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1. 发明专利

JPWO2013180187A1 波面計測方法及び装置、並びに露光方法及び装置有权
标题翻译：波阵面测量方法及装置，以及曝光方法及装置
公开(公告)号：JPWO2013180187A1
公开(公告)日：2016-01-21
申请号：JP2014518708
申请日：2013-05-29
申请人：株式会社ニコン
发明人：桂大滝 , 桂大滝 , 杉崎　克己 , 克己杉崎 , 隆志玄間 , 隆志玄間
IPC分类号： G01M11/02 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G01J9/0215 , G01J2009/0238 , G01M11/0264 , G02B27/50 , G03F7/706
摘要：投影光学系の波面情報を求める波面計測方法であって、計測用レチクルのピンホールアレーから射出された光束を投影光学系に照射することと、投影光学系を通過した光束をX方向及びY方向に周期性を持ちX方向及びY方向の透過率分布が正弦波状の分布を有する回折格子に入射させることと、回折格子から発生する複数の光束による干渉縞に基づいて投影光学系POの波面情報を求めることと、を含む。回折格子を用いて得られる干渉縞に基づいて、被検光学系の波面情報を高精度に計測できる。
摘要翻译：波前的测量方法，用于确定在投影光学系统的波前信息，所述方法包括照射从测量分划板的针孔阵列的投影光学系统中，X方向和Y方向上已经通过投影光学系统的光束射出的光束通过生成的多个光束，并X和Y方向的透射率分布基于所述干涉条纹投影光学系统PO的波前信息具有周期性，以入射到衍射光栅具有正弦分布，从衍射光栅所述包括与确定的。基于通过使用衍射光栅得到的干涉条纹，它可以测量的光学系统的波前信息，以高精度地测量。

2. 发明专利

JPS5175459A Zososahoho 失效
公开(公告)号：JPS5175459A
公开(公告)日：1976-06-30
申请号：JP13864675
申请日：1975-11-18
申请人： Xerox Corp
发明人： DOORIAN KAAMITSUSHU
IPC分类号： G02B26/10 , G02B27/42 , G02B27/50 , G03G16/00 , H04N5/82 , H04N9/04
CPC分类号： H04N5/82 , G02B27/50 , G03G16/00 , H04N9/04

3. 发明专利

JP2018105875A 軸外し反射位相顕微鏡システムおよび軸外し位相顕微鏡のための方法审中-公开
公开(公告)号：JP2018105875A
公开(公告)日：2018-07-05
申请号：JP2018018640
申请日：2018-02-05
申请人：マサチューセッツインスティテュートオブテクノロジー , 浜松ホトニクス株式会社
发明人：ヤコーブ、ザヒド , チョイ、ウォンシク , フェルド、マイケル、エス. , 山内豊彦
IPC分类号： G01B9/02 , G01N21/17 , G01J9/02 , G02B21/06 , G01B11/24
CPC分类号： G01B9/04 , G01B9/02032 , G01B9/02047 , G01B9/02064 , G01B9/0207 , G01B9/02084 , G01B9/02091 , G01N21/45 , G02B27/1086 , G02B27/50 , G03H1/0443 , G03H2001/005 , G03H2001/0456 , G03H2001/0467 , G03H2222/24
摘要：【課題】高速フレームレートにて表面形状を計測する全視野反射位相顕微鏡を提供する。【解決手段】コヒーレンスの低い干渉計と、軸外しデジタルホログラフィー顕微鏡法(DHM)とを組み合わせることができる。反射を利用するDHMは、細胞のダイナミックスを、感度高く、シングルショットで撮像することができ、且つ、コヒーレンスの低い光源により、深さに感度のある計測を行うことができる。参照アームに回折格子を利用して、コヒーレンスが低い光源にも関わらず、全視野に均一なコントラストの干渉画像を生成することができる。パス長に対する感度を向上させることができるので、生体細胞の膜のダイナミックスを、サブナノメートルの感度を有しつつ全視野で計測する用途に適している。【選択図】図1A

4. 发明专利

JP5139832B2 Observation device 有权
标题翻译：空值
公开(公告)号：JP5139832B2
公开(公告)日：2013-02-06
申请号：JP2008033572
申请日：2008-02-14
申请人：浜松ホトニクス株式会社
发明人：洪欣黄 , 卓井上
IPC分类号： G02B21/18 , A61B3/10 , A61B3/12 , G02B21/06 , G02B26/10
CPC分类号： A61B3/1025 , A61B3/1015 , G01J9/00 , G02B17/0836 , G02B21/06 , G02B21/14 , G02B27/50

5. 发明专利

JP2009192832A Observation apparatus 有权
标题翻译：观察装置
公开(公告)号：JP2009192832A
公开(公告)日：2009-08-27
申请号：JP2008033572
申请日：2008-02-14
申请人： Hamamatsu Photonics Kk , 浜松ホトニクス株式会社
发明人： KO KOKIN , INOUE TAKU
IPC分类号： G02B21/18 , A61B3/10 , A61B3/12 , G02B21/06 , G02B26/10
CPC分类号： A61B3/1025 , A61B3/1015 , G01J9/00 , G02B17/0836 , G02B21/06 , G02B21/14 , G02B27/50
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an observation apparatus capable of observing or measuring an object in a wide range by employing a wavefront aberration adapting technique. SOLUTION: The observation apparatus 1 includes a light source 10, a biaxial scanning system 20, a wavefront modulator 30, an optical branching part 40, an optical detector 50, a wavefront detector 60, a controller 70, etc. The wavefront modulator 30 presents a compensation phase pattern for compensating aberration of input light and also a branching phase pattern for branching the input light to a first and a second light. The wavefront detector 60 receives the input light to detect the wavefront of the light. In a loop processing including detection of wavefront distortion of light by the wavefront detector 60, phase pattern adjustment by the controller 70 based on this detection result, and the presentation of the phase pattern by the wavefront modulator 30, the compensation phase pattern for compensating wavefront aberration is feedback-controlled. COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够通过使用波前像差适应技术在宽范围内观察或测量物体的观察装置。解决方案：观察装置1包括光源10，双轴扫描系统20，波前调制器30，光分支部40，光检测器50，波前检测器60，控制器70等。波前调制器30呈现用于补偿输入光的像差的补偿相位图案，以及用于将输入光分支到第一和第二光的分支相位图案。波前检测器60接收输入光以检测光的波前。在包括通过波前检测器60检测光的波前失真的检测的循环处理中，基于该检测结果由控制器70进行的相位图案调整以及波前调制器30的相位图案的呈现，用于补偿波前的补偿相位图像差是反馈控制的。版权所有（C）2009，JPO＆INPIT

6. 发明专利

JP6191921B2 波面計測方法及び装置、並びに露光方法及び装置有权
公开(公告)号：JP6191921B2
公开(公告)日：2017-09-06
申请号：JP2014518708
申请日：2013-05-29
申请人：株式会社ニコン
发明人：大滝桂 , 杉崎克己 , 玄間隆志
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , G02B21/02 , G01M11/02
CPC分类号： G01J9/0215 , G01M11/0264 , G02B27/50 , G03F7/706 , G01J2009/0238

7. 发明专利

JP2014508922A Full-field reflection phase microscopy of single-shot 有权
公开(公告)号：JP2014508922A
公开(公告)日：2014-04-10
申请号：JP2013551311
申请日：2012-01-25
申请人：マサチューセッツインスティテュートオブテクノロジー , 浜松ホトニクス株式会社
发明人：ヤコーブ、ザヒド , チョイ、ウォンシク , フェルド、マイケル、エス． , 豊彦山内
IPC分类号： G01B9/02 , G01J9/02
CPC分类号： G01B9/04 , G01B9/02032 , G01B9/02047 , G01B9/02064 , G01B9/0207 , G01B9/02084 , G01B9/02091 , G01N21/45 , G02B27/1086 , G02B27/50 , G03H1/0443 , G03H2001/005 , G03H2001/0456 , G03H2222/24
摘要：本発明は、全視野反射位相顕微鏡に係る。好適な実施形態では、発明は、コヒーレンスの低い干渉計と、軸外しデジタルホログラフィー顕微鏡法（ＤＨＭ）とを組み合わせることができる。反射を利用するＤＨＭは、細胞のダイナミックスを、感度高く、シングルショットで撮像することができ、且つ、コヒーレンスの低い光源により、深さに感度のある計測を行うことができる。システムの好適な実施形態の１つでは、参照アームに回折格子を利用して、コヒーレンスが低い光源にも関わらず、全視野に均一なコントラストの干渉画像を生成することができる。パス長に対する感度を向上させることができる本発明は、生体細胞の膜のダイナミックスを、サブナノメートルの感度を有しつつ全視野で計測する用途に適している。
【選択図】図１Ａ

8. 发明专利

JP2009510535A Scanner device equipped with F-theta objective lens and f-theta objective lens 有权
公开(公告)号：JP2009510535A
公开(公告)日：2009-03-12
申请号：JP2008533935
申请日：2006-10-05
申请人：トルンプフレーザーゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツングウントコンパニーコマンディートゲゼルシャフトTRUMPF Laser GmbH + Co. KG
发明人：フォスアンドレアス , フオンカーマーティン , ブリュストレライナー
IPC分类号： G02B26/10 , G02B13/00 , G02B13/18
CPC分类号： G02B27/50 , G02B13/0005 , G02B26/101 , G02B26/105
摘要：高出力のレーザー光を平坦な画像野にフォーカシングするためのＦシータ対物レンズ（１）において、光路に前後して少なくとも２つ、有利にはちょうど２つのレンズ（２，３）が配置されており、該レンズは１ｋＷより大きいレーザー光の出力に対して耐性を有し、少なくとも１つのレンズ（３）は１つまたは２つの非球面状のレンズ面（８）を有する。

9. 发明专利

JP2017215521A 位相物体可視化装置、位相物体可視化方法审中-公开
公开(公告)号：JP2017215521A
公开(公告)日：2017-12-07
申请号：JP2016110169
申请日：2016-06-01
申请人：オリンパス株式会社
发明人：石渡裕
IPC分类号： G02B21/06 , G02B21/00
CPC分类号： G02B21/367 , G02B21/0088 , G02B21/14 , G02B21/361 , G02B27/50 , G02B27/52
摘要：【課題】偏斜照明を用いずとも、明瞭に位相物体を可視化することができる技術を提供する。【解決手段】位相物体可視化装置は、位相物体を照明する照明光学系11と、位相物体である標本Sからの光を結像する結像光学系12と、標本Sと結像光学系12によって結像される像面との間に配置された、光を遮断する遮光手段10であって、結像光学系12の光軸から偏心した位置に開口部を有する遮光手段10と、を備え、開口部は、照明光学系11により照明された標本Sからの0次光が開口部を通過し、開口部における0次光が通過する領域の面積が、開口部の面積よりも小さくなるような位置に設けられることを特徴とする。【選択図】図1

10. 发明专利

JP4815345B2 Phase diversity wavefront sensor 有权
公开(公告)号：JP4815345B2
公开(公告)日：2011-11-16
申请号：JP2006516459
申请日：2004-06-21
申请人：ヘリオット−ワット・ユニバーシティHeriot−Watt University
发明人：アラン・ハワード・グリーナウェイ , チャン・シチオン , ヘザー・アイラ・キャンベル
IPC分类号： G01J9/00 , G02B27/42 , G02B27/50
CPC分类号： G02B27/4233 , G01J9/00 , G02B27/1086 , G02B27/42 , G02B27/50

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