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    • 2. 发明专利
    • 0次低減のための光学設計
    • 用于零级减少的光学设计
    • JP2014209237A
    • 2014-11-06
    • JP2014086823
    • 2014-04-18
    • プライムセンス リミテッドPrimesense Ltdプライムセンス リミテッド
    • ALEXANDER SHPUNT
    • G02B5/18
    • G03B35/00G02B27/0944G02B27/4233G02B27/425G02B27/4266G02B27/4272G02B27/4277
    • 【課題】光学3次元(3D)マッピング等に使用する高コントラスト、高い投影効率、および、パターンを構成する光束間の強度分布の高い均一性が得られるDOEの設計手法を提供する。【解決手段】1つのパターンを投影する装置10であって、1つの0次光線32を有する第1の回折パターン23を1つの表面24の第1の区域22に生成するために1つの入射光20を回折するように構成された第1の回折光学素子(DOE)12(を有する。第2の回折光学素子(DOE)14は第2の回折パターン29を上記表面の第2の区域27に形成するために上記0次光線を回折するように構成される。ここにおいて第1の区域と第2の区域24は共同して上記表面を少なくとも部分的に覆う。【選択図】図1A
    • 要解决的问题:提供一种设计DOE的方法,其提供构成所使用的图案的子束之间的高对比度,高投影效率和强度分布的高均匀性,例如在光学三维(3D)映射中。解决方案:装置10 为了投影图案,包括被配置为衍射输入光束20的第一衍射光学元件(DOE)12,以便在表面24的第一区域22上产生第一衍射图案23,第一衍射图案包括零级光束32 第二衍射光学元件(DOE)14被配置为衍射零级光束,以便在表面的第二区域27上产生第二衍射图案29,其中第一和第二区域27一起至少部分地覆盖表面 。