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    • 1. 发明专利
    • KR102227413B1 - Logic device and manufacturing method thereof
    • KR102227413B1
    • 2021-03-11
    • KR1020200048149A
    • 2020-04-21
    • 청주대학교 산학협력단
    • 이상렬
    • H01L27/088H01L21/8236H01L27/12H01L29/786
    • H01L27/0883H01L21/8236H01L27/1222H01L27/1248H01L29/78669H01L29/7869
    • 본 발명에 따르면, 소스 전극 및 드레인 전극 간에 비정질 산화물 반도체 채널층 상면의 적어도 일부를 덮도록 패시베이션층을 상기 비정질 산화물 반도체 채널층과 다른 일함수를 갖는 물질로 형성한 복수의 트랜지스터로써 논리소자를 개시한다. 특히 본 발명에 따르면, 상기 패시베이션층을 비정질 산화물 반도체 채널층의 일함수보다 더 크거나 아니면 더 작은 일함수를 갖는 물질로 구성하고, 이에 기반하여 상기 복수의 트랜지스터의 패시베이션층과 비정질 산화물 반도체 채널층 상면 간의 접촉면적의 서로 상대적인 차이를 조절함으로써 전자가 상기 패시베이션층과 비정질 산화물 반도체 채널층 간에 이동하는 수준을 조절할 수 있고, 이에 따라 상기 복수의 트랜지스터는 상대적 공핍형 트랜지스터와 상대적 증가형 트랜지스터 중의 하나로서 작동하도록 설계될 수 있다. 따라서, 종래에는 채널층 물질로서 산화물을 적용할 경우 증가형 트랜지스터 또는 p형 채널층을 구현하기 어려워 상보성 논리소자를 제조하기가 어려웠으나, 본 발명에서는 위와 같이 채널층에 산화물을 적용한 상대적 공핍형 트랜지스터 및 상대적 증가형 트랜지스터를 적용하여 상보성 논리소자를 간단하고 유리하게 구현 및 제조할 수 있다.
    • 8. 发明专利
    • 絶縁ゲート型デバイスの駆動回路
    • 用于绝缘门型设备的驱动电路
    • JP2015177579A
    • 2015-10-05
    • JP2014050129
    • 2014-03-13
    • 富士電機株式会社
    • 岩水 守生山科 普士
    • H01L27/04H01L29/78H02M1/08
    • H03K17/04123H01L27/0629H01L27/0883H03K17/687H01L21/823487
    • 【課題】デバイスの誤オンの防止と高速ターンオフとを実現するゲート電圧制御用半導体素子のプルアップ動作を良好に行うことができ、全体を同一の半導体基板に集積するのに好適な絶縁ゲート型デバイスの駆動回路を提供する。 【解決手段】外部から入力されるゲート信号に基づいて絶縁ゲート半導体素子を駆動する絶縁ゲート型デバイスの駆動回路であって、前記絶縁ゲート半導体素子8のゲート・ソース間に接続されたゲート電圧制御用半導体素子14と、前記ゲート電圧制御用半導体素子のゲート・ドレイン間に接続されたデプレッション型のMOSFETで構成されるプルアップ素子25と、を備えている。前記ゲート電圧制御用半導体素子14は、前記絶縁ゲート半導体素子のゲートに印加される電圧によって駆動され、前記プルアップ素子25を構成するMOSFETのバックゲートを接地して寄生トランジスタの形成を防止している。 【選択図】 図1
    • 要解决的问题:提供一种用于能够成功地执行用于栅极电压控制的半导体元件的上拉操作的绝缘栅型器件的驱动电路,其实现了器件的不正确的接通和高速关断,并且适合 用于将整体集成到相同的半导体衬底中。解决方案:用于根据从外部输入的栅极信号驱动绝缘栅半导体元件8的绝缘栅型器件的驱动电路包括用于连接栅极电压控制的半导体元件14 在绝缘栅极半导体元件8的栅极和源极之间,以及由连接在半导体元件14的栅极和漏极之间的用于栅极电压控制的耗尽型MOSFET构成的上拉元件25。 用于栅极电压控制的半导体元件14由施加到绝缘栅极半导体元件的栅极的电压驱动。 通过使构成上拉元件25的MOSFET的背栅接地来防止寄生晶体管的形成。