圧電性結晶複合体、装置及び同結晶複合体を製造する方法を提供する。【解決手段】以下の式で表される結晶組成を有する圧電PMN−PT系結晶複合体。x*Pb(B’ 1/2 B” 1/2 )O 3 −y*PbTiO 3 −(1−x−y)*Pb(Mg 1/3 Nb 2/3 )O 3 、上記式において、xは、0.00から0.50モル%であり、yは、0.00から0.50モル%であり、B’は、インジウム(In)、イッテルビウム(Yb)、スカンジウム(Sc)、ジルコニウム(Zr)、鉄(Fe)のいずれかであり、B”は、ニオブ(Nb)又はタンタル(Ta)のいずれかである。【選択図】図3
摘要翻译：甲改进的成像装置，特别地，提供一种方法，用于产生高频（> 20 MHz）的用于压电晶体复合了在应用中，装置医学成像装置或距离摄像装置和结晶复合频率。具有由下式表示的液晶组合物的压电PMN-PT系结晶复合物。 X * PB（B'1 / 2B“1/2）O 3-Y * PbTiO3-（1-X-Y）* PB（MG1 / 3Nb2 / 3）O3，在上式中，x为0.50摩尔％〜0.00 和一个，y为0.50％（摩尔）为0.00，B“是铟（In），镱（Yb），钪（Sc），是任何锆（Zr）的，铁（Fe），B“ 或者是铌（Nb）或钽（Ta）。点域

9. 发明专利

JP2016184692A 強誘電体薄膜素子の製造方法审中-公开
标题翻译：制造薄膜薄膜元件的方法
公开(公告)号：JP2016184692A
公开(公告)日：2016-10-20
申请号：JP2015064739
申请日：2015-03-26
申请人：住友化学株式会社
发明人：堀切文正 , 柴田憲治 , 渡辺和俊 , 末永和史
IPC分类号： H01L21/8246 , H01L27/105 , H01L41/187 , H01L41/316 , H01L41/332 , H01L21/3065 , H01L41/29
CPC分类号： H01L21/3065 , H01L27/105 , H01L41/187 , H01L41/29 , H01L41/316 , H01L41/332
摘要：【課題】鉛を含まないニオブ酸系強誘電体を用いた薄膜素子において、その強誘電体特性を劣化させることなしに強誘電体薄膜の表面に積層形成した上部電極膜を高い精度で効率よく微細加工できる製造方法を提供する。【解決手段】基板11上に下部電極膜12を形成する工程と、下部電極膜上にニオブ酸系強誘電体薄膜13を形成する工程と、ニオブ酸系強誘電体薄膜上に上部電極膜14を形成する工程と、上部電極膜14に対して反応性イオンエッチングを行うことによって、上部電極膜14に所望パターンの微細加工を行う上部電極膜エッチング工程とを有する。上部電極膜エッチング工程は、反応性イオンエッチングによって発生するイオンプラズマ中でのNa発光強度の変化率を算出し、変化率が所定の閾値を下回った時点でエッチング完了を判定する。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：为了提供一种能够高精度地和有效地微调层叠并形成在铁电薄膜的表面上的上电极膜而不会劣化薄膜元件中的铁电特性的制造方法，该铌酸盐系铁电体不含铅电极。制造铁电薄膜元件的方法包括以下步骤：在基板11上形成下电极膜12; 在下电极膜上形成铌酸盐铁电薄膜13; 在铌酸盐基强电介质薄膜上形成上电极膜14; 并通过对上电极膜14进行反应离子蚀刻（上电极膜蚀刻步骤），使上电极膜14对所需图案进行微细加工。上电极膜蚀刻步骤计算作为反应离子蚀刻的结果产生的离子等离子体中的Na发光强度的变化率，并且确定当变化率低于规定阈值时蚀刻完成。图示：图 1

10. 发明专利

JP2016130644A 振動素子の製造方法、振動素子、電子デバイス、電子機器、および移動体审中-公开
标题翻译：振动元件，振动元件，电子设备，电子设备和移动体的制造方法
公开(公告)号：JP2016130644A
公开(公告)日：2016-07-21
申请号：JP2015003929
申请日：2015-01-13
申请人：セイコーエプソン株式会社
发明人：山田洋平 , 松尾敦司 , 伊井稔博 , 杉山貴俊
IPC分类号： H03H3/02 , H03H9/19 , H03H9/215 , G01C19/5621 , B81C1/00 , B81B3/00 , H01L41/113 , H01L41/332 , H01L41/253 , H01L41/311 , H01L41/23 , G01C19/5628
CPC分类号： H01L41/09 , G01C19/56 , H01L41/042 , H03H9/0547 , H03H9/215 , H03H9/2468 , H01L41/331 , H01L41/332 , H03H2003/026 , H03H2003/027
摘要：【課題】振動素子の歩留りと生産性とを向上させて製造コストを低下させる製造方法を提供する。【解決手段】振動素子としてのジャイロ素子の製造方法は、水晶基板を加工して振動腕を有するジャイロ素子の外形および振動腕に凹部を形成する製造方法であって、水晶基板上に金属マスクを形成するマスク形成工程S1,S2,S3,S4と、水晶基板の一方の面からジャイロ素子の外形をドライエッチングで形成する外形形成工程S5と、凹部をウェットエッチングで形成する凹部形成工程S10と、を含んでいる。【選択図】図2
摘要翻译：要解决的问题：提供能够提高振动元件的产量和生产率并降低制造成本的制造方法。解决方案：作为振动元件的陀螺元件的制造方法涉及加工石英基板以形成凹部在具有振动臂的陀螺元件的外形中和在振动臂中。制造方法包括：在石英基板上形成金属掩模的掩模形成工序S1，S2，S3，S4; 通过从石英基板的一侧通过干蚀刻形成陀螺元件的外形的外形形成处理S5; 以及通过湿蚀刻形成凹部的凹陷形成处理S10。图2：

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